防爆スポットクーラー　DGR-1A/3A-SP/SPS

PR産業安全技術協会（TIIS）検定合格品でゾーン１（第一類危険箇所）とゾ…

防爆スポットクーラーは、危険場所のうちゾーン１（第一類危険箇）とゾーン2（第二類危険箇所）で使えます。 電源は三相200V、単相100Vの2種類。 冷媒回路は内圧防爆構造、制御回路は耐圧防爆構造、ユニットの装置はすべて防爆構造。 装置下部にドレンタンクを装備。 オプションにて電源コードの長さの変更可能(標準3ｍ)本体の移動や固定に便利なキャスター・ストッパー付きです。 【特徴】 ○ゾーン１（第一...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大同工業所 楠根工場

【資料】SOLIDWORKS 2024の機能強化を知る

PR当社最新の3D CADはここまでできる！SOLIDWORKS 新機能解…

製品の設計をする上で、3D CADツールは今や⽋かせないツールとなっており、 より便利で使いやすいツールへと進化し続けています。 本資料では、25年以上にわたり3次元CAD業界を牽引する、SOLIDWORKS 2024で 新たに搭載された拡張機能についてご紹介しています。 図面や、アセンブリなど作業の効率化のほか、以前からリクエストの多かった、 下位バージョンとの互換性も本バージョンでついに実...

メーカー・取り扱い企業： ソリッドワークス・ジャパン株式会社

Oリング フロロパワー3FW (3元系FKM-白色)

Oリングの桜シールによる白色タイプの3元系フッ素ゴム材質

フッ素ゴム（3元系）による白色タイプの材質で、優秀な耐薬品性や耐熱性を兼ね備え、充填剤にカーボンブラックを用いていないことからクリーン性（サニタリー性）に優れています。また、強酸や蒸気（スチーム）に対する耐性も有...

メーカー・取り扱い企業： 桜シール株式会社 日本本社

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

『3ICP＋2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 50...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

デバイス/オプトデバイスメーカー 　・大学/研究機関 ●装置サイズ(mm): 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) 　　　　 SiH4/O3系 (SiH4/PH3/B2H6/O3/O2/N...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント： ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3（炭化珪素）コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティンググラファイト Max1900℃ 高純度・耐熱性・高耐蝕性を要求される過酷なプロセス環境にも...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

、メンテナンス性（低負荷かつ長周期）を向上させています。 コンパクトな筐体サイズで、隣接設置も可能なので、フットプリントを最小化することができます。 ●装置サイズ(mm): 890(W) x 2300(D) x 2250(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高効率高周波電源

高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】

NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプにより、飛躍的に耐久性をUPさせました。 高効率アンプの弱点は、構造上、反射電力に弱いことでしたが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高周波RF電源・高効率パルスRF電源

高効率高周波電源【ローコスト・省電力・コンパクト設計】600W以上の耐…

【13.56MHｚ　1ｋW/3kW/5kW（パルス）】 NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR1NP】【NR3NP】【NR5NP】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプによ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

● 反応副生成ガスにも対応 　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他 　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 　集合表示灯及びタッチパネル（オプション）、シグナルタワーによりスピ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

ことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。 【特長】 ■必要生産本数により、様々な装置構成のご提案可能 ■3L容器までコーティング可能 ■3L以上の容器に関してもご相談下さい ■PET樹脂以外の樹脂材質に関してもご相談下さい ■金属材質に関してもご相談下さい ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

『事例集』半導体製造用バルブのヒューマンエラー対策※無料進呈中

【特に人気のある3事例をまとめて進呈中！】「バルブを変える」ことでトラ…

グループの一員である当社 ＫＩＴＺＳＣＴは 半導体製造工程用のバルブ・配管部材を20年以上製造・販売しております。 今回は半導体製造工程でのヒューマンエラー事例と対策をご紹介。 特に人気のある3事例をまとめて進呈中です。 ◎概要◎ ・バルブを閉止したつもりが半開状態だった ・間違って閉止バルブを開けてガスを流してしまった ・忙しい時や普段とは違う作業時にバルブを締め切らずに...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

標準基板サイズとタイプ＞ 〇100～200 mmウエハ最大50枚/バッチ 〇高アスペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

カーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 ■ナノカーボン材料を合成可能 ■3種類のラインアップ ■用途に合わせて選べる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

【仕様】 ○サイズ：1460mm(W)×3830mm(D)×2250mm(H) ○成膜速度：最大5000Å/min ○パーティクル：サイズ0. 22μm以上の増加量が15個以下 　　　　　　　　(8インチ、CVD成膜後) ○ガス種：...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

電子グレードCVD

横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グ…

継続的な技術革新と継続的な努力が、放射線治療用線量計などの 医療分野に方向性を与えていくことでしょう。 【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■結晶方位(ミスカット)：+/-3° ■結晶学：通常100%シングルセクター{100} ■エッジ：レーザーカット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■コンパクトな装置デザイン・構成 ■メンテナンス性と高い生産性の両立 ■優れた膜厚均一性と埋め...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカット) ：...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

光学グレード単結晶

側面粗さRaは、研磨済み、Ra＜5nm！光学グレード単結晶をご紹介しま…

当社が取り扱う『光学グレード単結晶』をご紹介します。 横の許容差は+0.1/-0.1mm、厚さは0.50mm。 エッジはレーザーカットとなっており、レーザーカーフは3です。 直径2.0mm、3.0mm、4.0mm、5.0mmのサイズをご用意しております。 【仕様と公差（一部）】 ■横の許容差：+0.1/-0.1mm ■厚さ：0.50mm ■エッ...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

商社が扱う【省エネ環境・安全システム エンジニアリング】

商社が扱う幅広い分野での省エネ環境・安全システム エンジニアリング！ …

【空気】 1.圧縮エアー漏れ測定の改善 2.エアーブロー工程の省エネ改善 3.エアーブロー間欠運転による 省エネ改善 4.コンプレッサーの省エネ診断 5.圧縮エアーのクリーン化、 フィルター管理 6.送風機の省エネ診断 7.真空ポンプの省エネ 8.バグフィルタ...

メーカー・取り扱い企業： 共和工機株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

大で1時間あたり100枚の成膜が可能です。 また、AMAX800Vのメンテナンス性を更に向上させたAMAX800V2もラインナップしております。 ●装置サイズ(mm): 1460mm(W) x 3830mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

Swan, Aixtron社等のレガシーMOCVD装置の制御ソフト入れ替え、ソフトウエアアップグレードに最適です。 (1) リアルタイム制御、監視 (2) イージーコントロールソフトウエア (3) 実績のあるパフォーマンス (4) 継続的に開発、改良され、サポートサービスを提供しています。 (5) 様々な他社レガシーMOCVD装置の制御ソフトウエアの入れ替え,更新可能 (6) 短期間...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

までのウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。 ●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

てきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、5G/6G、VCSELレーザー、フォトニクス、センサー、3Dセンシングなど様々な最先端分野の研究または生産ツールとして貢献しています。 日本国内では、伯東株式会社が総代理店として、同社製品の販売と保守サービスを提供しております。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

CVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。 (1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標準波長：930nm, オプション波長：530nm, 1550nm シングル波長...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

大流量セラミックガスフィルター

流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…

【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar（バルクガス）です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min（60〜180m3/Hr）です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧くだ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1860mm(W) x 5900mm(D) x 2100mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: ～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、ハウジングにはSUS316L材を使用しております。 ※半導体製造装置からＰＶ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

MOCVD装置　VEECO K465i G2用排気フィルター

MOCVD装置　VEECO　K465i G2

ガラス繊維ろ紙を使用、隙間分部が均一、ろ紙厚く、透過性よく、差圧低く、MOCVD装置の保護機能もある。 優れる強度があり、耐高温、耐食性、MOCVDの排気ろ過環境に最適。 1、寸法：　高さ：322mm，　内径：233mm，外径：359mm 2、Oリング：　内径：270mm，外径：340mm。 3、ろ過精度：粗いろ過100um，微細ろ過25um，全体ろ過効率15um@98%。 4、有...

メーカー・取り扱い企業： 愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール型熱式 チャンバー温度：最高350℃ プロセスレシピの例：Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, ZrO2, Pt, Ru カスタマーレシピ作成モードもあります インターロックと安全機構付き ...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

広い分野で汎用された金属ベローズ

金属ベローズは各種の真空装置や半導体製造装置に応用された部材です。

日揚科技(Htc Vacuum)は提供できる金属ベローズの種類は溶接ベローズや成形ベローや、フレキシブルチューブの3種類あります。 これらの製品は伸縮性がよくて、各産業の装置配管に汎用されています。例え：半導体・真空装置によく配管の伸縮継手として汎用されます。ベローズの製品もいつも真空装置などの配管工程に使われ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

【基礎知識】フッ素樹脂チューブライニングとは？

フッ素樹脂チューブライニングとは、金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブ（…

金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブライニングをすることにより、撥水性・耐薬品性・イオンの溶出を防止することが可能です。 【製品の特長】 ○ルーズライニングとは違い、パイプとフッ素樹脂が完全に接着した状態のライニングが可能です。 ○接着により熱伝導性に優れています。ライニング後にパイプを曲げることも可能となります。 ○フッ素樹脂の材質は、PFA、FEP、ETFEの３種類となります。 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コンパクトでしっかりした筐体設計、卓上実験台などに簡単設置 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

クリーンルーム対応5mm角ウエハ用小型ベルヌーイチャック

排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ば…

す。そのため排気が周囲のチップを吹き飛ばすことはありません。 　したがってクリーンルームにて仕様可能です。 ◎特徴　 1.　周囲のチップを吹き飛ばさない。 2.　周囲に排気を噴出しない。 3.　クリーンルームにて使用可能。 4．チップに傷、汚れを付着させない 5．チップにパッド跡をつけない。 ◎適応 ウエハ　ウエハチップ　微小レンズ　微小ワーク 　 ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

フッ素樹脂（テフロン）コーティングの工程

グレードによっては、プライマーとトップコートの間にミドルコートがありま…

製品の特長】 ○1.受入検査 コーティングをするにあたり、問題となる傷、打痕、溶接箇所などを点検します ○2.脱脂・空焼き 　 油分、付着物を取り除くため、脱脂→高温で空焼きします ○3.粗面化 　アルミナ研削材にて、付着物、空焼きによる酸化皮膜などを除去するために、ブラスト処理を行います。 必要であればブラスト後に溶射をします。 ○4.プライマー（下塗り） 　基材とトッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：< 0.2mm ■レーザーのカーフ：3 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

多結晶メカニカル

0.25mmと0.50mmの厚みをラインアップ！多結晶メカニカルのご紹…

当社が取り扱う『多結晶メカニカル』をご紹介します。 破壊靭性は8.5MPa、硬度は80±18GPa@300K。 横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mmです。 サイズは10.0x10.0mmで、厚みは0.25mmと0.50mmをご用意しています。 【仕様と公差】 ...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

ポリウレタンコーティングの施工基準

ポリウレタンコーティングの施工基準

【製品の特長】 ○1 受入検査 傷、打痕、溶接箇所などを確認 ○2 空焼き 　油などの不純物を除去 ○3 サンドブラスト 　錆や酸化皮膜などを剥がして、表面を凹凸にする ○4 プライマー（下塗り） 　基材とトップコートの間で、接着剤の役目 ○5 乾燥 　表面を乾燥します ○6 トップ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ