大型FDM方式3Dプリンタ『Modix BIGシリーズ』

PR誰もが簡単に大型造形を始められるFDM(熱融解積層方式)3Dプリンタ組…

『Modix BIGシリーズ』は、大型造形を誰でも簡単に始めることができるFDM(熱融解積層方式)3Dプリンタ組み立てキットです。 安定した造形を実現するための自動補正機能など、数々の機能を揃えています。 [特徴] ■水平出しを自動で補正 テーブルの水平度はモデルの品質を左右するため、水平出し作業は重要な工程になります。 「Modix BIGシリーズ」は完全自動で設定することができ、造形前の適切...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社システムクリエイト

【コーター】小型塗工機、低価格、短納期、試作、選べる塗布方式

PRダイ、グラビア、ロールコート、ロールtoロールの装置を小型、低価格、短…

コアボックスジャパンはコーターやロールプレスなどの二次電池試作設備、 高機能フイルム関連のコーターなどの装置を低価格、短納期で提供します。 また、制御盤設計製作、制御システムの構築を得意とする電気部門があり、様々な装置の制御お任せください。 当社の『コーター』は、小規模な研究施設に適した小型のものから、 生産機まで幅広く対応しています。 塗布方式もお客様のニーズに適した提案をい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コアボックスジャパン

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　OLED

有機EL等の有機薄膜デバイスの開発に最適、抵抗加熱型蒸着源

★ラインナップ★ ●小型サイズ（1cc） のOLED１ ●中型サイズ（10cc）のOLED２ ★特長★ - 揮発性有機物の低温蒸着に適した独自のデザイン - 50℃〜600℃での熱コントロールが可能 - 高パフォーマンス：2Å/秒以上の一定速度で成膜が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Sof...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％ の範囲内で膜厚分布を実現いたします。 詳細はお気軽...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

3連式電子ビーム蒸着装置

メンテナンス性・作業性が簡便！リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を採用…

、メンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を 採用しております。 【特長】 ■基板寸法：最大φ3インチ ■基板加熱温度：常用600℃ ■リフトオフ成膜機構：特殊遮熱機構採用 ■電子ビームガン：ハース3連手動スライド移動式 ■EBガンメンテ機構：EBガンスライド移動機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

フリーマウント式金属蒸着源『KFMD-1』

メンテナンスフリー！ボートタイプで取扱容易なフリーマウント式金属蒸着源

° ■ボート材質：Ta・Mo・W ■ボート容量：0.5cc ■最大ボート温度：Ta(Max1400℃)・Mo(Max1200℃) ■蒸着材料：LiF・MoO₃・In ■消費電力：60Ａ/600Ｗ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Sof...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

3源抵抗加熱蒸着装置

EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

す。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社