中量機用二流体ノズル 　※2024年3月導入済！

PR300種類超の製造実績！1987(昭和62)年運転開始以来コンタミクレ…

ラボ機での反響を踏まえ、平均粒子径5～20μmの微粒子造粒粉をつくる 中量機用二流体ノズルを2024年3月に導入致しました。 2022年12月に、微粒子生産試験用として二流体ノズル噴霧機構を 導入してから約一年、お客様からのフィードバックが良好であること、 またその結果を踏まえスケールアップをご希望の声があることなどをかんがみ、 中量機(大川原・OC-16型)向けにも二流体ノズル噴霧...

メーカー・取り扱い企業： 日華化成有限会社

Micro Point Pro（マイクロポイントプロ）株式会社

PRウェッジボンディングツールをはじめ、世界で9000台以上の実績を持つ卓…

Micro Point Pro（マイクロポイントプロ）株式会社は、設立から40年の経験と専門知識を保有し、 半導体およびマイクロ電子デバイスアセンブリ業界向けの商材を幅広く取り扱っています。 イスラエルに拠点を構え、150名の従業員とグループ企業600名の従業員がサポート。 MPPでは原材料から完成品まで全ての製造プロセスがあり、多くのグローバル企業との実績も多数ございます。 【取扱製品】 ■...

メーカー・取り扱い企業： Micro Point Pro ltd株式会社 本社

研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』

昇温した有機薬液による化学反応と高圧ジェットの物理的アシスト利用した剥…

通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発向けメタルリフトオフ処理装置。 コンパクトなTWPmから、搬送ユニットを省いてさらに小型化とコストメリットを追求したモデル。 レジスト剥離・リフトオフ、...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1400×1100×...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：1組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1300×1450...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off

短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処…

研究開発用途で活躍するマニュアルリフトオフ装置をご紹介します！ アセトンや専用剥離液で一晩浸漬した後に超音波やスプレーでリフトオフをするような長時間工程を短くできます。 当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高剥離力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 さらに、弊社独自の温調膨潤と高圧ジェットの組み合わせで処理時間を24時間→3minに減らした...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンベア式エッチング装置

お客様のご要望に沿ったカスタマイズ仕様。実験機から生産機まで対応可能で…

タッチパネルなどに用いられる枚葉基盤を処理する装置です。 【特長】 ■対応ワーク　100mm角～1000mm角まで対応可能。（他のサイズ、形状は別途相談） ■揺動機構（水平揺動・スプレーノズル首振り）を付けることにより、処理効率を向上させます。 ■カセットtoカセット対応も可能。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

高精度スプレーコーター API-300OGS

カバーガラス一体型タッチパネル（OGS）用レジストコーター

主要仕様 塗布サイズ：550 X 650 (mm) 塗布スピード：最大 60m/min ( 1,000mm/sec) 流量範囲：1cc - 20cc/min程度 ノズル：当社独自のLPVNノズル（外部混合型２流体ノズル） 基板固定：リフトアップピンによるロボットとの受け渡し/真空吸着 霧化圧：最大800kPa (元圧が800kPa以上必要となります） その...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピロス 本社

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■装置サイズ：（例）1200×800×1800(Φ4"本体・薬液供給一体) その他オプション多数！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動リフトオフ装置（セミオートリフトオフ機）Lift-off

自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…

ウェハ（基板）をセットするだけで自動で搬送・リフトオフ・リンスを行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット（キャリア）でセットをすることはできませんが、マニュアルと違いウェハ1枚1枚を自動搬送するので、偏心や位置ズレの心配があ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

スプレー/パドル兼用 小型スピン現像装置（デベロッパー)

高品質・低価格・省スペースを追求 スイングスプレー式、パドル方式の両…

6インチウエハ対応の小型スピン現像装置。スイング式ノズルによるスプレー現像の他、パドル現像も行なえます。 プログラム入力により現像→リンス→振り切りの一連動作を連続して行なうセミオート方式デベロッパーです。...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

試作開発 枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』

昇温した有機薬液による化学反応と、高圧ジェットの 物理的アシスト利用…

通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発や、少量生産向けレジスト剥離・メタルリフトオフ処理装置。 手狭なスペースでも設置可能なコンパクト設計（従来機から約40％コンパクト化） レジスト剥離・リ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインア...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

ップ方式と違い、1枚1枚現像を行うので、プロセスの再現性が非常に高いです。 薬液使用量を最適化することにより、現像液使用量の削減に繋がります。 液盛り方法もシャワータイプからストレートノズルなどご要望にお応えできます。 静止現像中の揺動機能も搭載！ （低回転と停止を繰り返して液を動かします） 枚葉式で現像、、リンス、ベーク、クーリング機能を搭載。 お客様のニーズと...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動リフトオフ装置（メタル・レジスト剥離）Lift-off

高圧ジェットで驚きの剝離能力！当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処…

物理力と化学力のW（ダブル）効果リフトオフ！ W効果リフトオフとは？ ・当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェット（MAX20MPa）により、物理力による剥離 ・溶剤にNMPやDMSOなどの有機溶剤を使用し、化学的な力で剥離 また、枚葉による高速処理・高剥離力・高安定性を実現し、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■UV露光ユニット（LED光源もお選びい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ウエハー洗浄装置（スピン式）※テスト可能機種あり

生産規模に応じて複数チャンバーに対応。ウエハーの均一なエッチングを実現…

自動酸・アルカリ洗浄装置。 対応ワークサイズ　φ2～12インチ。角型基板などの特殊サイズもご相談ください。 2流体混合ノズルにより直接2種類の原液を使用した洗浄処理を実現。混合比率を調整することにより反応熱で狙いの温度に昇温することが可能。 【その他特長】 ■ブラシ洗浄機能付き装置の製作が可能。 ■フォトマス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

マニュアルスピンコーター

シンプルデザインのマニュアルスピンコーター

インチ カップ径…Φ300mm 回転範囲…100-5000rpm 回転精度…±1rpm スピンドルモータ…AC サーボモーター 回転表示…デジタル 回転数設定…液晶タッチパネル 薬液ノズル…2系統（エアーシリンダー駆動式） レシピ設定…10プログラム ×50 パターン オプション…試料台、真空ポンプ、加圧タンク ユーティリティー…電源、真空、ドライエアー ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トービ

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ