• Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社 製品画像

    Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社

    PRウェッジボンディングツールをはじめ、世界で9000台以上の実績を持つ卓…

    Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社は、設立から40年の経験と専門知識を保有し、 半導体およびマイクロ電子デバイスアセンブリ業界向けの商材を幅広く取り扱っています。 イスラエルに拠点を構え、150名の従業員とグループ企業600名の従業員がサポート。 MPPでは原材料から完成品まで全ての製造プロセスがあり、多くのグローバル企業との実績も多数ございます。 【取扱製品】 ■...

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    メーカー・取り扱い企業: Micro Point Pro ltd株式会社 本社

  • ポータブル脳波・多点筋電計測装置「TMSi」 製品画像

    ポータブル脳波・多点筋電計測装置「TMSi」

    PRERP、運動時、睡眠時の計測に好適!バッテリ残量など、本体全面をLED…

    『APEX』は、ERP、運動時、睡眠時の計測に好適な超小型24ch/32ch対応の 脳波計測装置です。 アナログ帯域はDCから350Hz。リファレンスチャンネルはカスタム可能です。 また、32ch/64chの脳波&多点筋電対応のモバイルタイプの計測装置 「SAGA」もご用意しております。 【APEX仕様(抜粋)】 ■チャンネル数:24ch/32ch ■解像度:24bit ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼロシーセブン株式会社

  • ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 製品画像

    ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】  ・低温(150~300℃)成膜  ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜  ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト)  ・高品質な...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch 製品画像

    【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

    プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

    *旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント: ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3(炭化珪素)コーティンググラファイト Ma...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 液体ソースプラズマCVD装置 製品画像

    液体ソースプラズマCVD装置

    小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

    【構成(一部)】 ■基板寸法:最大φ4インチ ■電極構造:平行平板(デポタウン) ■プラズマ電極  ・外径φ150、シャワー式ガス噴射  ・自動整合器マウント ■基板電極  ・外径φ150  ・ヒーター内蔵式、基板加熱Max500℃ ■成膜チャンバー:φ300 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

  • 枚葉式常圧CVD装置『A200V』 製品画像

    枚葉式常圧CVD装置『A200V』

    装置サイズを可能な限りコンパクト化!安定した成膜処理と低パーティクルを…

    『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    OP/TEB/O3/O2/N2)(オプション)      SiH4/O3系 (SiH4/PH3/B2H6/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350~430℃(SiH4/O3系 150~300℃) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像

    常圧CVD装置「AMAX800V」

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    ッド仕様、3ヘッド仕様ともに           面内:≦±3.5%、面間:≦±2.5% ○不純物濃度均一性:面内、面間ともに±3.0%以下 ○温度:350℃ ~430℃(オゾンプロセスでは150℃~350℃ ) ○対応ウェーハサイズ:8インチ  (8インチ・6インチウェーハサイズの兼用化はオプション対応) ○スループット:~100枚/hour(@5000Å) ●詳しくはお問い...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

  • MOCVD排気濾過用フィルター (AIXTRON装置用)中国産 製品画像

    MOCVD排気濾過用フィルター (AIXTRON装置用)中国産

    MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

    しい。 3、 機械構造強度が強く、耐高温性、耐腐食性が優れる、MOCVD装置の厳しい排気環境に適応。 パラメーター: 1、 使用温度:300 ℃ ~ 900 ℃; 2、 仕様:270*150*60mm 3、 お勧め交換周期:25-30DAYS ...

    メーカー・取り扱い企業: 愛鋭精密科技(大連)有限公司(AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

  • ジャケットフォーム 製品画像

    ジャケットフォーム

    耐熱150℃ 断熱材

    材です。 熱交換器、水蒸気配管、ボイラー関連、半導体前工程排気配管等にご使用頂けます。 これまで、ガラスフェルトなどの断熱材に比べても省エネな断熱材です。 もちろん、ガラスフェルトを使用した150℃を超える断熱材もご用意できます。...

    メーカー・取り扱い企業: ラックデザイン株式会社

  • 中空直進導入機 製品画像

    中空直進導入機

    真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。

    中空構造のため、可能フランジに駆動させたものを任意に取り付けが可能 シール部に溶接ベローズを採用し、高真空の領域で使用可能 ベーキング温度120℃(最大150℃まで)対応...

    メーカー・取り扱い企業: 入江工研株式会社

  • PLAD-150Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-150Y PLDシステム

    PLAD-150Y PLDシステム

    PLAD-150Y PLDシステムはNd:YAGレーザ(266nm,120mJ,10Hz)を用います。 YAGレーザによるPLDは容易に集光が得やすいことが特徴です。 金属材料などもアブレートしやすい...

    メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社

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