振動 | イプロスものづくり

絞り込み条件

製品分類

メーカー・取扱い企業

テルモセラ・ジャパン株式会社

切断砥石専用グラインダーの必要性とは？　※資料進呈

PR【資料進呈】なぜ「切断砥石専用」グラインダーが必要なのか？の解説から厚…

厚生労働省が発表している「研削盤等構造規格」はご存じでしょうか？切断砥石専用グラインダーを使用せずに事故を起こした場合、『労働安全衛生規則』により罰則を科される恐れがあります。当資料では、その解決策として厚生労働省『研削盤等構造規格』に準拠した切断砥石専用グラインダーをご紹介しております。是非、ご一読ください！【掲載内容】 ■なぜ、「切断砥石専用」グラインダーが必要？ ...
メーカー・取り扱い企業：不二空機株式会社
私たちの暮らしに寄り添うプラスチック溶着技術【技術資料進呈】

PR超音波溶着技術は低エネルギーかつ低コストで成型品を溶着・加工することが…

当資料では、精電舎電子工業株式会社が長年にわたり開発してきた、多彩な溶着技術をご紹介しております。超音波振動の原理をはじめ、超音波溶着機の基本構成、溶着事例、また、高周波誘導加熱の原理や高周波ウェルダーの基本構成などについても解説。当社が誇る超音波、高周波、レーザを用いた溶着・加工技術は、これまでに多くの業界や業種で採用されてきました。【掲載内容(抜粋)】 ■1.私たちの技術は、日常...

メーカー・取り扱い企業：精電舎電子工業株式会社本社、柏工場、営業所（仙台、北関東、東京、湘南、名古屋、大阪、広島、福岡）、室蘭事務所
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・基板回転・上下昇降・加熱（500℃）オプション・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2）・APC自動制御（キャパシタンスマノメータオプション）・水晶振動子膜厚モニタ・シャッター・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

パッタカソード x 1 ・抵抗加熱蒸着源（最大2）・有機蒸着源（最大2） ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー応相談） ◆膜厚センサー◆】・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

nch ・基板回転・上下昇降・加熱（500℃）・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2）・APC自動制御（キャパシタンスマノメータオプション）・水晶振動子膜厚モニタ・シャッター・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

るつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル成膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

cるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板回転/昇降, 基板加熱（Max500℃、又は800℃...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

cるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社