• アイ卓上型紫外線洗浄・改質装置『OC1801C10X』 製品画像

    アイ卓上型紫外線洗浄・改質装置『OC1801C10X』

    開発研究・生産用として!移動・設置が簡単な紫外線洗浄・改質装置

    短波長紫外線による洗浄・改質装置は紫外線ランプと照射装置による高出力照射技術により、高品質・高速処理を実現した装置です。 ランプは、185nmと254nmの紫外線を効率よく放射。安定でムダや無理のない高品質な洗浄能力を可能とし、高い表面改質能力を発揮するため様々なタイプの紫外線ランプを用意しています。 『OC1801C10X』は開発研究・生産用としての紫外線洗浄改質処理に、利用可能なテ...

    メーカー・取り扱い企業: 岩崎電気株式会社 アイグラフィックス社 産業機器営業部

  • 紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置の事例紹介 製品画像

    紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置の事例紹介

    紫外線ランプによるさまざまな流水の殺菌・有機物分解装置ステリラジカル。…

    紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置(ステリラジカル)の事例紹介です。 用水処理:地下水の除鉄・除マンガンと色度除去(神奈川県下) 【導入による得られたメリット・効果】 ■完全な除鉄除マンガン ■色度の完全分解 ■消毒副生物を除去 ■塩素の適正注入 ※詳しくはダウンロードより製品カタログをご覧下さい。...紫外線ランプを利用する流水殺菌をベースに、最新の紫外線技術を駆使...

    メーカー・取り扱い企業: 壽化工機株式会社

  • 紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置の事例紹介 製品画像

    紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置の事例紹介

    紫外線ランプによるさまざまな流水の殺菌・有機物分解装置ステリラジカル。…

    紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置(ステリラジカル)の事例紹介です。 排水処理:プリント基板排水の再利用(岐阜県下) 【導入による得られたメリット・効果】 ■活性炭のライフが長い ■スライムの生成が全くない ■再利用率が極めて高い ■処理水の純度が高い ※詳しくはダウンロードより製品カタログをご覧下さい。...紫外線ランプを利用する流水殺菌をベースに、最新の紫外線技術...

    メーカー・取り扱い企業: 壽化工機株式会社

  • 紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置の事例紹介 製品画像

    紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置の事例紹介

    紫外線ランプによるさまざまな流水の殺菌・有機物分解装置ステリラジカル。…

    紫外線殺菌装置・流水超殺菌・有機物分解装置(ステリラジカル)の事例紹介です。 瓶・缶・容器洗浄水の超殺菌 【導入による得られたメリット・効果】 ■細菌・スライムの抑制 ■洗浄用薬品使用量の削減 ■超殺菌による光回復の抑制 ※詳しくはダウンロードより製品カタログをご覧下さい。...紫外線ランプを利用する流水殺菌をベースに、最新の紫外線技術を駆使したシステムを目的別に3種類ラインナ...

    メーカー・取り扱い企業: 壽化工機株式会社

  • 紫外線照射装置『MSシリーズ』 製品画像

    紫外線照射装置『MSシリーズ』

    DNAを破壊して不活性化させるため様々な菌種・ウイルスに効果を発揮しま…

    『MSシリーズ』は、熱や薬品による殺菌のように水質を変質させることなく 菌やウィルスに対して素早く効果を発揮する紫外線照射装置です。 所要時間はほんの数秒で、設備工程の簡素化や処理時間短縮、経費削減を実現。 また、危険な薬品の補充や貯蔵の必要がなく、紫外線が外部に漏れない 安全設計となっています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: サンエナジー株式会社

  • UVオゾンクリーナー UV-300H  製品画像

    UVオゾンクリーナー UV-300H

    UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

    UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。 ...【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理(200~300nm/min)が可能 ○非貴金属系触媒...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

  • UVオゾンクリーナー UV-300  製品画像

    UVオゾンクリーナー UV-300

    UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

    UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。 ...【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵して...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

16〜22 件 / 全 22 件
表示件数
15件
  • bnr_2407_300x300m_laattachment_dz_ja.png
  • 2校_0902_duskin_300_300_2109208.jpg