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35件 - メーカー・取り扱い企業
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450件 - カタログ
12120件
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PR産業安全技術協会(TIIS)検定合格品でゾーン1(第一類危険箇所)とゾ…
防爆スポットクーラーは、危険場所のうちゾーン1(第一類危険箇)とゾーン2(第二類危険箇所)で使えます。 電源は三相200V、単相100Vの2種類。 冷媒回路は内圧防爆構造、制御回路は耐圧防爆構造、ユニットの装置はすべて防爆構造。 装置下部にドレンタンクを装備。 オプションにて電源コードの長さの変更可能(標準3m)本体の移動や固定に便利なキャスター・ストッパー付きです。 【特徴】 ○ゾーン1(第一...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大同工業所 楠根工場
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PR環境配慮型製品の開発にお役立ていただけるプラスチック材料各種をはじめと…
我が国は資源小国であり他国に資源を依存しています。また、人類80億人時代にたった1度の使用で物を廃棄することは資源効率が不十分であると思います。 そうした考えのもと、当社ではリサイクル材料を各種開発・販売しております。これらのリサイクル材料等を活用した製品を設計・開発していただくことで、循環型社会の実現やSDGsの達成に貢献することが可能です。 【リサイクル材料のご紹介】 ・エコマー...
メーカー・取り扱い企業: 緑川化成工業株式会社 本社
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B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ IG-10(NW25)』
センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…
広帯域(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa)の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。 また、多様なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa) ■簡単なセ...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE(最大4源)、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE(最大2源)を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
Φ4inch ◉ スパッタリング:2"カソード x 最大3源 ◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4) ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000lay...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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簡単操作のTMP排気システム採用!拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…
下 ○蒸着用電極:2組 ○ガラスベルジャー:内径φ160mm×215mmH ○寸法(W/D/H):340/460/544mm [蒸着電源:SVC-7PS80] ○ヒーター電源:12V 45A/7V 80A ○寸法(W/D/H):340/410/205.5mm...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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堅牢な冷陰極型電離真空計
(特長) ●堅牢な冷陰極型電離真空計 ●小型のボディーで省スペース化が可能 (仕様) ・出力信号 :a)フォトリレー出力 容量DC24V、0.5A b)アナログ出力 0?5V F.S. 主力インピーダンス1KΩ ・使用温湿度 :5?40℃、?90%(結露なしで) ・電源 :AC100V±10%、10VA以下(50...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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【PREVAC社製】6個の水晶振動子のモニターおよび制御が可能です。6…
PREVAC社製 蒸着用成膜コントローラー「TMC-13」は、膜圧モニター/プロセス制御システム付きで、6個の水晶振動子のモニターおよび制御が可能な装置です。 6.5インチ液晶タッチパネルで操作が簡単で、シ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A(蒸着装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・基板サ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…
◉ nanoベンチトップシリーズ 薄膜実験装置 - nanoPVD-S10Aマグネトロンスパッタリング装置 - nanoPVD-T15A有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEALウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフレ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…
【仕様】 ○到達圧力 6.7×-5Pa以下 ○排気速度 大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源 電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱 MAX150℃ 常用100℃ ○膜厚分布 ±1%以内 (バッチ内、バッチ間) T/S=900mm ○排気系 クライオポンプ、ドライポンプ、メカニカルブースターポンプ ○真空槽 W800mm × D...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能!排気操作は全自動…
台 ※常温・無負荷・脱ガス時 ■排気速度:大気圧から30分で2.0×10^-4Pa ※常温・無負荷・脱ガス時 ■真空室径:φ230mm×240mmH 硬質ガラス ■蒸着機構:抵抗加熱方式 ・AC電源2極(切替式):金属用 ・AC電源:12V0~45A/7V0~80A ■基板形状:□100mm以内ご希望形状 ■真空排気系 ・油回転ポンプ:50L/min[50Hz] ・ターボ分子ポ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社
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卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置
『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな 蒸着装置です。 電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分...
メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社
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BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃
学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
【仕様】 最大放電出力:6kW (160V, 38A) 動作圧力:1×10-2~1×10-1 Pa (Ar、O2、N2雰囲気中) ※詳細はPDFをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
【仕様】 最大放電出力:3.2kW (160V, 20A) 放電ガス(Ar):8~20mL/min ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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改善成功事例 事例2 金属蒸着セル KMDW-Cell
◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、 大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。 また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメン...
メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4 ・プロセス制御:手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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温水でフラスコに入っている有機溶剤を蒸発させる装置の開発概要をご紹介し…
【仕様】 ■外観寸法:W1800xD700xH1600 SUS製 ■槽内寸法:W1380xD390xH750 塩ビ製 ■冷却方式:空冷式チラー AC200V 10A ■加熱方式:シースヒーター AC100V 1200W ※別途工場エアーと排気設備が必要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンメック
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学生向けの実験や教材作りに!卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置
『Meius Light』は、一般家庭のAC100V壁コンセントから 導入が可能な卓上蒸着装置です。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸...
メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE(最大4源)、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE(最大2源)を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
【装置構成事例】 *Chamber-1. MiniLab-E080A(蒸着装置) ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・Φ2"マグネトロン...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
) ・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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半導体製造装置のアルミ精密部品 大阪 【コストダウンはフィリール株式会…
♦材質 A5052 (アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 ♦表面処理 - (日本国内) ♦個数 200個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ...
メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動、又は自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
cc/5cc) ・電子ビーム蒸着:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
c) ・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アルミ加工 アルマイト処理 大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお…
♦材質 A5052 (アルミ) ♦業界 半導体製造装置 液晶製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 旋盤加工 ♦表面処理 - (日本国内) ♦個数 500個 ♦説明 ...
メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社
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カフマングリッドレスイオンソース一式
The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam currents meet critical arriv...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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EB源増設ポート付!4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…
構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法:100×100 ■基板加熱温度:常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源:100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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