【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

コンテナスロープを導入しませんか？【関西物流展２０２４に出展】

PRバンステージならフォークリフト１台でバンニングが可能！労働時間の短縮に…

海上コンテナの「積み・降ろし」荷作業時に活躍するコンテナスロープ（バンステージ）です。 プラットホーム設備の無い場所でも、フォークリフトだけでコンテナに荷物を搬入出できるので、省力化により作業効率がアップ！ 一人で作業できるので業務コストも削減できます！ ■本体はフォークリフトで３分割でき、移動やコンテナとの連結が簡単！ ■組み立て約１５分！ ■不要時は３段に積むことができるので...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターアクション

エッチング装置（2）

搬送速度は1.5m/min、材料幅は350mmまで対応！薬液温度・圧力…

【その他の仕様】 ■ユーティリティー：電源（AC200・220V／50・60HZ）、 　純水、市水、圧空、冷却水、スクラバー、熱排気、（スチーム） ■寸法：10.0m（L）×3.0m（W）×3.0m（H） ※操作盤・付帯設備は除く ※詳し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握ってい...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工！プロセスガスからラジカルを選択的に…

『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

エミネントシリーズ第三世代エッチング装置『エミネント2』

高いメンテナンス性！エッチング均一性・パターン精度が向上した、エッチン…

東京化工機の『エミネント2』は、5カ国180装置納入実績を誇る エッチング装置「エミネント」の後継機です。 スプレー形状、流量改善等による基板上下両面の均一性が、 35％以上改善されました。 また、新型ホイー...

メーカー・取り扱い企業： 東京化工機株式会社 本社・長野工場

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

VPE-4Fは、MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層（Si）エッチングを主目的とするXeF2エッチング装置です。完全ドライプロセスであるため、ウエットプロセスで問題となるスティクション（張り付き）の発生を抑制することが可能です。また、研究開発用途向けであるため、卓上型で非常にコンパクトな設...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現！GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹…

【仕様】 ■型式：PEC-6 ■エッチング方式 　・Photo-Electro Chemical：光電気化学 ■適応ワーク：□10ｍｍ小片チップ、φ2～6インチ ■UVA光源：超高圧水銀灯315～400nm 15mW/sm2以上 ■UVC光源：プラズマ光源220～320nm 12mW/sm2以上 ■薬液供給：2ノズルエア圧縮方式エッチング液...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ＦＲＰ製　工業用ローラー　「ＦＰローラー」

エッチング工程に適した高耐食高耐久ローラー

テル樹脂、又は不飽和ポリエステル樹脂を用い、強化材として高耐食性ガラス繊維、及び高摩耗性の有機繊維との複合材です。 比　　　重：１．４～１．５ 引 張 強 さ ：７００～９００ kgf/cm2 曲 げ 強 さ ：１２００～１４００ kgf/cm2 曲げ弾性率：６５０００～７５０００ kgf/cm2 熱膨張係数：２５～３０×１０⁻⁶ cm/cm.℃ シャルピー：４０～５０ kgf/...

メーカー・取り扱い企業： 富士化工株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントロー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Sonaer】ソニア社製低流量型超音波スプレーノズル

2mmlit/min以下の流量噴霧が可能に！

【Sonaer】ソニア社製低流量型スプレーノズルノズル ミクロン・サブミクロンの粒子にして無駄なく小さな部品に焦点を当てることができます。 ノズルはフラットとワイドスプレーチップの2種類があります。 これらのノズルはピンポイントスプレーシェーパーで粒子の焦点を合わせ、溶液の無駄を省くことに理想的です。 これらのノズルでコーティング制御が可能となり、薄くて均一な塗布を必要とす...

メーカー・取り扱い企業： ティックコーポレーション株式会社

難燃性/UL取得　同軸RFケーブル

UL,IECの難燃性規格認証済の同軸ケーブルをご提供致します。　

A: CMR/MPR/FT4 UL1666 Riser Cable ・UL/NEC/CSA: CMP/FT6 UL910 Plenum Cable ・Flame: Meets IEC-332-1-2, IEC 332-3 CAT.C, UL-VW1, UL-1581, IEE-383, BS-4066-1, BS-4066-3, UL-1685, NFPA-130 · Smoke:...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの 既存のシステムに設置する事も可能。 世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を 2倍以上に伸ばすことに成功しております。 【特長】 ■均一性<2% 3σ(200mmウエハ)、スキャニングモーションを 　取り入れることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTB...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

半導体製造装置用部品に特化！　海外製セラミックのご紹介

静電チャック、ピンチャック等の調達にお困り事があった方は必見！ 海外…

当社の海外サプライヤーでの生産により、お客様の部品調達のご不安を解致します！ 高精度/高品質の半導体製造装置用のセラミック部品を材料込みでご提案致します。 ☆8インチ、12インチサイズ対応可能です。 ☆国内装置メーカー様への納入実績は豊富に御座います。...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

フォトエッチング加工サービス【エッチング加工の基礎知識】を進呈！

試作から量産まで可能。バリのない平滑な外縁のノーブリッジエッチングなど…

ング」、 ミクロンレベルの薄板に加工が施せる「裏打ち材エッチング」、 高度な技術が求められるモリブデンの加工にも対応可能です。 【特長】 ■試作から量産まで対応可能 ■試作加工では最短2日で納品OK ■最大1050×1750mmの大判加工に対応 ■バリや歪みのないなめらかな加工 ■多孔板やメッシュ製品の製作も可能 ※当社の特長や製品事例を無料進呈中！ ※【今さら聞けな...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社

バルクエッチング装置『BEM-301』

エッチング量（深さ）とウェーハの材質を指定するだけで何方でも容易に使用…

エッチング量をモニターしながらエッチングを行いますので、 高精度のエッチングが可能。 また、1枚目からでも正確なエッチングを行うことが可能です。 【仕様】 ■エッチングレート：2μm/H以上 ■平坦度：10%以内 ■エッチング量（深さ）の精度：±5%以内 ■ユーティリティ：O2、N2、HF、DIW、冷却水、AC-100V、AC-200V、酸排気、酸排水 ■外形寸法：...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社NAS技研

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

は、お気軽にお問い合わせください。 【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、GaN、GaAs、Si3N4、SiO2など 【成　　　膜】nSiO2、Si3N4、a-Si、SiCなど ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

ス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。 ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノイン プリントモールドに必要な多くのプロセス性能を備えています。 【特長】 ■スキャロップの無い平滑なエッチング側面 ■高いSi深掘り時の垂直性（90°±2°） ■エッチングテーパー角の制御性 ■高開口度エッチングに対応 ■デモ機を常設 ■サンプルテストに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

型プラズマエッチング装置。 高周波プラズマを標準とし電極の切替によりRIE・プラズマエッチングのどちらのモードにも対応。 Ｆ系ガスによるエッチング・アッシングを標準的なプロセスとしＳｉ系・ＳｉＯ2系・ＳｉN系のエッチング及びアッシングに対応。またＡｒガスを主とした基板のクリーニングやＯ2ガスによる表面改質など多様な用途に実績。 基板の種類や目的に合わせ通常の平行平板高周波プラズマだけでなく...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

エッチング装置

エッチング装置

塩化第二鉄及び、塩化第二銅を使用し 現像後の銅箔をエッチングする装置 【特徴】 ○Lane構成：2Lane ○搬送速度：2.0m/min ○材料幅：TAB/CSP/COF用 35mm〜160mm（FPC用　250〜300mm） ○材料厚み：PI 25μm〜 ○加工面：片面 ○装置構成 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

排ガス処理セット　ES-F1

エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着する、排ガス処理セット...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン　ES-800M

マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

100mm 搬送部ローラーピッチ：45mm チャンバー長：400mm（スプレー有効長300mm） エッチング液最大液量：40リットル エッチング液：塩化第二鉄　40ボーメ（サンハヤト製　H-20L指定） エッチング液フィルター ハウジング：住友スリーエム　キュノ　1M1-PP　250mmタイプ 交換用フィルター：ダイワボウ　セキソウSタイプ（S-50標準装備） エッチング液ノズルヘ...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

濾過精度 0.003μm 常用圧力 1MPa未満 最大許容正差圧 0.7MPa(20℃) 最大許容逆差圧 0.3MPa(20℃) 最高許容温度 120℃(不活性ガス) 外部漏量 2×10-11Pa・m3/sec以下 構成部材 ハウジング：SUS316L(電解研磨処理)　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

Oリング FKM-90 (フッ素ゴム)

Oリングの桜シールによる「FKM-90 (フッ素ゴム)」材質

フッ素ゴム（2元系）による材質で、耐熱性や耐薬品性、耐油性、耐候性などに優れ、且つ硬度が高いことから耐圧性も兼ね備えています。JIS B2401:2012がFKM-90と定める以前は、公的規格には属していませんで...

メーカー・取り扱い企業： 桜シール株式会社 日本本社

多目的処理装置（スピンプロセッサー）

洗浄、現像、エッチング等カスタマイズ可能な、低価格多目的処理装置

、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。 ・ＰＶＣボディー素材で酸、溶剤に対応。 ・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。 【仕様】 ワークサイズ：Φ8インチ、もしくは200×200まで クリーンユニット：ＨＥＰＡフィルター 洗浄方式：スピン洗浄＋ブラシ又はMS選択 回転数範囲：100〜2,000rpm 回転数設定：ボリューム設定 耐酸アルカリ仕...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トービ

ガラスエッチング装置【液晶ガラス基板】| NSCEng

液晶ガラス基板の薄肉加工ケミカル研磨の自動装置として、G6世代までの薄…

×機械研磨ではタクトが合わない。 ×フッ酸によるガラス溶解では綺麗に仕上がらない。 などのお困りごとを解決します。当社のガラスエッチング装置は「浸漬ディップ式」と「枚葉搬送スプレー式」の2種類あります。どちらも量産装置として数多くの実績がある装置です。 【当社装置の特徴】 ■狙い板厚±30μm規格でCpk1.33以上可能 ■自動板厚制御により1パス仕上げ可能 ■液再生シス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社NSC エンジニアリング本部

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

【仕様（抜粋）】 ■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

《ソノシス》超音波スプレーノズル

レヒラー社のノズル技術とソノシス社の超音波技術のコラボ商品

通常、細かい粒子を作る場合は、加圧が必要です。 若しくは二流体という流体を2つ使用して液体を砕く方法が主流です。 しかし粒子に速度があり過ぎると、その液体が飛散をしてしまい粗悪な環境を作ってしまうケースもあります。 それを改善する為にこの超音波スプレーノズルされる事が多...

メーカー・取り扱い企業： ティックコーポレーション株式会社

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体メーカーのお客様から信頼を得ています。...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

ICパッケージ開封装置

物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能！高選択…

イスのパッケージに適応した故障解析のための 開封装置を提供しております。 独自の新規プラズマ技術MIP(Microwave Induced Plasmaマイクロ波誘導プラズマ)を有し、 O2(酸素)プラズマを用いてパッケージを除去。 また、一つの装置内でエッチング、洗浄、乾燥、一連のプロセスを 自動で行うことが可能です。 【特長】 ■マイクロ波誘導プラズマ ■O2プラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

フォトリソ用小型現像装置

フォトリソ用小型現像装置

ル式　スプレー現像・パドル現像対応装置 【特長】 ・高性能、低価格、コンパクト卓上タイプ ・ワークサイズ　Φ1"〜Φ6" ・液晶タッチパネルにてプログラム入力簡単操作 ・薬液圧送ポンプ2系統を内蔵 ◆詳細仕様はカタログより◆...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トービ

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

【SEMICON JAPAN2022 Hall2 総合ゾーン＃2134に出展決定】 流体制御に欠かせないPACE圧力コントローラの校正デモが体験できます！高速圧力制御を実感しませんか？ 【生産ラインの圧力校正試験に圧力コ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

放電形式に誘導結合方式（Inductively Coupled Plasma）を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 　Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 　Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、 　Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ○新型のICPソース...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

加工形状などの紹介　メタルエッチング仕様

メタルエッチングの加工形状や断面形状、寸法公差についてご紹介致します

伸光写真サービス株式会社でおこなうメタルエッチングの加工形状や断面形状、寸法公差についてご紹介致します。伸光写真サービス株式会社のメタルエッチングをご検討中の方はぜひご覧ください。0.005t～2.0tまで加工できます。その他の板厚をご希望の場合はご相談ください。ステンレス、鋼材・鋼合金、真鍮、アルミニウム、りん青銅、ベリリウム銅、ニッケル、パーマロイ、その他を加工できます。エッチングでは外...

メーカー・取り扱い企業： 伸光写真サービス株式会社

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用すること...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマ処理装置（多目的プラズマエッチャー）

プラズマ処理装置（多目的プラズマエッチャー）

本装置は、平行平板型高周波プラズマにより、ポリイミド系樹脂・窒化膜等のエッチングやフォトレジストのアッシング（灰化除去）、表面改質等に有効な多目的枚葉式プラズマユニットです。 ウエハサイズ50〜200mm（2〜8インチ）、BGA・CSP等に対応しており、プラズマモードは、オペレーションパネルでDPモードとRIEモードを切り替える事が出来ます。また、搬送ユニットの後付けが可能な為、実験・研究施...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

エッチングキット『ロットくん』

プラスチック成形品の製造ロット管理に新方式！

【ラインアップ】 ■ロットくん 数字セット 　・N-1：数字8mm 　・N-2：数字5mm 　・N-3：数字3.5mm ■ロットくん 数字+英字セット 　・EN-1：数字、英文字8mm 　・EN-2：数字、英文字5mm 　・EN-3：数字、英文字3.5mm ※...

メーカー・取り扱い企業： 山陽セルプラ工業株式会社

エッチング技術

シンプルな窓抜き型から微細なデザインパターンまで、さまざま応用展開が可…

で、さまざま応用展開が 可能。 また、蒸着膜の上に耐アルカリ性塗膜を形成した後に化学処理する 化学的エッチングと、蒸着膜の下の水溶性塗膜を洗い流し、部分的に 蒸着膜を残す水性エッチングの2工法があります。 【特長】 ■フィルムに文字や図柄等、任意のパターンの蒸着模様を作る技術 ■シンプルな窓抜き型から微細なデザインパターンまで、応用展開が可能 ■“アルカリ・パスター”と“...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社麗光

半導体エッチング装置の世界市場レポート2024-2030

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバル半導体エッチング装置のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2024」を2月26日に発行しました。本レポートでは、半導体エッチング装置市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、半導体エッチング装置市場の開発方針と計画、製...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

【仕様(一部)】 ■PECVD装置 ・SiN3膜形成 ・SiO2膜形成 ・サンプルサイズ最大240mm ■スパッタ装置 ・金属膜 ・有機膜 ・サンプルサイズ最大150mm ■反応性イオンエッチング装置 ・表面処理 ・故障解析 ・サンプルサイズ最...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社