異物除去装置　樹脂粉・フロス除去装置『マジックダストクリーナー』

PRプラスチック樹脂原料を空気輸送中に発生する樹脂粉・フロス・異物を1台で…

樹脂粉・フロス除去装置『マジックダストクリーナー』は、 樹脂原料で発生する粉塵・フロス等の異物を綺麗に除去する製品です。 振動式の原料供給部と、フィンを設けたフィーダー部で異物を高効率除去。 不良品を削減でき、トータルコストの削減につながります。 【特長】 ■インバーター制御により、吸引ブロワを数値で制御。目視確認が不要 ■静電除去装置を使うことで、さらに除去効率がアップ ■紙くず、糸くず、毛...

メーカー・取り扱い企業： エム・エルエンジニアリング株式会社

手作業と比べ1/60以下の時間短縮『CNCプラズマ自動切断機』

PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能！枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…

当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業（型紙墨入れ+実切断時間）に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 　・直角切断 　・斜め切断 　・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エトロンシステム

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, H...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 Intell...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D395mmサイズで卓上型 ■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

スパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空装置用冷凍機SUPCOLD

シンプルな構造で低価格を実現。消費電力、設置スペース、GWPの低減にも…

・冷却温度：－100℃～－140℃ ・最大負荷：2,000W～3,500W ・排気速度：100,000～220,000L/sec ・同様の装置に比べて、消費電力の削減、スタンバイ時間が 　短縮されております。 ・冷媒ガス：HFC、HCFC（規制）使用可能。 ...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』

コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置

【仕様】 ■基板サイズ(インチ)：4(MAX) ■真空排気系(主排気)：クライオポンプ(8インチ 1700L/s：N2) ■真空排気系(補助排気)：ドライポンプ(500L/s：N2) ■金属蒸着源(ボート式)：3 ■金属蒸着源(ルツボ式)：1 ■有機蒸着源(ルツボ式)：4 ■ヒーター機構(L室/D室)：各1 ■グローブボックス接続：各社対応可能(※本装...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

1軸/2軸トランスファーロッド

UHVチャンバー間でサンプルを輸送することを目的とした1軸サンプルトラ…

ー間でのサンプル輸送に好適。 空気側と真空側にある希土類磁石のセットは、ハンドルから内側軸への 強固な結合を確実にするために必要な力を発揮します。 【ラインアップ】 ■RM40-0500-0030 ■RM40-0750-0030 ■RM40-1000-0030 ■RM40-1250-0030 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

『貼りROBO』製品カタログ

「貼り」を極めた、高精度な貼付装置を掲載しています

【掲載製品】 ■HRシリーズ ・HR-85 ・HR-E30 ・HR-1510 ・HR-E60 ・HR-E500T ■APSシリーズ ・APS-SD ・APS-60ER ・APS-80E ■枚葉フィルム供給ユニット ・HR-E30M ・HR-E60M ・HR-E30T ・HR-E60T ...

メーカー・取り扱い企業： JPテック株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTLシリーズ）

弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際に最適です。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, H...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

置の中で回転させながら成膜することで、ご指定の部位へ成膜が行えます。 また、保持方法等の工夫により段差部や溝・穴の内部への成膜が可能な場合もあります。 φ1ｍｍ以下の 小さなもの から、φ500ｍｍ×L500ｍｍの立体物、800ｍｍ×1000ｍｍの平板など、サイズや形状に柔軟に対応可能です。 保持（固定）が難しそうでも、当社には35年以上の豊富な経験とノウハウがありますので、まずは...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【大阪　アルミ加工　旋盤　マシニング】

アルミ加工　アルマイト処理　大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 液晶製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 旋盤加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 500個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ精密部品となります。 旋盤加工での製作です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホームページをご覧の上お...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

大型高真空蒸着装置

精密品から海上輸送の大型構造物まで、非鉄金属加工のスペシャリスト！

【特長】 ○新技術事業団から真空熱処理炉のライセンスを得て製作 ○アルミ合金製で、世界最大（チェンバー内寸：直径2,400mm×長さ3,500mm） ○従来のステンレス製に比べ、重量は約1/2 ○チェンバーからの放出ガスは極めて少ない ○チェンバー内部の輻射が小さく（SUSの1/10）なるため温度分布が均一 ○熱効率も良く、容易...

メーカー・取り扱い企業： 赤星工業株式会社