• MEMSフォトレジスト薄膜コーティング試作(薄膜試作・開発支援) 製品画像

    コーティング困難なMEMS凹凸デバイスへ、フォトレジストの薄膜塗布を可…

    凹凸立体形状のMEMSデバイスへ、フォトレジスト薄膜のコーティング試作をしています。数枚から大ロットまでフォトレジスト薄膜形成の試作を提案中です。凹凸・立体(3D)形状に対してのレジスト塗布方法に問題を抱え、お困りでしたらご連絡をいただけれ...(つづきを見る

  • フォトレジストの研究開発用露光ツール フォトプロセス解析用露光装置シリーズ  製品画像カタログあり

    フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

    フォトレジストの研究開発用露光ツール! フォトプロセス解析用露光装置シリーズ ■□■ラインナップ■□■ ■UVES-2000(g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置) ■UVES-2500 (g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置) ■ArFES-3500LP(193nm対応解析露光装置) ■VUVES-4500mini(248・193n...(つづきを見る

  • ネガ型電着フォトレジスト 製品画像

    高精度のめっきエリアを実現するネガ型のフォトレジスト電着プロセス

    エレコートEU-XCプロセスは凹凸面や3次元形状品に高精度の部分めっきを実現する為のフォトレジスト電着プロセスです。この電着レジストは耐薬品性に優れ、シアン化銀めっきに他、金めっきや硫酸銅めっきのレジストとしても使用可能です。エッジカバー性に優れ、高精度の現像性を実現しました。精密部分めっ...(つづきを見る

  • 書籍【フォトレジスト材料の評価】 製品画像カタログあり

    好評につき改訂版完成! 感光性樹脂・原材料の研究開発、配合、使用、製…

    第1章 リソグラフィーの概要 第2章 フォトレジストの塗布 第3章 露光技術 第4章 露光後ベーク(PEB)と現像 第5章 g線,i線レジスト(ノボラックレジスト)の評価技術 第6章 KrF・ArF用フォトレジストの評価技術 第7章 ...(つづきを見る

  • 微細加工用ポジ型フォトレジスト電着液『ハニレジストAP』 製品画像カタログあり

    電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着液!

    『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術(電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術)を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着液です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理(通電時間10秒で 膜形成が可能)・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力にも優...(つづきを見る

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  • NanoSHIELD(TM) 中空糸膜フィルターチューブ 製品画像カタログあり

    フォトレジストや高純度化学薬品に

    NanoSHIELD(TM) 中空糸膜フィルターチューブは、最先端のフォトレジストや高純度化学薬品に対して優れた粒子除去と低残液量用にデザインされたフィルターチューブです。...(つづきを見る

  • PTFEメンブレンカートリッジフィルターTCFタイプ 製品画像カタログあり

    フォトレジストなどの機能性樹脂や各種有機溶剤およびガスの濾過に適してい…

    PTFE製メンブレンフィルターとポリプロピレンまたはポリエチレンから構成された、耐薬品性のあるカートリッジフィルターです。 【特長】 ■PTFEメンブレンフィルターには、界面活性剤を使用しておりません。フィルターのシールは熱溶融接着のため、クリーンなカートリッジ フィルターです。 ■TCF-020LタイプはPTFEと高密度ポリエチレンのみで構成された、低溶出のカートリッジフィルターです。...(つづきを見る

  • パーティクルカウンター液中 レジスト0.15μm KS-41A 製品画像カタログあり

    0.15μmの粒子を、フォトレジスト溶液やSOG などから測定可能

    液中パーティクルカウンター KS-41A フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.15μmから測定 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制...(つづきを見る

  • パーティクルカウンター 液中 レジスト・SOG KS-41B 製品画像カタログあり

    フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.1 μmから測定可能

    高計数効率0 0.1μm フォトレジスト溶液やSOG中の粒子数測定に 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制!...(つづきを見る

  • PTFEメンブレンカートリッジフィルター ポリエチレン部材成型品 製品画像カタログあり

    フォトレジストなどの機能性樹脂や各種有機溶剤およびガスの濾過に最適!

    PTFE製メンブレンフィルターと、ポリプロピレンまたはポリエチレンから構成された、耐薬品性に優れたカートリッジフィルターです。 PTFE製メンブレンフィルターには、界面活性剤を使用していません。 また、フィルターのシールは熱溶融接着のため、クリーンなカートリッジフィルターです。 全製品完全性試験を実施済みで、信頼性の高いカートリッジフィルターです。 有効濾過面積2.3倍(従来品TCF-0...(つづきを見る

  • LifeASSURE(TM) フィルター EMCシリーズ 製品画像カタログあり

    超純水、精密部品洗浄、フォトレジスト、その他ファインケミカルのろ過に

    LifeASSURE(TM) フィルター EMCシリーズは、超純粋、高純度薬品のろ過に適したエレクトロニクス用メンブランフィルターです。 (旧製品名:CUNO(TM) ライフアシュア(TM) EMC フィルターカートリッジ)...【特徴】 ○親水性ナイロン66メンブラン ○FlexN(TM)マルチゾーンメンブランテクノロジー  より多くの粒子の捕捉が可能 ○Advanced Pleat ...(つづきを見る

  • 脱保護反応解析装置 PAGAシリーズ 製品画像カタログあり

    フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

    脱保護反応解析装置 PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○P...(つづきを見る

  • 3次元性のものに薄膜でめっきマスクが可能!微細加工用電着液 製品画像カタログあり

    耐薬品性に優れ、電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電…

    『ハニレジスト』は、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術(電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術)を基本とし、開発した微細加工用電着液です。 他の電着液より密着性が優れているため、従来の不可能であった、 めっき用マスク、エッチング用として好適です。 【特長】 ■3次元構造物への付き回り性 ■優れた密着性 ■高解像度 ■ピンホールレス ■耐薬品性 ...(つづきを見る

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  • インパクト2 フィルター 製品画像

    交換が容易なフォトレジストのPOUフィルター

    超高分子量ポリエチレン(UPE)メンブレンは、レジスト通液前の置換が不要。 専用のマニホールド(別売品)を使用することにより、簡単な操作でフィルターを交換できます。 液の流れに淀みがない流路とデッドスペースの最小化により、省レジストに貢献。 多様なニーズにお応えできる孔径ラインアップをご用意。 ...【主な仕様】 除粒子径: 0.01, 0.02, 0.05, 0.1, 0.2 µm ...(つづきを見る

  • 【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析 製品画像カタログあり

    熱分解GC/MS法により感光剤の構造解析が可能

    ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。 レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂として...(つづきを見る

  • 両面マスクアライナー 製品画像カタログあり

    両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能

    ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。...(つづきを見る

  • 特許出願中 塗布重量自動計測システム付薄膜積層コーティング装置 製品画像カタログあり

    特許出願中!微量な塗布重量を瞬時に計測し、管理できます。

    llipseを目標に、LED向け蛍光体自動塗布ラインで培った塗布重量自動計測システム付 薄膜積層コーティング装置を燃料電池電極形成、次世代二次電池電極形成、MEMSを含むエレクトロニクス分野のフォトレジストコーティング等に展開いたします。 常温で反応し経時的に増粘する塗材や、沈殿が激しい不安定なスラーリー等のハンドリングが難しい塗材を、付加価値の高いLEDやLED部材等の被塗物へ塗布する方法と...(つづきを見る

  • 高アスペクト比レジスト 製品画像カタログあり

    高アスペクト比レジスト

    ■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを   エッチング液から守る膜として使用されている ■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で   密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている ■その他詳細については、カタログダウンロード   もしくはお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • バッチ式プラズマアッシング処理装置(バッチ式プラズマアッシャー) 製品画像カタログあり

    ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置

    です。 ウエハサイズは、5インチ以下、6インチ、8インチに対応しています。 また、オプションにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。 シリコンウエハ上に形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起により、低ダメージアッシング(灰化除去)や表面改質等、多様なプロセス用途に利用可能です。...(つづきを見る

  • 『R*evolution V』 製品画像カタログあり

    ON-WAFER処理のためのインテリジェントプロセスコントロール

    『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、 高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。 当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや 様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。 またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作 パラメータをプロ...(つづきを見る

  • マイクロ ブラスト 加工受託 製品画像

    マイクロ ブラスト 加工受託

    50μm以下の研磨剤で、被加工物5μm以下の高精度で、パターンを彫り込む技術です。 従来の機械加工、ケミカルエッチング、レーザー加工などで困難な素材、或いは精度出しが困難な条件等に対し、フォトレジストとの組み合わせにより、高精度かつ安価にて微細加工が可能です。  ...(つづきを見る

  • 紫外線強度計UVR-300 レンタル 製品画像

    半導体製造用フォトレジストの光量測定やUVケア製品(医療・医薬・食品分…

    度計は、医療、医薬、食品分野などの紫外線殺菌ランプや光化学反応、高分子関係劣化試験などに幅広く利用される測定器で、近年は市場が拡大しているUVケア製品の特性評価や半導体製造におけるG線・I線用フォトレジストなどの光量測定にも用いられています。 UVR-300は、高感度で、ワイドダイナミックレンジ(0.1 - 80,000μW/cm2)を有し、測定用途に応じて異なる測定波長域に対応できる3タイプ...(つづきを見る

  • 電着フォトレジスト 『エレコートEU-XCシリーズ』 製品画像カタログあり

    電着方式でレジスト形成

    ネガ型フオトレジスト液です。電着方式でレジスト形成します。...【特徴】 ○三次元構造の基材にレジスト形成が可能です。 ○精密な膜厚の制御が可能です。 ○エッジカバー性に優れています。 ○耐薬品性に優れ、シアン系めっき液から無電解めっき液まで対応が可能です。 ○低タック性です。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ 製品画像カタログあり

    最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

    フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォ...(つづきを見る

  • i線UV照射装置 液晶用フォトレジストの硬化・脱色用途 製品画像

    エキシマ照射ユニット:波長172nm。i線UV照射装置:主波長365n…

    エキシマ照射ユニットは波長 172nm、瞬時点灯・瞬時安定、i線UV照射装置は主波長365nm(i線)、コンパクト、発光長:2,600mm まで対応可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【エキシマランプ照射ユニットの特徴】 ○波長 172nm ○高均斉度の面照射 ○瞬時点灯・瞬時安定 ○低温処理 ○高強度によるタクト短縮 ○照射サイズ:φ300mmウ...(つづきを見る

  • 縦型両面印刷機『SSA-DSV650-R』 製品画像カタログあり

    生産性向上!基板の表裏に液状フォトレジスト印刷を行う縦型両面印刷機

    『SSA-DSV650-R』は、基材をクランプの上、横移動させ、基板の表裏に 液状フォトレジスト印刷を行う縦型両面印刷機です。 当製品は、人手によるハンドリングを行いますが、投入~印刷~仮乾燥の フルオートが可能なほか、ワーク投入ダブルスライドユニット(OP)も装備 できるので...(つづきを見る

  • ナノパターン露光装置『PhableR 100』 製品画像カタログあり

    回折限界を超えた解像度を実現!低コストで周期構造を作製できる露光システ…

    『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行...(つづきを見る

  • 自動ウエハ洗浄・処理評価装置 製品画像カタログあり

    自動ウエハ洗浄・処理評価装置

    半導体製造工程の中でも、フォトレジスト塗布とエッチング工程における「フォトレジストと酸化膜表面のぬれ性」、「レジスト膜の接着性」、「表面のレジスト残渣の有無」は、製造歩留りに大きく影響します。 洗浄処理評価装置DropMaste...(つづきを見る

  • IoTに対応した半導体製造装置 バッチ式アッシング装置 製品画像カタログあり

    性能を向上させ、低ダメージプロセスが可能で省スペース、高スループットを…

    バッチ式アッシング装置MG-8500Rは半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。一部機能、性能の向上(当社比)、Key Partsを最新モデルに更新しました。 ※アッシング:エッチングの後、不要となったフォトレジストをプラズマなどで反応させて気相中で...(つづきを見る

  • リソグラフィシミュレータ PROLITH 製品画像カタログあり

    Virtual Lithography Simulator

    リソグラフィ・シミュレータは、数値計算により、露光光学系による結像およびフォトレジストの感光・現像の過程をコンピュータ上に表現し、現像後のフォトレジストの形状を算出します。リソグラフィの研究、開発、そして製造に欠かすことのできないツールとなっています。...(つづきを見る

  • 会社案内 製品画像カタログあり

    環境に優しい製品をご提供し、皆様の暮らしに貢献します。

    レナテックは、酸化チタンを利用した光触媒脱臭機QOLFANによるウィルス・空中浮遊菌の殺菌/浄化、空気清浄から、半導体産業におけるフォトレジスト用剥離剤PURMS、HACLEARによるコーターカップ洗浄まで、光触媒事業、半導体事業、環境事業の3つの事業を中心に環境に優しい製品をご提供し、皆様の暮らしに貢献できる会社を目指しています。詳...(つづきを見る

  • マイクロコンタクトプリントの精細な樹脂版製作 製品画像カタログあり

    マイクロコンタクトプリントの精細な樹脂版は「ARV-310」がなければ…

    私たちはマイクロコンタクトプリント法によるパターニング技術の高度化に取り組んでいます。フォトレジストの利用などエッチングをかけて金属膜を設計するナノインプリンティングと異なり、凸版印刷の原理を利用したシンプルなナノプリント技術です。プロセスは大きく、シリコーンゴム製の判子を作る、判子にインク...(つづきを見る

  • 特定波長カットLED照明『SP.Feathelight』 製品画像カタログあり

    より白色に近い!文字が読みやすい明るさでイエロールーム内の作業が快適に…

    さになり、作業が快適に行えます。 また、オールプラスチック構造を採用しているため、万が一落下しても 破片が飛散せず、クリーンルームでも安心してお使いいただけます。 【特長】 ■フォトレジストが反応する光はしっかりカット ■特定波長をカットすることでより色白に ■業界トップレベルの高輝度 ■消費電力19Wで省エネ ■破損防止のオールプラスチック構造 ※詳しくはPDF資...(つづきを見る

  • 製品分析 有機フッ素化合物(PFOS・PFOA)分析 製品画像カタログあり

    製品中のPFOS・PFOA分析は内藤環境管理株式会社にお任せください!

    S/MS法 ○織物、その他コーティングされた製品 →1μg/m2 →衣類、カーペット 等 →溶媒抽出-LC/MS/MS法 【適用除外の対象】 ○フォトリソグラフィープロセス用のフォトレジストまたは反射防止コーティング剤 ○フイルム、紙、または印刷版に使用される写真用コーティング剤 ○非装飾用の硬質クロム(VI)めっき用ミスト防止剤、及び十分管理された  めっきシステムで用い...(つづきを見る

  • 微細加工装置 NEOシリーズ 製品画像カタログあり

    空気中で微細な高速露光を実現!

    ナノインプリント用金型開発に適した露光装置! 高速露光が可能なため、そのまま量産機への移行も可能。 フォトレジスト、熱レジストに対応し、材料開発に最適。 ナノサイズ~ミクロンサイズの露光を実現。 ※ 材料(レジスト)のマッチングについては、露光サービスをご利用ください。 【 特長 】 ◆ 直接描画...(つづきを見る

  • 【書籍】UV硬化樹脂の配合設計、特性評価・・・(No.1921) 製品画像カタログあり

    【技術専門図書】★絶版書籍が20%OFFで購入可能

    章 UV硬化型インク、塗料の設計と評価 第7章 UV硬化型接着剤、封止材の設計と耐久性向上 第8章 UV硬化型樹脂の成形、微細加工技術とその材料設計 第9章 UV硬化型ソルダーレジスト、フォトレジストの設計と評価 第10章 UV硬化樹脂の反応解析、品質評価 ------------------------ ※ 詳しくは「カタログをダウンロード」からパンフレットをご覧ください。...(つづきを見る

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  • 【スクラッチ試験機】ナノスクラッチテスタ(NST3) 製品画像カタログあり

    優れたナノスクラッチ試験

    コーティングや、軟質及び硬質のコーティングの分析に使用できます。 光学用途から、マイクロエレクトロニクス用途、保護膜、装飾膜など様々な用途向けの、薄膜・多層膜のPVD・CVD・PECVD膜、フォトレジスト、塗装、ラッカーなどの膜の評価に利用できます。 金属合金、半導体、ガラス、反射材や有機材料を含む硬質あるいは軟質の基材も評価できます。...(つづきを見る

  • 工業・電子部品用露光装置 製品画像カタログあり

    ガラスマスクとワークをアライメントし、微細なマスクパターンを転写する露…

    から、小・中ロット製造用に最適です。 【両面マスクアライナー】 ●ウェハー、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークを  アライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストにプロキシミティ  及びソフトコンタクト露光にて、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナー  です。 ■□■詳細は、資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■□■ ...(つづきを見る

  • 10/4【セミナー】レジスト 製品画像カタログあり

    レジストの材料・プロセス・装置の総合知識 ~基礎とノウハウ、…

     本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富...(つづきを見る

  • イエロールームの照明の色味を改善!『特定波長カットLED照明』 製品画像カタログあり

    今までに無い明るさを実現!半導体・液晶工場のイエローランプ代替に

    読みづらさも軽減。 オールプラスチックのため割れても飛散しないためクリーンルームでも安心してお使いいただけます。 作業環境の大幅な改善に貢献します。 【特長】 ■試験設置可能 ■フォトレジストが反応する光をカット ■19Wの低消費電力 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S,WLP-600S 製品画像

    価格は低廉であり、搭載されたシーケンサにより各エッチング条件の管理を行…

    に対応する為、RFパワーを下部電極に印加(RIE方式)又は、上部電極に印加(DP方式)を実現しております。 6~8インチのSi、Poly-Siなどのエッチングやポリミド系樹脂のエッチング及びフォトレジストのアッシングなど多種多様なプロセスに御利用頂けます。 ...(つづきを見る

  • フォトマスク表面保護フィルム 製品画像カタログあり

    高耐久性、パターンの再現性を備えたフォトマスク表面保護フィルム

    PCB等の精密部品にパターニングするレイアウトを持つフォトマスクは、 製造・保管または取扱いの最中にパーティクル等によって汚染されることがあります。 これらのパーティクルによってフォトレジストフィルム上に露光された 最終イメージにダメージが発生し、最終的にボードの廃棄や不具合につながります。 『フォトマスク表面保護フィルム』でラミネートすることで、 フォトマスクの使用期限/寿...(つづきを見る

  • カートリッジフィルター『ハイブリットカプセルフィルター』 製品画像

    確実な粒子の補足とゲル除去を実現!小量ろ過に幅広くご使用可能

    上しています。 内部は高精度な5層構造のメディアによるハイブリットな組み合わせにより、 確実な粒子の補足とゲル除去を実現しています。 また、おどろくべき低圧損と高寿命、高い集塵能力をフォトレジスト、 現像液、純水、N2ガスの小流量ろ過等の小量ろ過に幅広くご使用可能です。 【構成材質】 ■ハウジング:ポリプロピレン ■メデイア:P.P、ナイロン66、ポリエーテルサルフォン、P...(つづきを見る

  • 膜厚測定 製品画像

    膜厚測定に関するアプリケーション情報を詳しく解説します

    アプリケーション向けに光学的および非光学的膜厚特性を測定するための モジュラー式および完全統合型システムの両方を提供しています。 顧客は、シリコンウェーハの厚さを測定し、マスク用のフォトレジスト層を判断し、 コーティングの硬度および摩耗を試験するためのシステムを構成しています。 数量の多いOEMアプリケーション向けコンポーネントも利用できます。 これらのデバイスは、真空紫外...(つづきを見る

  • 直管形LEDランプ『LEDUAL』 製品画像カタログあり

    工事不要!お使いの照明はそのまま、蛍光灯と交換するだけで簡単に省エネを…

    を忠実に再現:印刷関連、製造業、塗装関連、病院、色を扱う現場 ・明るく色鮮やかに:コンビニエンスストア、スーパーマーケット、デパート、専門店、商品を魅せる現場 ■イエローLEDランプ ・フォトレジストが反応する光をカット ・工事不要なのでクリーンルームに導入しやすい ・ランプの交換頻度が約1/5と長寿命 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

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