• 真空装置 平行平板評価用プラズマ処理装置   製品画像

    半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

    チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、APCを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...(つづきを見る

  • 真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ 製品画像

    処理可能基板サイズ550×650mm。無廃液化・低ランニングコストを実…

    時プロセス評価実験をお受けいたします。 技術紹介プレゼン,プラズマ応用相談も行っております。 詳しくは弊社大阪本社技術部または営業部までお気軽にお問合せください。 【応用例】 ○レーザー加工後のスミア除去(デスミア処理)が可能 ○対象物をプラズマ処理し無電解メッキ特性を向上 ○テフロンなど撥水性樹脂の親水化,接着性向上 ○半田,ボンデイングなどの密着性を向上 その他詳細は、...(つづきを見る

2件中1〜2件を表示中

表示件数
60件
  • 1

※このキーワードに関連する製品情報が登録された場合にメールでお知らせします。

企業で絞り込む

[-]

分類で絞り込む

[-]

PR