卓上型ＵＶ照射装置　MUV メープル

試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず
高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

【特徴】
○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い
　表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能
○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため
　厚みのある基板（試料)を処理することが可能
○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより
　高いクリーニング効果を得られる
○基板（試料）セット後の処理は自動運転が可能です
○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ
　ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適
○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理
　的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる
○有機汚染物質はガス化して排気される為
　有機汚染物質の再付着が起こらない

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

基本情報卓上型ＵＶ照射装置　MUV

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型番・ブランド名	MUV1000 （オゾンレス型）/MUV2000（オゾン型）
用途／実績例	詳細は、お問い合わせ下さい。