AOV株式会社 パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。

PVD法による装置は、
* PLD(パルスレーザ蒸着)装置
* マグネトロンスパッタ装置
* EB電子ビーム蒸着装置
* イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法
に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。

高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。

製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。

基本情報パルスレーザパルス蒸着システム

PLD(Pulsed Laser Deposition)法はPVD(物理気相蒸着)法として他の手法では行えない材料、条件化で使用できる特長を持っています。

価格情報 -
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 大面積PLD装置
用途/実績例 高温超伝導・強誘電体・半導体・FPD等様々な分野に薄膜作製技術は応用されています。

カタログパルスレーザパルス蒸着システム

取扱企業パルスレーザパルス蒸着システム

AOV株式会社

真空機器を主とする精密機械、また光学機器、レーザ機器のコンサルティング、開発、製造、修理、販売 先端的な光学技術と真空技術を融合し、新しい薄膜作成システムや分析システムの構築を通して、先端技術、社会の新しいニーズに見合う技術の提供します。

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