• レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric 製品画像

    レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

    PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度&高速測定で…

    特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示! レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

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    メーカー・取り扱い企業: マール・ジャパン株式会社

  • 『3D溶接検査装置システム』高速ビート検査 製品画像

    『3D溶接検査装置システム』高速ビート検査

    PR『溶接対象形状をロボットで正確にトレース! 寸法検査・形状検査も可能』…

    『3D溶接ビード検査装置』は、ライン状のレーザ光源を検査ワークに 照射し、その反射光を高さデータとして取得する「光切断法」を 採用しています。 ロボットに取付けた3Dカメラでスキャンニングすることにより 三次元形状を計測できます。 また、検査中、通信でロボット位置・姿勢 情報を取得しているため、 加減速や姿勢変化にも対応可能です。 【特長】 ■自動での高速ビード検査 M...

    メーカー・取り扱い企業: 東日本イワタニガス株式会社 開発本部

  • [開発事例] HSDIOとLabVIEWを使用したメモリ評価装置 製品画像

    [開発事例] HSDIOとLabVIEWを使用したメモリ評価装置

    安価なHSDIOとLabVIEW を使用したメモリ評価装置の開発

    545)】を基本ハードウェアとして採用し、パターン波形作成にはDigital Waveform Editor を使用することで試験時間の問題を解決しました。 2.記憶保持時間(リテンション時間)の測定 リテンション試験は【HSDIO(PXIe-6545)】とNI 製Script Editor を使用することで、任意のリテンション時間を複数設定できるようになり、測定が可能になりました。 HSD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所

  • 【分析事例】走査イオン顕微鏡によるCu表面の結晶粒観察 製品画像

    【分析事例】走査イオン顕微鏡によるCu表面の結晶粒観察

    金属多結晶の結晶粒の大きさや分布に関する知見を得ることが可能です

    電子を検出する手法です。二次電子は各結晶粒の結晶方位に応じたコントラストを生じるため、SIMによってCuやAlなどの金属多結晶の結晶粒の大きさや分布に関する知見を簡便に得ることが可能です。本資料では測定例としてCu表面をSIMによって観察した事例をご紹介します。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】STEM・EDXデータと像シミュレーションによる評価 製品画像

    【分析事例】STEM・EDXデータと像シミュレーションによる評価

    STEM像と原子組成の測定結果から結晶構造の評価ができます

    試料の測定によって得られた結果と、シミュレーションの併用により、結晶構造の評価が可能です。 本資料では、多結晶体であるネオジム磁石において、HAADF-STEMとEDXの測定によって得られた結果と、各々の測...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価 製品画像

    【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

    高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

    半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】SEMとSIMによるCu表面の二次電子像の比較 製品画像

    【分析事例】SEMとSIMによるCu表面の二次電子像の比較

    着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です

    傍の構造評価を行う手法です。一次プローブの違いによってコントラストの現れ方や空間分解能などの違いがあり、着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です。本資料では2手法の比較をまとめるとともに、測定例としてCu表面を観察した事例をご紹介します。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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