【展示会出展】医療機器部品の受託加工（ISO13485取得）

PRクリーンルーム（クラス10,000）完備！医薬・ヘルスケア製品の開発試…

弊社では、バイオサイエンス分野などで活躍する『樹脂製マイクロチップの受託製造サービス』をはじめ、医薬部品の受託加工を行っています。 『樹脂製マイクロチップ』では、ポリプロピレン系樹脂とエラストマー系樹脂から成るオリジナル樹脂材料を使用し 0.3～100μmというマイクロオーダーの加工が可能。さらに、均一な深さの流路を実現。 射出成形による量産に対応しており、低コストでの生産が可能です。 また、開...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リッチェル

【SDK-4】四ツ割切断機（縦割り・寸切り加工）

PR1台で、縦割りと寸切り、2通りの加工ができる機種

■動力：三相モーター0.2kw　　4P 5台 　 ■機械寸法：高さ1940mm・幅760mm・長さ1065mm ■重量：240Kg　　　　 ■能力：200kg/h以上 ...■特徴■ ■塩漬けの大根、胡瓜、茄子等に好適 ■四ツ割はもちろん、所定の長さに寸切りもできる ■付属の水車刃を取りはずせば、四ツ割専門機として利用が可能（1台2役） ■水車刃の取りはずしは簡単 ■その他機能や...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タカハシ 東京本社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロック...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

ンを検出するための、4;フラックスモニタリングプレート4;が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備えられており、同時蒸着時には各ポケットの蒸着レートをモニターすることができます。 TAU...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

【特徴】 ・高真空対応 ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高強度マグネット...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ24;（最大6）、Φ34;（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

8インチスパッタコーター　SC-708シリーズ

大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…

は、SEM観察または分析用大型試料のチャージアップ防止用として、また、一度に多くのサンプルの成膜処理を行ないたい場合に最適なスパッタコーターです。 【特徴】 〇サンプルサイズや数量に応じて、4、5、6、7、8と1インチ単位で選択が可能です。 〇コーティングモード/エッチングモード搭載 〇スパッタ薄膜作製はもちろん、マイクロチャネル流路形成時のPDMS表面処理にも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』

省スペース化を実現！同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

『HSK602VTA』は、6基の小型カソードが個別のシャッターと電源を 持ち、同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置です。 リボルバー式4サンプルホルダーを装備しており、一度の真空引きで 4条件の成膜ができます。 また、コンパクト設計により、省スペース化を実現しました。 【特長】 ■コンパクト設計 ■6カソード ■...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ハヤマ

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

　バッチ式／ロードロック式 ・カソード方式：　ロングスローマグネトロンスパッタリング　※ヘリコンスパッタ（通称）　※オプション ・カソード数：　2インチカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オプション ・到達圧力：　1×10-4Pa　以下 ・対応基板サイズ：　Ma...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有機デバイス開発用 ■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

a 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板 ■回転式...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、硬度...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

『立体物用スパッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソード...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

バッチタイプ（CFS-4ES）とロードロックタイプ（CFS-4EP-LL）の２種類の装置を揃えております。 それぞれ豊富なオプションもございます。 ご要望・ご予算等どうぞお気軽にご相談ください。 ※詳しくはカタロ...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

クリーンルーム・真空用アルミホイル

クリーンルーム内や真空チャンバー内で使用できる完全オイルフリー・コンタ…

おりません。クリーンルーム内でも安心してご使用いただけます。 完全クリーンなアルミ箔なので、真空装置内部例えば蒸着装置などの防着板の代わりとして使い捨てでご使用いただけます。 サイズも厚みと幅で4種類御用意しております。御用途に合わせてお選びください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

ッタリング(DIBS)となっております。 ご用命の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mmウエハ基板又は300mm×500mm基板対応 ■最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載 ■RFソース(120mm～350mm) ■リニアマイクロウエーブECRソース(2×380mm長) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

成膜装置 スパッタ装置

幅広い実績を誇ります。

本装置は、最大4元のスパッタガンを設置可能な成膜装置です。...

メーカー・取り扱い企業： バキュームプロダクツ株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

Fマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： 　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm 　チャンバーユニット：W3...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

したクラスター型スパッタリング装置。 基板搬送もベア及びトレイ（サセプター）も標準対応。矩形・小径・不定形 多くの基板に積極対応。 最大8インチ及び8インチ相当の矩形基板に対応。6角形タイプと4角形タイプの２機種を標準ラインナップ。 半導体以外の用途にも半導体の性能とクリーンネスを実現。 次世代開発用スパッタリング装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

高密度プラズマスパッタカソードを最大4元装備。量産対応の大型バッチタイプスパッタ装置。 立体形状基板の全面コーティングに対応した基板自公転機構を備え、小型機械部品の生産に最適。 実績豊富な各部機構と制御ソフトに加えデータロギングソフ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート！

●基板固定での高速成膜や、基板回転での大面積成膜が可能です。 ●タッチパネルによる操作性向上、ロギングシステムによるデータ管理が容易。 【各種　選択機能】 ●カソード変更（大型カソード化、4インチカソード多元化） ●高温加熱機構（800℃） ●バイアススパッタ機構 【ラインナップ】 ●ロードロック式スパッタリング装置 ●マルチチャンバスパッタリング装置 ●超高真空対応枚...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ24;マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

HEXシステムにはスパッタリングソース、抵抗加熱蒸着源、電子ビーム蒸着源、 有機物蒸着源の4種類の成膜ソースが用意されており、 最大3台を同時に取り付け可能です。 シンプルなコーティングから複雑な多層膜まで広範なアプリケーションに 対応します。 60cm x 60cmにおさまる...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％ の範囲内で膜厚分布を実現いた...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

。 正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。 HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

◆成膜源◆ ・Φ2inchマグネトロンスパッタカソード x 1 ・抵抗加熱蒸着源（最大2） ・有機蒸着源（最大2） ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー 応相談） ◆膜厚センサー◆】 ・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【書籍】薄膜の応力・密着性・剥離トラブルハンドブック

＜Ｑ＆Ａ集付＞ 手元に欲しい一冊！

発刊　　2007年10月　　定価　　9,500円 + 税 体裁　　B5判　225ページ　　ISBN　978-4-901677-86-8 ※詳細な内容につきましては、カタログをダウンロードください※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社情報機構

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

【仕様】 ■到達真空度：1×10^-4 Pa以下 ■リーク量：1×10^-8 Pa・m3/sec以下（Oリング透過分を除く） ■排気系：TMP+ダイヤフラムポンプ（またはロータリーポンプ） ■真空計 　フルレンジ真空計（コールド...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

『SPR-014-B』 は、基板側にバイアスを印加しながら スパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式 バイアススパッタリング装置です。 ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソースは、蝶ナット4個でチャンバーに固定することができることから、取り付け／取り外しの際に工具を必要としません。 反応性スパッタにも対応するので、酸化物や窒化物の成膜も可能です。 HEXでは最大3台、HEX...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

超高真空マルチチャンバー連結システム

φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ■...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

RAM インライン型スパッタリング成膜装置

パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。

RAMカソード（4面対向式低ダメージスパッタリングカソード） 及び強磁場プレーナーカソードを搭載したデポジションアップ式水平インライン型スパッタ装置です。 下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソー...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

TS（※1）の採用でカソード近傍の不均一プラズマの基板への影響とカソードマグネットの磁場の影響を最小限に抑制。 注）※1：LTS：Long Throw Sputter ・UHV対応（QAM-4のみ） ベーカブル対応の各機器を使用することで成膜室の到達圧力を1×10-6Pa（※2）以下に対応可能。 注）※2：Oリングシール構造を採用し、従来のメタルシールにより格段にメンテナンス性を向上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

よって制御することが可能です。 抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセスガスを使用しないことです。そのため高い真空度中で動作し、堆積した膜にほとんど不純物が含まれません。 TESソースは蝶ナット4個でチャンバーに固定されています。また、冷却水配管はクイックリリースコネクターにより接続されています。そのため、材料の補充やボート／フィラメントの交換を素早く行うことが可能です。 HEXでは最...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

め、周辺の磁場に影響することがない。 ◎広範囲波長でも安定な透過率を持つ。 製品仕様 1.真空度：1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃～500℃ 3.透過率:80％以上 4.波長範囲:200nm～4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続:KF或はCF 7.磁性:無 ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

非侵襲的血糖モニタリング装置の世界市場レポート2023-2029

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

2章：グローバルの主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第3章：中国の主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第4章：の世界の主要生産地域、パーセントとCAGR（2018～2029） 第5章：産業チェーン、上流産業、中流産業、下流産業 第6章：製品別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

レーザーアニーリング装置の世界市場の調査レポート

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

年まで、予測データは2023年から2029年までです。 ■レポートの詳細内容・無料サンプルお申込みはこちら https://www.yhresearch.co.jp/reports/279646/laser-annealing-machine グローバルレーザーアニーリング装置の市場は2022年の 百万米ドルから2029年には 百万米ドルに成長し、2023年から2029年の間にCA...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

グラウトモニタの世界市場動向分析2023　YH Research

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

2章：グローバルの主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第3章：中国の主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第4章：世界の主要生産地域、パーセントとCAGR（2018～2029） 第5章：産業チェーン、上流産業、中流産業、下流産業 第6章：製品別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

4インチ3源RFスパッタ装置

基板寸法は最大3インチで3枚収納可能！加熱機構・逆スパッタ機構を備えて…

当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード（3基）で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっております。 【特長】 ■基板寸法：最大3インチ（3枚収納可） ■基板ホルダー：基板加熱500℃、基板回転、逆スパ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社