プラズマ電源、大型プラズマ電源

プラズマ電源、大型プラズマ電源

プラズマやレーザー励起等の特殊な電源装置 連続波 　　数KHz 　 　　　 600KW 　　 CW 　　2〜5ＭＨz　100〜300kW　 CW 　　13.56MHz 　　 450kW 　 　 CW 　パルス〜連続波対応 　　13.56MHz 　 50kW 　 他励 　　40MHz 　　　 40kW　　自励 　　100MHz 　　 20kW　　自励 　　基本波２山程度〜CW迄...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 ■ナノカーボン材料を合成可能 ■3...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

Siやカーボン膜の受託エッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪ 一週間～レンタル可能で研究開発をスピーディーにサポート致します！ 初回条件出しやデモ処理は無償対応。... 出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

Siやカーボン膜のエッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪... 出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

プラズマクリーナー　G1000

ボンディングパッドの洗浄(ボンダビリティ向上)、表面改質・親水化(モー…

G1000 / G500は、ガスプラズマのエッチング効果を利用して低圧環境下で洗浄対象物の表面をクリーニングするシステムです。 ご用途に合わせて使用するガス(アルゴン、酸素、水素＋アルゴン等)を選択することにより、有機質のみならず無機質汚染も確実に除去します。 HIC基板やリードフレームのボンディング面洗浄によるボンディング強度の向上や、表面改質(親水化)による濡れ性改善に最適なシステムです。...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

レーザー電源、大型レーザー電源

レーザー電源、大型レーザー電源

プラズマやレーザー励起等の特殊な電源装置 連続波 　　数KHz 　 　　　 600KW 　　 CW 　　2〜5ＭＨz　100〜300kW　 CW 　　13.56MHz 　　 450kW 　 　 CW 　パルス〜連続波対応 　　13.56MHz 　 50kW 　 他励 　　40MHz 　　　 40kW　　自励 　　100MHz 　　 20kW　　自励 　　基本波２山程度〜CW迄...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

プラズマ、レーザー用大出力高周波電源

プラズマ、レーザー用大出力高周波電源

プラズマやレーザー励起等の特殊な電源装置 連続波 　　数KHz 　 　　　 600KW 　　 CW 　　2〜5ＭＨz　100〜300kW　 CW 　　13.56MHz 　　 450kW 　 　 CW 　パルス〜連続波対応 　　13.56MHz 　 50kW 　 他励 　　40MHz 　　　 40kW　　自励 　　100MHz 　　 ...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部