薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ポリイミドキュア装置（３００ｍｍウェハ対応　クリーンベーク装置）

３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

低酸素雰囲気中で熱風加熱。温度均一性とクリーンネスを両立。先端デバイスの量産ラインで採用実績豊富な高信頼性装置。 半導体用ポリイミドキュアだけでなくフレキシブル基板ベーク・太陽電池セルアニール等幅広い用途に対応。 オプションにて高真空タイプ。高温処理タイプ対応。 ウェハプロセス対応の石英管型ＣｔｏＣタ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

フラッシュランプアニーリング装置　FLA

半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

フラッシュランプアニーリング装置　FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

量産用真空半田付装置（蟻酸対応タイプ）

ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支…

豊富な実績を誇るバッチ式真空半田付装置を本格量産用に展開。 従来のＨ２雰囲気プロセスに加え蟻酸対応をプラス。より高い信頼性を持つボイドレス半田付を量産ラインで実現。 車載用パワーデバイスモジュールの半田付の標準装置。 社内デモ機に...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

各種成膜・アニール装置

ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）

大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

装備可能で、より純度の高い還元雰囲気熱処理が可能。 実績豊富な機器構成に加えボートローダーやデータロギング機構などの周辺機器も豊富にラインアップ。 不活性雰囲気アニールにも対応できる専用アニール装置。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）

急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効で...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置

神港精機の真空半田付装置に新型登場　優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制…

パワーデバイスモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と１００％水素雰囲気による還元力に...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

縦型真空アニール装置

ウェハプロセス対応　本格量産システム　アニール・シンター・ポリイミドキ…

クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気（...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

高圧アニール装置

高圧アニール装置

LCD用低温ポリシリコンTFT基板や半導体ウェハの素子特性を向上させ、均一化するための装置です。 従来は1300℃で熱酸化させていた工程を、この装置では水蒸気で加圧加熱することにより600℃以下の低温で同じ効果を得ることができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協真エンジニアリング 本社

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

真空アニール装置

真空アニール装置

液晶ディスプレイの注入後の気泡や色ムラ等の不良を解消するための装置です。 注入前に加熱して真空引きすることにより、セル内部の水分や有機ガスを除去できるので、パネルの品質も向上させることが出来ます。内部ヒーターやファンの改良により、クリーン度の高い槽内環境を実現し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協真エンジニアリング 本社

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』

ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…

『プラズマアニーラー』は、PlasmaIt社製の鉄・非鉄金属製のワイヤ・ チューブ・ストリップ等の長尺物を連続でアニール処理を行う装置です。 高出力アニーリングが可能で、ウォームアップ/クーリングダウン時間は ありません。 小規模設備、低電力で、イニシャルコスト・ランニングコストが リーズナブルです。 また、メン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

素材 アルミ合金 装置サイズ（WxDxH） 370x210x120 mm 装置重量 約10kg 加熱プレートサイズ（WxD) 220mmx155mm 有効対象物サイズ（WxDxH） 210mmx150mm 最大到...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

古河電気工業（株）でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を５年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。 私が担当した1980年後半から通信バブル崩壊するまでは毎年線引速度が高速化しプリフォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉

水素センサー、濃度計測、溶存水素、水素燃料

用例；EVバッテリー開発（発生水素をオンライで計測）水素ジェット・ター…

換不要、メンテ・校正不要、自動校正、インライン用、OEM向け、水素検知、水素濃度計測、水素ガス分析、水素ジェット燃料BTU計測、水素ガスタービン混合比オンライン計測、FCV排気管内水素計測、水素発生装置、FC燃料電池性能評価装置、センサー自体が水素限定、誤信号ゼロ、防爆、IP64, IP68, 変圧器、新幹線用ー変圧器、支柱変圧器、DGA, 絶縁油保安、呼吸ガス、ドライキャスタク、使用済み核燃料保...

メーカー・取り扱い企業： TRANS-PAC SALES CORP

水素雰囲気コンベア炉（還元雰囲気連続熱処理装置）

豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…

炉内を水素還元雰囲気置換。Ｎ２による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理熱処理に対応。 各種ペーストの焼成にも実績豊富。 ３００ｍｍウェハ対応のＣｔｏＣタイプでシステムＬＳＩのウェハバンプのリフロー工程もカバー 従来の半田付・...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

単線用バット溶接機（DSシリーズ）【IDEAL社】

創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機！！　　ヘビー…

【特長】 ◇どのオペレーター様でも操作が簡単 ◇シンプルな機械設計かつ直観的操作を備えた頑丈で耐久性のある装置 ◇通電する距離（ワイヤーが溶け込む量）・バネの押圧力・ジョー間距離の溶接条件を個別に設定可能 ◇突合せ溶接を高めるデュアルフォース溶接（DD)をオプションあり ◇ミドルカーボン/ハイカーボン...

メーカー・取り扱い企業： 東邦インターナショナル株式会社 本社

タングステン・モリブデンの加工品

タングステン・モリブデン・タンタル等の高温向けレアメタルの加工品

真空蒸着用ボート、フィラメント、EBガン、 高温炉用ヒーター、反射板、リフレクター、試料皿、 イオン注入装置用フィラメント...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社新栄特殊金属

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スーパータル　シングルウェハーリアクター

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

真空環境、不活性ガス雰囲気下(N2, Ar etc)に対応した 卓上型のチャンバー式加熱オーブンです。 装置前面のタッチパネルディスプレイで容易に温度制御レシピを設定できます。 また、クラス1のクリーンな環境で、温度安定性の高い加熱処理を実現しました。 1×10-5 Torrの高真空に対応したモデルも...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

【開発事例】各種磁性材料・機能性材料向け設備

フリーとしながらも優れた磁気特性を実現する異方性希土類鉄系焼結磁石など…

り 低希土類含有濃度ながら優れた磁気特性を実現することができる 「等方性希土類鉄系ボンド磁石用磁粉」などを開発。 また、機能性材料開発および量産技術を活かした種々の機能性材料向け 「実験装置」並びに「量産設備」を設計・製作すると共に、 開発・量産ノウハウも提供しております。 【開発製品】 ■鉄基厚板アモルファス合金 ■等方性希土類鉄系ボンド磁石用磁粉 ■異方性希土類鉄系焼...

メーカー・取り扱い企業： BIZYME有限会社

小型遠赤外線アニール炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

（特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒１０分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±３℃ ●省スペース化が可能。従来連続炉の３０％ ●前後装置の導入により、自動化が可能。 ※テスト機を保有していますので、テスト検証が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社