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PRガス状水銀を高効率で吸着・除去!吸着塔の設計・製作・据付工事も対応いた…
当社では、排ガス中のガス状水銀を高効率で吸着・除去する水銀吸着剤を 製作しており、従来の硫化鉛の他に硫化銅を吸着成分として用いた吸着剤を 実用化しています。 吸着剤厚さ=1500mm、塔内ガス流速=0.2m/s程度の場合、95%~98%程度の 除去率を期待することが可能。 また、活性炭と異なり、ガス中の水分で除去率が低下することがなく、 二酸化硫黄(SO2)ガス存在下でも、数年...
メーカー・取り扱い企業: 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社
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PR潤滑油の汚染物質を高効率で除去し、装置メンテナンスを抑制。CO2排出量…
『IOW遠心オイルセパレーター』は、高い汚染物質除去能力を持ち、 潤滑オイルから不純物やサブミクロンレベルの粒子を高効率除去し、 エンジンの安定稼働とメンテナンスコストの削減に貢献します。 機械部品の摩耗防止による機械寿命の延長化により、 装置メンテナンスの抑制によるダウンタイム削減が図れるほか、 エンジンの安定稼働で燃料消費の無駄を削減できるため、 CO2排出量削減に向けた取り組...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノサポート
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高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも!
れぞれに特化した特性がございます。 例えば、 【ケブラー生地】 ・耐熱性 〇 ・耐切創 〇 ・耐摩耗 〇 ・耐薬品性 ×(アルカリ) ・静電気防止 × ・静電気除去 × ・耐光性 × など ご要望に応じて、弊社から生地をご提案させていただきます。 詳しくは、弊社までお気軽にお問い合わせください!...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テイアイテイ 柏営業所
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。(*メインチャンバーステージへも搭載可能です)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応!
造を用意しています。 【特徴】 ○サイドスライド機構 ○上部ユニットオープン設計 ○20M/68シート プリカット粘着シートロール使用 ○ガイドローラ取付可能(オプション) ○静電気除去ユニット 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤンゴージャパン
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。(*メインチャンバーステージへも搭載可能です)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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