真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

真空脱脂焼結炉『DSシリーズ』※最大1000個の熱処理をいつでも

PR真空脱脂と焼結を一つのサイクルで行うことが可能な真空脱脂焼結炉！時間と…

真空脱脂焼結炉『DSシリーズ』は、粉末冶金の発展に貢献する 省スペースかつ炉内のクリーン化とサイクル間のメンテナンス時間を大幅に短縮できる真空脱脂焼結炉です。 多数の販売実績を持ち、定評ある標準規格炉「TITAN」のプラットフォームを採用！ また、短時間で据付設置できるスキッドマウントシステムを採用しております。 【メリット】 ■処理時間の短縮 ■プロセス品質の向上 ■汚染の最小化 ■使いやす...

メーカー・取り扱い企業： Ipsen株式会社

光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ

蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ，ボールレンズへの成膜に最適

光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） 　※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空