製造工程を自動化・省力化へ進化させるTAI-M solution

PR時計製造で長年培った技術を応用し、自動化・省力化をご提供！

製造工程のニーズに合わせた加工機を開発から設計、製造まで社内でおこない、 付加価値の高い装置ユニットを提供しています。 複雑形状の部品加工を可能にした二次加工NC旋盤は、用途によりパレット供給、 採品も可能なカスタマイズ設計により、合理化を実現しています。 また、自社開発の精密計測機器を搭載し、加工前後の製品測定も可能にしました。...・ライン装置 ・スタンドアローン装置...

メーカー・取り扱い企業： シチズンファインデバイス株式会社

設置面積は僅か0.5m2！省エネ改善に貢献する小型射出成形装置

PRコンパクトサイズで軽量にも関わらずスーパーエンプラまで成形できる小型射…

エプソンテックフオルムの小型成形機『AEシリーズ』はコンパクトサイズで 軽量にも関わらずスーパーエンプラまで成形できる射出成形機です。 ここでは型締め力3t横型成形機『AE-M3』を例に説明します。 サイズ（専用の架台込み）は幅900mm x 奥行550mm x 高さ1340mm（設置面積0.5m2) 。 製造フロアの増設などしなくとも限られたスペースに設置ができる「省スペース」が最大...

メーカー・取り扱い企業： エプソンテックフオルム株式会社

高分解能型動的画像式粒度・形状分布測定装置 QICPIC

0.55～34,000μmサイズの粒子形状を高精度に解析

○高速撮像で個々の粒子測定をしながらも高い信頼性 ○光源繰返し周期：1ns ○計測ゾーンの位置に関わらず粒子外形をクリアに計測 ○輪郭の明確な粒子から透明粒子まで対応 ○形状の定義を変更し、再解析可能 乾式・湿式分散器を用いて分散された0.55～34,000 μmサイズの粒子形状を解析できます。毎秒500フレームの高速カメラが、粒子の画像を連続的に取り込 み、短時間で高コントラスト・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

超高安定性 二次元分光干渉計 GEMINI 2D

過渡吸収分光測定を先進の2次元分光装置に変換します

の光学系に容易に結合が可能 〇頑丈で堅牢なデザイン 〇ドライバーを含めた完全な一体型 〇世界中で迅速なサポート NIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換しする、コンパクト・軽量で安定性に優れた干渉計です。フェムト秒レーザーパルスの入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類なき安定性と堅牢性を備えています。 ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

光パワーメータ 高速モニタリング対応

波長750～1700nmの光信号出力を-60～+10dBmの範囲で高速…

。 ●288チャンネル光パワーメータ　EPIQ Power-1410 60～+10 dBmの信号パワーと1250～1650 nmの広い波長域を高速でモニタリングが可能。1Uのラックマウント型装置で最大288の並列チャンネル ※詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

偏波コントローラ・偏波スクランブラー　

1260nmから1650nmの広い波長域にて、低挿入損失、低背面反射を…

光信号の偏光制御やスクランブルを簡単に行うことができる偏光調整装置です。 ソフトウェア制御による高速偏波制御と偏波スクランブルにより、広い波長範囲をカバーし低挿入損失、低背面反射を実現しました。 ※PDFカタログをダウンロードいただけます。詳しくはお問い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー