オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プリント基板 設計・製造サービス

PRプリント基板1枚から製造対応可能！国内はもちろん海外基板メーカーからも…

当社で実施している『プリント基板 設計・製造サービス』をご紹介します。 データを頂ければ、最短日数で片面1日、両面2日、多層4日で製造が可能。（さらに短縮も可能） ご予算に応じて、ご希望の仕様に仕上げます。 他にも当社では実装部品調達・部品実装やシミュレーション対応などの取り扱いも ございます。不明点など何でもお気軽にお問い合わせください。 【主な基板の種類】 ■リジッド基板（2層極薄～高多...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東海

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

・装置：露光機、投影露光機、ステッパー ・用途：半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用 ・対応基板：ウエハ（特殊ウエハ含む）各種サイズ、ガラス、有機基板等 ・レンズ特徴：解像度 1.5um 以上、等倍、広画角（4～8インチ） ・本体：～12インチ、研究用 ・光源は全て LED が標準 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

主な特長 1.定評のある500Wマルチライト光源を搭載しています｡ 2.基板供給､アライメント､露光､基板排出を自動で行うとともに､ウエハ搬送はクラス最高水準である毎時190枚(2インチウエハ)の処理能力を実現しています｡ 3.マスクとウエハの平行出しは､補正機能板で露光...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

５相ステップモータドライバ　「５Ｄ０２」

高速トルク特性が良好な５相ステップモータドライバ

・　２８ｇと超小型軽量です。 【特長】 ●５本結線方式で高効率 ●簡単配線のフラットケーブル用コネクタ使用 ●単一電源ＤＣ１２〜２４Ｖの広い電圧範囲 ●高速トルク特性が良好 ●基板挿入方式が可能（オプション）...

メーカー・取り扱い企業： ピー・ピー・エス有限会社

両面マスクアライナー

両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能

ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

自動搬送露光装置

搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用可能！

ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、ソフトコンタクト露光で微細なマスクパターンを転写する露光機です。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

FPC露光装置

フレキシブルプリント基板（FPC）の回路形成を行うための装置

フレキシブルプリント基板（FPC）の回路形成を行うための装置です。 ロールｔｏロールでピッチ送りしてドライフィルム上にパターンを焼き付ける製品群をラインアップさせています。 ※詳細はカタログダウンロードの上、お問合...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

In-Line Sputtering System

平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備

In-Line Sputter Systemは平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備で連続的な大量生産に最適な競争力を持ちます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

Batch Type Sputtering System

一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式

Batch Type Sputtering Systemは一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式で多くのコスト削減が実現できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ■裏面アライメントも可能な高精度の重ね合わせ ■対応最大基板サイズは9インチ×9インチ ■様々なデータ形式に対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『MLA150』

0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

最小基板サイズ：5 mm x 5 mm 最大露光面積：6インチx 6インチ（オプションで8インチx 8インチ） 0.6μmまでの最小構造サイズ リアルタイムオートフォーカス（標準：空圧式、オプション：...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

カメラ モールドサイズ：□22mm, □50mm, □75mm（有効は70～72mm角）　（石英、厚み6.35mm台形） ウエハサイズ： 8インチSiウエハ（厚み725um）、200mm角ガラス基板（厚み0.55~1.2 mm） 加圧力：10~250N(22mm角49N 0.1MPa, 50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa) 平行光のLED-UV光源（365nm　Φ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン

50μm厚超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型

50μm厚の超薄型ガラス基板を非接触にて搬送する 非接触搬送装置「5…

「５０μm厚　超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型」の非接触吸引機構は非接触搬送装置は空気噴出ノズルの直下に気体偏向器を設けております。 　気体偏向器により、ノズルより噴出した高圧空気流は直角方向に変流され、直接超薄型ガラスに衝突し、極薄ガラスを破損することはありません。　従って圧力線図に示すように超薄型ガラスに高圧噴出空気による局所応力を与えることはありません（負圧になっている）。 　このた...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所