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56件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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【換装なしでESIとMALDIが使用可能】従来の分析に加えイメージング…
Spectroglyph社製MALDI/ESIインジェクターはサーモフィッシャーサイエンティフィック社製質量分析計に取り付けることにより、従来の分析に加え、イメージング質量分析を行うことのできる画期的なイオンソースです。 【特長】 ◆換装なしでESIとMALDIが使用可能 MALDIソースと直交するようにESIのイオンソースが接続されており、装置内のパラメーターの変更のみでESI/MAL...
メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社
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電子ビームソースに関するグローバル市場分析、市場規模、販売量、売上高、…
2023年7月21日に、QYResearchは「グローバル電子ビームソースに関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。電子ビームソースの市場生産能力、生産量、販売量、売上高...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…
当社のイオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』を ご紹介いたします。 大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 高いスループットを実現。 特にMarathon(TM)グリッドは、従来の方式に比べ、長期に渡り 良好な均一性を得ることが出来ます。 【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度：-40℃～+60℃ ■傾斜角：+90度～-8...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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【市場調査レポート】ビーム拡張型光ファイバーコネクタの世界市場
『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…
世界のビーム拡張型光ファイバーコネクタの市場規模は、2022年に5億6,410万米ドル、2029年には12億6,830万米ドルに達すると予測され、予測期間中 (2023年～2029年) に12.44%のCAGRで成長する見通しです。 北米のビーム拡張型光ファイバーコネクタの市場規模は、2023年の1億7,570万米ドルから2029年には3億6,950万米ドルに達し、予測期間中 (2023年～20...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローバルインフォメーション
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Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…
イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。 【特徴】 （１）難エッチング材料を微細加工可能 （２）金属多層膜をワンステッププロセスで加工可能 （３）自公転ステージにより、複数ウエハを均一に同時処理可能 ...
メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社
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電荷を持たない中性ビームを生成。 英国オックスフォードアルライドリ…
ビームを中性化することで、これまで電荷粒子が問題になっていた誘電体や半導体への照射やエッチングプロセスにも最適です。 ≪用途≫ ■成膜前の基盤クリーニング ■常温接合前のサンプルクリーニング、表面の活性化 ■半導体基板等のエッチング ■微細加工 ■リアクティブアトムビームエッチング ≪特長≫ ■電荷を持ったイオンによる衝撃と異なり、絶縁物や半導体試料にもチャージダメー...
メーカー・取り扱い企業： 三和真空株式会社
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電子ビームソースの世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別…
グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の電子ビームソースの供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における電子ビームソースの販売量と販売収益を調査しています。同時に、電子ビームソースの世界...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…
「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオ...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…
小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング（IBE）装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 ８０℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテク...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置
AVP Technology社製イオンビームエッチング装置はICPイオンソースを搭載した高均一・高エッチングレート、かつ稼働再現性・安定性に優れた製造装置です。 他社IBE装置に較べ卓越した制御システムにより、製造設備に必須である安定稼働を実現しています。 最新の駆動機構によりレイテンシー時間を最小限に押さえて生産性を改善しています。 ...特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』
最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜…
『scia Mill 150/200』は、マイクロウエーブECRソース(218mm径)の イオンビームミリング装置です。 プロセスは、イオンビームエッチング/ミリング(IBE/IBM)、 反応性イオンビームエッチング(RIBE)、ケミカルアシストイオンビーム エッチング(CAIBE)となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大150又...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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イオンソースを搭載した実験用装置 精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能
OSIの「イオンビームスパッタリング装置」は、お客坂の使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置です。Veeco社の SPECTOR 相等の能力を発揮します。 RFイオンソースをスパッタ用およびスパッタ用／アシスト用として使用し、OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に適しています。 【特長】 ■イオンソースを搭載した実験用装置 ■Vee...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。
広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10％以下（1300、1550...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源
多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。...
メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社
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イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します
TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着（IAD）技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可能にしました。...TELEMARK製イオンソースシリーズは、 1. 軽量コン...
メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社
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RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…
お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 【装置仕様概略】 ・ス...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』
最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…
『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。 プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、 イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオンビーム スパッタリング(DIBS)となっております。 ご用命の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mmウエハ基板又は300mm×500mm基...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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コンパクトな半導体レーザソースを製造環境に簡単に組み込むことが可能！
当社の『半導体レーザシステム』は、溶接、熱処理、ろう付け、はんだ付け、 金属のクラッディング（肉盛り）やプラスチックの溶接で、最大限の効率と 信頼性が得られます。 エネルギー効率の高い半導体レーザソースにより、消費電力が低減。 高出力の円形または長方形の出力ビームが広い範囲を素早く照射します。 ファイバー伝送/フリースペース伝送、空冷/水冷など、お客様のニーズに お応えします。...
メーカー・取り扱い企業： コヒレント・ジャパン株式会社 本社、大阪支店、厚木TEC
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高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…
HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを 組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を 行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシ...
メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社
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頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム
『LION』は前処理と表面改質に適したコンポーネントです。 アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能。イオンビームは 強く収束され、高エネルギー化しています。 物理的エッチングを必要とするインライン製膜システムに理想的なデバイスで、 シンプルで頑丈な設計のため、イオンソーズは容易にスケールアップ可能。 メインアプリケーションは、大面積ガラス製膜と金属箔製膜です。 ...
メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社
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プラズマ機能を付加する製品を設計開発し、革新的なプロセス技術を提案しま…
『プラズマアシストソース』は、半導体製造プロセス用、 プラズマ応用製品です。 プラズマ機能付加により、反応性を促進することが可能。 また、既存プロセス技術にプラズマ機能を付加する製品を 設計開発し、革新的なプロセス技術を提案します。 【製品特長】 ■プラズマクラッキングセル ・蒸気圧が高く、指向性が悪い材料のクラッキング蒸発源 ・昇華蒸発させた材料を活性化させ、オリフィ...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
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リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発…
PlasmaQuest社 ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパ...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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蒸着用電子銃など真空蒸着のことならお任せください。
VISTA株式会社は、TELEMARK製の電子銃や水晶膜厚モニターなど多彩なラインアップで取り揃えております。 TELEMARK社の電子銃は、超高真空対応型、高真空汎用型、シングルポケット、回転型、直線型、ルツボ容積4ccから1500ccまで、最大ビームパワー3kWから15kWまでと、豊富で幅広い製品群を用意しております。 また、蒸着装置の水分を効果的に取り除くことは、真空蒸着にとって必須の課...
メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社
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総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…
『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、 プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。 当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの 既存のシステムに設置する事も可能。 世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を ...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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カウフマン&ロビンソン社製の各種グリッドイオンソースの仕様を掲載してい…
オーエスアイ・インダストリーではカウフマン&ロビンソン社製の各種グリッドイオンソース取り扱っています。 各種グリッドイオンソースの仕様を細かく掲載していますので、この機会に是非ご覧ください。 【掲載内容】 ●放電/放電電流/放電電力 ●グリッド ●ビームタイプ ●ガス流量 ●ガス ●圧力 ●イオンガン高さ/イオンガン直径 ●ニュートライザー その他詳細は、カタログをダ...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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コンパクト設計・高精度・低価格・高安定・高再現性
インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」は、処理室と取出室を別にし、イオンソースもＨ／Ｌを各々搭載したことで、アイドルタイムの少ない効率的な動作が可能になりました。 ＳＦＥ‐Ｂ０３に搭載したＩＧＦ－２０１型 １００ｍｍビームのイオンソースを２基搭載しています。 イオンソース１台あたり最大２４個、計４８個同時処理が可能です。 ＳＦＥ－Ｂ０３で実績のある高精度・高安定・高再現性の搬送機...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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信頼性の高いパワフルなミッドIRソースを必要とするアプリケーションに！
Alpes Lasers SAは、世界で初めて分光学アプリケーションにユニポーラレーザーテクノロジィーを応用した会社として知られています。その後30年以上の間、更なるユニークなユニポーラレーザーの製造ノウハウを蓄積してきました。 Alpes Lasers SAは法人としてスイスヌーシャテルにに登録設立された、Unipolar Quantum Cascade Laserの専門メーカーです。 量子...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社キーストンインターナショナル
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「HDS600シリーズ」の基本モジュール6チャンネルと、DCソース電源…
静電レンズ、電子ビーム偏向用に最適な、バイポーラ高速高圧アンプ「HDS600シリーズ」の基本モジュールを組み合わせ、基本モジュール6チャンネルと、DCソース電源を専用ラックに装填した例です。 お客様のシステム仕様に合わせたカスタマイズ対応が可能で、ケース外形などをデスクトップ型に変更したり、DCソース電源を組み込んで一体型シャーシにすることも可能です。 【特徴】 ◆ システム化...
メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源
多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の有機蒸着源です。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度安定性と制御性を実現しています。 ルツボは熱伝導率の高い材質で作られていることから、蒸着レートに悪影響をおよぼすホットスポットが発生しません。アルミナ製やグラフ...
メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社
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強い互換性、長寿命、幅広く利用、超精密マーキングを実現できる
355nm冷光ソースを採用、ビームが小さく、幅広く利用され、多種材料の超精密マーキングを実現 ◆ 優れる性能、安定な品質、長期間の使用寿命； ◆集積式デザインを採用、ハードウエアと制御システム及び作業テーブルを一体型にして省スペース、操作も簡単 ◆ 独立研究開発のマーキング制御ソフトウエア、機能強く、フレンドリーなインタフェース、操作簡単で初心者にも簡易 ◆強いコンパチブル性： DXF、...
メーカー・取り扱い企業： 広東Han's yueming レーザグループ有限会社 東莞本社
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源
多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。 抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセスガスを使用しないことです...
メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社
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優れる安定性、優れるビーム品質、優れるダイナミック、リアルタイムにマシ…
電気、ベルト、レンズ、ガイド軸など高品位輸入品パーツ：機械性能安定性を確保 フレーム式機械構造：穏やかにランニングを確保 優れるレーザソース：レーザビーム品質がよい、出力パワーが安定 自主開発のアルミモーションシステム：軽量、高剛性、ダイナミック性が優れる 大きい視覚窓口デザイン：リアルタイムにマシン内部のランニング状況を監査 ...弊社のウエブサイトをご覧頂誠にありがとうございます。h...
メーカー・取り扱い企業： 広東Han's yueming レーザグループ有限会社 東莞本社
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反射防止膜、多層膜、ビームスプリッターに適した低屈折率材料
『フッ化マグネシウム MgF2』は、SOLISが取り扱う低屈折率材料です。 反射防止膜、多層膜、ビームスプリッターなどの用途に適しています。 【特長】 ■外形：顆粒状、タブレット状 ■純度：99.99％以上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【仕様】 ■分子式：MgF2 ■屈折率（at 550nm）：1.38 ■透過波長（nm）：2...
メーカー・取り扱い企業： 晶立株式会社
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大型加工機は工業レーザーとしても大活躍！様々な種類のプロジェクトに対応…
『LS900 シリーズ』は、生産効率の高さから工業レーザーとしての実績が 高い大型加工機です。 予算やアプリケーション要件に応じてCO2/ファイバー/CO2＋ファイバー （デュアルソース）の3種類の加工機から適したマシンを選択可能。 またお客様のプロジェクトやニーズにマッチしたアクセサリやオプションは、 幅広い選択肢の中からご提案いたします。 【特長】 ■生産効率の高さか...
メーカー・取り扱い企業： グラボテック株式会社
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テスト対象の全周波数範囲に渡り非常にフラットなゲイン応答を提供する為、…
フラットゲイン応答のため、LPDAは、テストレシーバーまたはスペクトラムアナライザーに接続されている場合、非常に単純な電力（dBm）から電界強度（V /mまたはW/m²）への変換を提供します。テストアンテナのビーム幅が小さいため、指向性が高く、テスト対象の放射RFソースを簡単に特定できます。 【主な特徴】 ・完璧なアンテナ保護のために特別に設計されたレドーム ・ 非常に広い帯域幅...
メーカー・取り扱い企業： ウェーブクレスト株式会社
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多層膜、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜に
二酸化ケイ素 SiO2は、反射防止膜用、多層膜用、膜応力緩和用、自動連続給材用、 成形品、など様々な分野に応用可能です。 【特長】 ■外観・形状：透明〜白色・顆粒状・タブレット状・リング状 ■純度：99.9％以上 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。...【仕様】 ■分子式：SiO2 ■屈折率（at 550nm）：1.47 ■透過波長（nm）：2...
メーカー・取り扱い企業： 晶立株式会社
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良好な膜厚分布が得られます！カスタマイズ可能なロードロック式コーティン…
当社で取り扱っている『ロードロック式FCVA装置』をご紹介します。 ロードロック方式により、膜質の安定性を向上し、パーティクルの 付着を抑制します。 ガラスレンズモールドの離型膜形成用の装置として、主要レンズメーカー 各社で使用されています。 基板回転機構により、良好な膜厚分布が得られます。 「FCVAカーボンソース」、「FCVAメタルソース」、「イオンビーム」 「ス...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン
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自公転式サンプルホルダーを採用！カスタマイズ可能なバッチ式大型コーティ…
当社で取り扱っている『バッチ式FCVA装置』をご紹介します。 自動車部品やプリンター部品等の摺動部品への成膜に有効に 用いられています。 自公転式のサンプルフォルダーにより、均一な膜厚分布を示しています。 【特長】 ■自公転式サンプルホルダーを採用 ■カスタマイズ可能 ■生産性の向上に寄与 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...【構成例】 ■FCVAソース...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン
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微細加工装置に適用可能！ECR放電型の高出力プラズマ源をご紹介します
『EPS-120』は、微細加工装置に適用できるECR(電子サイクロトロン共鳴) 放電型の高出力プラズマ源です。 複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト。 ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワーをはじめ、 反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源などに応用できます。 【特長】 ■独創的な磁石構成による大容積ECR磁場 ■強力な冷却シス...
メーカー・取り扱い企業： ノベリオンシステムズ株式会社
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マザーテクノロジーで未来を拓く アールムテック サービスご紹介
【取扱い製品紹介】 ●温度信頼性試験装置 ハイタオ製サーマルショック装置は温度信頼性試験環境として －55℃→＋125℃まで10秒で昇温 ＋125℃→－55℃まで16秒で降温 急速温度変化環境を提供します。 ●サップコールド 弊社相模原サービスセンターにて全数出荷前検査を行い日本、台湾、中国、東南アジアに出荷しています。 フロン排出規制に対応した冷凍機のため、既存設備からの載替を行...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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豊富な開発経験とネットーワークによりお客様のご要望に最適な装置を開発い…
当社は産業用から研究開発応用まで幅広くＧＣＩＢ装置を開発製造してきたエンジニアを有し、お客様の様々なご要望に応じたＧＣＩＢ装置を提供いたします。 ＧＣＩＢによる加工法はＷＣやダイヤモンド等通常の研磨加工では難加工材と考えられている材料やフッ化物に代表される加工時に水を嫌う材料まで、サブナノレベルの平滑度に加工することが可能です。 当社のＧＣＩＢソースは大電流が取れることを特徴とし、SF6ガスク...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社IIPT
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多彩なバリエーションでお応えする真空チャンバ設計システム
『Free Chamber Order System』は、当社が蓄積した、 数々のノウハウを柔軟に組み合わせる事を前提として企画された 真空チャンバ設計システムです。 数々のテクニカルソースを組み合わせる事で、より安価且つ短納期での ご提供を可能にします。 【装置（一部抜粋）】 ■排気系 ・ロータリポンプ ・ターボ分子ポンプ ■成膜源 ・スパッタリングカソード ...
メーカー・取り扱い企業： いちよしエンジ株式会社
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