PLAD-221-Y PLDシステム
AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。
PVD法による装置は、
* PLD(パルスレーザ蒸着)装置
* マグネトロンスパッタ装置
* EB電子ビーム蒸着装置
* イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法
に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。
高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。
製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。
基本情報PLAD-221-Y PLDシステム
PLAD-221-Y PLDシステムはNd:YAGレーザを用いたPLDです。
独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。
ターゲットは20mm径を4個有し、自転および公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。
価格情報 | - |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | PLAD-221-Y |
用途/実績例 | 各種民間企業、官公庁 |
取扱企業PLAD-221-Y PLDシステム
PLAD-221-Y PLDシステムへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。