- 製品・サービス
414件 - メーカー・取り扱い企業
企業
22件 - カタログ
168件
-
-
-
PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…
『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活か...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
-
-
-
-
実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…
『VS-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活か...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
-
-
-
-
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…
今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。 直進性の高い成...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
【レポート】スパッタリングターゲット・スパッタ膜装置の世界市場
Sputtering Targets and Sputtered Fi…
世界のスパッタリングターゲット・スパッタ膜装置の市場規模は、2020年は6億9、040万米ドルで、予測期間中に5.2%のCAGRで拡大すると予測されます。 当レポートでは、世界のスパッタリングターゲット・スパッタ膜装置市場を調査しており、市場の概要、市場規模や予測、成長要因および抑制要因、膜タイプ・材料タイプ・用途・地域別の分析、さらにベンダー分析などを提供しています。 ...出版日: 2022...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローバルインフォメーション
-
-
-
-
コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
-
-
-
-
DC真空スパッタ装置の世界市場：シングルルーム、ダブルルーム、マルチル…
本調査レポート（Global DC Vaccum Sputter Equipment Market）は、DC真空スパッタ装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のDC真空スパッタ装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マーケットリサーチセンター
-
-
-
-
真空スパッタ装置の世界市場：DCスパッタリング、RFスパッタリング、そ…
本調査レポート（Global Vaccum Sputter Equipment Market）は、真空スパッタ装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の真空スパッタ装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マーケットリサーチセンター
-
-
-
-
戦略的基盤技術高度化支援事業車載センサー向けのコーティング膜製造用装置
『高性能コーティング膜製造用スパッタ装置』は、次世代自動車に搭載 されている車載カメラやセンサーに用いられる反射防止膜を製膜する 装置で、戦略的基盤技術高度化支援事業車載センサーに最適です。 従来のスパッタ法に最新技術を取り...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社広島
-
-
-
-
実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置
☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT ＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞ 1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2．カソードサイズは2〜6インチに対応 3．2インチカソードタイプは3源式にも対...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
-
-
-
-
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
多目的、実験用全自動成膜装置。マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ型…
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔは多目的､多金属､実験用イオンスパッタ成膜装置です。電極分離型試料台で試料損傷回避、高速排気・簡易操作で能率的成膜、低価格・コストパフォーマンスの良い機能を持っています。 ＭＳＰ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス
-
-
-
-
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…
高密度プラズマスパッタカソードを最大4元装備。量産対応の大型バッチタイプスパッタ装置。 立体形状基板の全面コーティングに対応した基板自公転機構を備え、小型機械部品の生産に最適。 実績豊富な各部機構と制御ソフトに加えデータロギングソフト等優れたインターフェースによって優れた操...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…
薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Ｌｉの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能（有償） 材料（ターゲット）ソ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
フルオートで大気に曝されることなく成膜完了！ 〜サンプル測定実施中！…
従来のスパッタ装置では困難であった“1バッジ内での複数材料の成膜”をワークマスク採用で可能にし、フルオートモードで試料が大気に曝されることなく成膜完了します。 ○省スペースで作業スペースにメリット ○成膜の再...
メーカー・取り扱い企業： 九州計測器株式会社
-
-
-
-
ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティ…
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性ＡｌＮを５００℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置 ...立体毛状基板（機械部品・治工具・金型）対応の従来型硬質膜...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能
高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！
用可能なターゲット: お手持ちのターゲットを再利用可能で、コスト減 ■安定した成膜とコストダウンの両立: エロージョンによるスパッタ状態の変化が少なく、ターゲット交換のコストを低減 ■既存各社のスパッタ装置での使用可能: 他社の装置にも適応可能 ■高真空対応: 幅広い用途に対応する高真空環境で使用可能 ■φ1インチからφ12インチ迄の対応: ターゲットサイズの柔軟な選択可能 ■豊富なオプション機構...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング
「ユニフォームプラズマスパッタ装置」はいわゆる対向ターゲットスパッタ方式を採用しています。従来の対向ターゲットスパッタ方式はミラー磁場をそのまま利用したものですが、ミラー磁場の特性を生かしつつスパッタリングすることを目的として改...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ
-
-
-
-
溶接時のスパッタが表面に付着するのを防ぎ、溶接時の手間を軽減！
『E-WELD2』は、Bio-Circle社の天然成分を基にした溶接時のスパッタ保護スプレーです。 水を主成分に、ヘーゼルナッツ、ひまわりの成分を配合し、溶接時のスパッタが 表面に付着するのを防ぎ、溶接時の手間を軽減します。 また、 一時的な腐食防止機能を備え、湿った状態を保ち状態で効果的で、 優れた洗浄効果があります。 その他、濃度の管理がないため、すぐに使用できるスパッタ...
メーカー・取り扱い企業： TSK株式会社
-
-
-
-
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）
サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…
ＦＰＣに代表されるフレキシブル電子デバイスの量産に実績対応。社内デモ機によるプロセスサポートにより各種の個別要求に確実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置とし...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…
『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能（ECR、ICP、他）です。 【特長】 ■三種のターゲットを同時に成膜可能 ■多元同時スパ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング
-
-
-
-
サンユー電子 真空応用機器／電子顕微鏡関連機器製品総合カタログ
スパッタ装置、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器のサンユー電子
1976年の創業以来一貫して、“使いやすい、簡単、便利”にこだわったものづくりを通じ、多くの方々に、スパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器をお使いいただいております。 SEM用前処理用としてのスパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、各種デバイスの電極付け用...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
-
-
-
-
電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置です。
マグネトロンスパッタ装置 ＭＳＰ－２０－ＴＫは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のタングステンコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧く...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス
-
-
-
-
ターゲットは大きい試料もそのままコーティング可能な４インチサイズ。
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。４インチサイズのターゲット仕様。大きな試料・多数の試料を処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス
-
-
-
-
蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化。
マルチ成膜装置VEＳ－１０は親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置です。シャーペンの替え芯を蒸着。マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。イオンスパッタと親水処理の操作は全自動。排気開始からコーティング終了まで自動で行なえます。機能切替はボタン一つで楽々。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○シャーペンの替え芯を蒸着。マグネト...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス
-
-
-
-
逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…
『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社
-
-
-
-
酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…
当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 ...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
-
-
-
-
小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみ...
メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社
-
-
-
-
『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…
スパッタ装置用カソード市場は、2021年に10億2982万米ドルとなり、2022年から2027年までの間に約5.82%のCAGRで推移する見通しで、2027年には14億4258万米ドルに達すると予測されます。 急成長する半導体産業における部品のコーティングにスパッタリングの用途が広がっていることが、予測期間中にこの種の装置の需要を促進する主要因の1つになると予想されます。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローバルインフォメーション
-
-
-
-
高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも！
スパッタや熱を持った飛散物がある環境で、弊社の高機能織物を、間仕切りシートの代わりなどにご使用いただけます。 こんなことでお困りではないでしょうか。。 火花やスパッタが思いのほか飛んでいて、周りにあるケーブルが溶けてダメになってしまう、周りの機械が劣化してしまう・・・。 短時間だが、炎があたる為に、何か簡単なもので保護したい・・・。 装置に火花があたるが、フレキシブルに...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社テイアイテイ 柏営業所
-
-
-
-
-
誰でも使える簡単操作の卓上型コーティング装置
卓上型コーティング装置「Q plusシリーズ」は、設定した条件をタッチパネルから選択するだけの操作で誰でも簡単にさまざまな試料にコーティングが可能です。 レシピの作成も簡単なフルオートのスパッターコーターは、チャンバーサイズが150mmと300mmの２サイズあり、その高さも標準の127mmとロングの214mmがあり、大きなサンプルへのコーティングができます。...タッチパネル操作のフルオート多...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス
-
-
-
-
搬送装置のリニアガイドへの給脂作業に苦労されていませんか？稼働時近づけ…
パルサールブ「Ｍ」型自動給油装置は従来のガス式自動給油機と違いモーター駆動ポンプを採用した高い信頼性・吐出圧力を持つ画期的なグリス自動給油装置です。その高い吐出圧力で高粘度のリニアガイド専用グリスを配管を通して遠隔給油でき、４カ所のリニアガイド給油ポイントを持つ搬送装置でも分配弁でマルチ給油することで１台の給油装置で自動給油ができるようになりました。電源不要でコードレスなのでリニアガイドのように給...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社シー・エス・シー 本社、大阪支店、福岡出張所
-
-
-
-
-
初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…
『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ
-
-
-
-
低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能な装置についてご紹介…
『PGSモデル』は、圧力勾配現象を採用した画期的なスパッタ装置です。 高真空域でのスパッタ成膜が可能。 また、低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能です。 九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果の製品と なっております...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
-
-
-
-
粒子法プラズマ解析ソフトウェアParticle-PLUSの活用により、…
VD、容量結合プラズマ ( CCP )、誘電体バリア放電 ( DBD ) などに活用可能です。 各種モジュール（下段の製品説明参照）のうち、スパッタ粒子モジュールを活用することで、マグネトロンスパッタ装置などにおいて、ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を求めることができ、対向基板上へのフラックス分布などが短時間で評価可能です。解析手順としては、プラズマモジュールで求...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社
-
-
-
-
半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置
L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン
-
-
-
-
放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計
『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した 研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。 据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。 成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカソードに 加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ
-
-
-
-
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！
当社では、独FHR社の『Star.500-EOSS(R)』を取り扱っております。 『Star.500-EOSS(R)』は、光学フィルター成膜用として設計された マグネトロンスパッタシステムです。 成膜用のパーティクルを最小限にするためスパッタアップの方式を採用。 200mm径までのフラット並びに曲面の基板まで対応しており、 基板加熱機構も組み込みできます。 【特長とメリット...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
