新光電子株式会社　創業50周年記念サイトオープン

PR50周年事業としてリ・ブランディングを行いました。次なる50年で「全て…

弊社は、2024年4月1日に創業50周年を迎える事となりました。 創業当初より「オプト世紀を追及する」というキャッチコピーを掲げさせていただき、 半世紀を送りました。 次の50年を胸を張って迎えることが出来るのも、ひとえにこれまで関わっていただきました お取引先様、従業員やご家族、関係各位のご助力があってのことと、改めまして、 深く感謝の意を胸に刻む次第です。 この場を借りて厚く御礼申し上げ...

メーカー・取り扱い企業： 新光電子株式会社

ターミナルラバー/Ｄ型カーストッパー（衝撃吸収材）

PR日本製！ 抜群のクッション性で接触事故による建物や車輛の破損を防ぎシ…

・合成ゴム製でしかも中空形状なのでクッション効果抜群。 ・工場荷捌所などの建物の破損を防ぐ。 ・穴あき金具付きなので取り付けしやすい。 ・倉庫/配送センター/商品発着場/トラックテール/カーゴ車/パレットの当たり止め及び車止め ・御指定いただければ穴ピッチや穴の数も変更します。 ・長さも変更可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...材質...

メーカー・取り扱い企業： 信栄物産株式会社 本社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

セスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。 ◉ 他、多彩なオプションを用意...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

特性フィルターの生産が可能 ■リアクティブ成膜用イオンソースを搭載 　▶成膜時のイオン照射による基板上での酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 ■大型基板への成膜 　▶300mm もしくは 280×330×50 mm サイズの基盤（フラット、曲面）まで対応 　▶基盤加熱機構も組み込み可能...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

【仕様】 〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H)：225/420/32...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

全自動イオンコーター　SC-701AT

SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

【仕様】 〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：225/420/320 ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

低温装置用銅板プレート

低温環境で使用される、C1020製の低温装置用銅板プレートです。

【特徴】 〇概要　：低温装置用銅板プレート 〇素材　：C1020 〇サイズ：50×50×20 〇業界例：研究・実験...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイジェクト

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

ニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm 　チャンバーユニット：W370×D540×H400mm 所要電源：AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

Cスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 Intell...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

ド方式：　ロングスローマグネトロンスパッタリング　※ヘリコンスパッタ（通称）　※オプション ・カソード数：　2インチカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オプション ・到達圧力：　1×10-4Pa　以下 ・対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布：　±...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

g/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ ■真空計：フルレンジゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

・超高真空対応 　・低ダメージ成膜 　・最大4源搭載可能 ■基板ホルダー 　・基板加熱機構（常用800℃、酸化雰囲気対応） 　・基板回転機構（モーター回転） 　・基板昇降機構（ストローク50mm） 　・基板バイアス印加機構　※オプション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

■対応膜種：Ti、TiN、TiC ■最大搭載可能サイズ：φ12インチ×t50mm ■対応可能基板 　・Si Wafer 　・ガラス 　・フィルム 　・セラミックス 　・金属材（材質により制限させていただく場合があります） 　　他 ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

小型ウェブコーター(ロールＴＯロール）

実験用の小型成膜装置。ＰＥＴ等のフィルムに成膜します。

フィルム巾：100ｍｍ 厚み：50μ～100μ 長さ：200ｍ カソード：2SET RFボンバード可 仕様はお客様のご要望をできる限りお聞きし、柔軟に対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ）粘着ロール除塵装置

業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅…

■形式 ・ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ） ■ワーク幅 ・500ｍｍ～2500ｍｍ（2500ｍｍ以上はご相談ください） ■制御装置 ・電源/ＡＣ100ＶＡＣ/200ＶＡＣ、50Ｈｚ/60Ｈｚ ・エアー駆動/5-7ｋｇ ・ドライブ/フリーロール（駆動用電...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

【主な仕様】 ボート容量：1cc～5cc 温度範囲：50℃～2200°C（材料に依存） 電源：DC600W（オプション：1.5kW）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

【主な仕様】 ルツボ容量：15cc（10cc：オプション） 温度範囲：50℃～600℃ 電源：DC 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

グローブボックス連結型有機蒸着・スパッタ装置

トランスファーロッドにより、各室間を搬送！大気解放することなく連続成膜…

当製品は、50×50基板対応で、有機トランジスタ、EL素子用 抵抗加熱蒸着装置、酸化物用RFスパッタ装置をグローブボックスに 連結した装置です。 トランスファーロッドにより、各室間を搬送。 大気解放す...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社