MCA4A 4チャンネルMCA（マルチチャンネル・アナライザ ）

PRPHA（パルス波高分析）モードとMCS（マルチチャンネル・スケーラ）モ…

PHAモードでは、16ビットADCを8nsごとに4チャンネル連続して収集し、32kの分解能を実現しています。 ポールゼロ・フィルタと台形波シェーピングを備え、典型的なプリアンプ信号も処理できます。 MCSモードでは、右側の４つのBNCコネクタを用いて、Start, Stop1, Stop2, CHADVの各入力信号を処理します。 内部メモリに、最大16Mbinのスペクトルを蓄積することが...

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

【展示会告知】組込み/エッジ コンピューティング展出展のお知らせ

PR4月24日～26日で開催の「組込み/エッジ コンピューティング展」に共…

エブレン株式会社は、 東京ビッグサイト 東ホールにて2024年4月24日(水)～26日(金)の3日間にわたり開催される 「組込み/エッジ コンピューティング展」に下記の企業様と共同出展します。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。 〈共同出展社〉 ・理化工業株式会社 ・HPCシステムズ株式会社 ・株式会社ブライトシステム ・株式会社ユリ電気商会 ・株式会社ダックス ・株...

メーカー・取り扱い企業： エブレン株式会社 八王子事業所

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロック...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、44;、又は64;基板…

◉ 基板サイズ：Φ4inch、又は6inch ◉ SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

レート上面内温度差 設定温度に対して±1.5%以内 最大昇温速度 25K/min.（※対象物の熱容量に因る） 最大降温速度 10K/min.（※対象物の熱容量に因る） 窒素ガス 0.35～0.4 MPa（3.5～4 bar） プロセスガス供給ライン 手動ガス流量計 コントローラ Eurotherm 2416 プロファイルプログラム登録数 1プログラム プログラムステップ数 最大：1...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…

◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ14;〜Φ44;ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

・ヒーター：C/Cコンポジット(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(カーボン炉）, タングステン/モリブデン(メタル炉) ・有効加熱範囲：Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター（ガス流量手動調整） ・温度制御：デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度：1x10-2Pascal（*但...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 【特徴】 ○独立して稼動可能な処理室を2室有している ○生産の効率化、サイクル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

スーパータル　シングルウェハーリアクター

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

□■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ：SWR ■直径（インチ）：4・5・6・8・10 ■設置：縦もしくは横置き ■最高発熱体温度：1600度 ■出力：0.9W〜5.6ｋW ■少量からでも対応致します。詳細は、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

【その他の特長】 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能 ■最大温度 ・1100℃(基板上部ランプ加熱式、4 ゾーン) ・1300℃(基板上部ランプ加熱式、8 ゾーン) ・1300℃(基板上下部ランプ加熱方式、6 ゾーン) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

【その他の特長】 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能 ■最大温度 ・S20：1150℃、4ゾーン ・S20 HT：1450℃、10ゾーン ・2000：1250℃、10ゾーン ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

外熱型真空光輝焼戻炉・焼鈍炉　TOUVAC

金属レトルト外熱方式により、シール性・炉内雰囲気の再現性等アップ！

【特徴】 1. シール性アップ 2. 炉内雰囲気のコントロール性アップ 3. 炉内雰囲気の再現性アップ 4. 炉内雰囲気の汚染防止 【主用途】 各種マテリアルの光輝焼戻し・焼鈍し 仕様・性能等、詳しくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トウネツ 東海事業所

U字型ガラス曲げ炉の世界市場の調査レポートYH Research

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

年まで、予測データは2023年から2029年までです。 ■レポートの詳細内容・無料サンプルお申込みはこちら https://www.yhresearch.co.jp/reports/279845/u-shapes-glass-bending-furnace グローバルU字型ガラス曲げ炉の市場は2022年の 百万米ドルから2029年には 百万米ドルに成長し、2023年から2029年の...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

メルトセルガス化炉の世界市場レポート YH Research

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

2章：グローバルの主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第3章：中国の主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第4章：世界の主要生産地域、パーセントとCAGR（2018～2029） 第5章：産業チェーン、上流産業、中流産業、下流産業 第6章：製品別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

表面粗さ基準片の世界市場動向分析2023　YH Research

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

2章：グローバルの主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第3章：中国の主要会社の市場シェアとランキング、販売量、売上、平均価格（2018～2023） 第4章：世界の主要生産地域、パーセントとCAGR（2018～2029） 第5章：産業チェーン、上流産業、中流産業、下流産業 第6章：製品別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

バイオマス炭化炉の世界市場成長率2024-2030年

バイオマス炭化炉の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のバイオマス炭化炉の供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるバイオマス炭化炉の販売量と販売収益を調査しています。同時に、バイオマス炭化炉の世界主要メーカー（ブランド）、市場シェア、売...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

高温アニール炉の世界市場シェア2024

高温アニール炉の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別、…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の高温アニール炉の供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における高温アニール炉の販売量と販売収益を調査しています。同時に、高温アニール炉の世界主要メーカー（ブランド）、市場シェア、売上、...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、44;、又は64;基板…

◉ 基板サイズ：Φ4inch、又は6inch ◉ SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

・ヒーター：C/Cコンポジット(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(カーボン炉）, タングステン/モリブデン(メタル炉) ・有効加熱範囲：Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター（ガス流量手動調整） ・温度制御：デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度：1x10-2Pascal（*但...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社