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PRERP、運動時、睡眠時の計測に好適!バッテリ残量など、本体全面をLED…
『APEX』は、ERP、運動時、睡眠時の計測に好適な超小型24ch/32ch対応の 脳波計測装置です。 アナログ帯域はDCから350Hz。リファレンスチャンネルはカスタム可能です。 また、32ch/64chの脳波&多点筋電対応のモバイルタイプの計測装置 「SAGA」もご用意しております。 【APEX仕様(抜粋)】 ■チャンネル数:24ch/32ch ■解像度:24bit ...
メーカー・取り扱い企業: ゼロシーセブン株式会社
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災害の先の安心を提供する非常用貯水槽『Multi Aqua C』
PR1本150Lの貯水タンクシステム!断水を伴う発災後ただちにひっぱくする…
『Multi Aqua C』は、断水を伴う災害直後の高鮮度の水の確保という課題をただちに解決する非常用貯水槽です。 大規模災害の場合、発災後一定期間の帰宅抑制、事業場の災害拠点化を迫られます。その場合、ただちに直面するのが水の確保の問題です。一般的に電気、ガスに比べて復旧に時間のかかる断水復旧。『Multi Aqua C』は、企業のBCP対策、一時帰宅困難者対策としてもお使いいただけます。 設置...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノフレックス
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アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…
『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!
『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
アルミ合金 装置サイズ(WxDxH) 370x210x120 mm 装置重量 約10kg 加熱プレートサイズ(WxD) 220mmx155mm 有効対象物サイズ(WxDxH) 210mmx150mm 最大到達温度 250℃ 加熱方式 カートリッジヒーター(下部加熱) 温度制御方式 P.I.D.制御方式 プレート上面内温度差 設定温度に対して±1.5%以内 最大昇温速度 25K/...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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高温高出力半円筒形ヒーターモジュール スーパータルSHC-HT
スーパータル HT (高温用半円筒型、最高炉内温度1675℃)
□ ■最高炉内温度1675度 ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、ハーフシリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■タイプ:SHC HT ■発熱部長さ:150mm ■全長:200mm ■発熱体温度:1700度 ■詳細は、お問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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スーパータル 半円筒(ハーフシリンダー)型
□■ ■最高炉内温度1550度 ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、ハーフシリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■タイプ:SHC ■発熱部長さ:150mm ■全長:200mm ■発熱体温度:1600度 ■詳細は、お問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■反応ガス:O2、N2、H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150℃/sec ■真空排気:DP ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:タッチパネルまたはPC ■データロギング:外部メモリまたはPC ■基板搬送:大気搬送ロボット・冷却ステージ ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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