『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献

PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…

当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し 低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。 さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。 半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。 【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

AR(拡張現実)用ガラスウエハー　RealView(R)

PRSCHOTT RealView(R)はAR(拡張現実)向けに開発された…

SCHOTT RealView(R) は、拡張現実（Augmented Reality）向けに開発されたガラスウエハーです。拡張現実技術は、仕事中や休暇中、そしてコミュニケーションの仕方まで、私たちの日常生活を変えることが期待されています。 ショットは材料メーカーとして、高い視野角と画質を可能にするRealView(R)を提案します。...【製品特性】 ・厚みを最小限に抑えることで、材料強度を...

メーカー・取り扱い企業： ショット日本株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

外部共振型　半導体レーザー装置

外部共振型　半導体レーザー装置

超低反射率ARコート付き半導体レーザー 外部共振器型波長可変半導体レーザー 【特徴】 ○LD端面にARコーティング ○小型 ○操作が容易 ○スタンダードなリトロー型、リットマン型、高出力タイプや ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルミネックス

ビューイングポート（ビューポート）

覗き窓から高真空容器の光信号入出力まで、用途に合わせてご用意しています…

途に応じて、様々なタイプのビューイングポートをご用意しています。 【特長】 ■豊富な窓材（グラス7056（ホウケイ酸グラス）、溶融石英、サファイヤ等） ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き ■広範囲の波長用のビューイングポート（ZnSe, CaF2, MgF2　等） ■レーザー用のビューイングポート（780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Exc...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

高精度低荷重フリップチップボンダーCB-600 アスリートFA製

搭載精度±1[μm]、超低荷重0.049[N]を実現！極低荷重対応の高…

で交換可） また、汎用性の高い装置コンセプトにより、各種パッケージ(※１)、 各種接合プロセス(※２)に対応しています。 ※１MEMS、５G、データ通信、ミリ波センサ、フォトニクス、 AR分野など ※２ACF、ACP、NCF、NCP、はんだ、超音波など 【特長】 ■極低荷重対応 ■高精度ボンディング ■高精度Z軸制御を生かしたツールの引き上げ動作 ■ツール交換で超音波...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

ト比較表です。 ニデックでは、乾式・湿式のコーティングからご要望に合った処理方法を ご提案。 真空蒸着処理「Lequa-Dry」は、低コストでガラス・樹脂などの素材に 反射防止膜(ARコート)を形成。反射の低減により、ディスプレイの視認性向上や レンズの透過率アップによる光量増加などに活用できます。 また、反射防止膜(ARコート)による課題解決事例もご紹介しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニデック コート事業部

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、硬度なta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、 強制的にイオン化率を上げなければなりませんでした。 【当社が開発したRAMカソード】 ４面に対向す...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

マニュアル式フリップチップボンダーCB-505 アスリートFA製

少量生産、各種実験に適したマニュアル式フリップチップボンダー

『CB-505』は、汎用性の高い装置コンセプトにより、各種パッケージ(※１)、各種接合プロセス(※２)に対応しています。 ※１　MEMS、５G、データ通信、ミリ波センサ、フォトニクス、 AR分野など ※２　ACF、ACP、NCF、NCP、超音波など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

卓上型フリップチップボンダーCB-200 アスリートFA製

超省スペース、100[V]電源対応のセミオートFCボンダー

品種生産に適応します。 汎用性の高い装置コンセプトにより、各種パッケージ(※１)、各種接合プロセス(※２)に対応しています。 ※１　MEMS、５G、データ通信、ミリ波センサ、フォトニクス、 AR分野など ※２　ACF、ACP、NCF、NCP、超音波など...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

メタルプラズマコーター「AT-ET」【導電性薄膜を作製！】

省スペース&低コストで導電性薄膜を作製！電子顕微鏡観察時に金属被膜のコ…

メタルプラズマコーター「AT-ET」は、電子顕微鏡観察時における試料の帯電を防止するためのAu（金）、Ag（銀）、Pt（白金）等の導電性薄膜を作製する装置です。ロータリーポンプを本体に内蔵したことで、省スペースでの設置が可能となりました。真空度の表示は読み易いデジタル表示で、ボタン1つで排気～コーティング～終了（標準処理時間約5分）までを自動で行える簡単操作のコンパクトなメタル薄膜作製専用コーター...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エーティーエー

真空容器事例「小型実験用チャンバー」

真空容器事例「小型実験用チャンバー」

真空容器製作事例 《フレキシブルな受注範囲》 チャンバーだけでなくプラズマ電源、スパッタターゲット、回転導入機構等を含む ユニットとしての対応が可能 《幅広い製作範囲》 材料(SUS,Al,Ti他)、形状(角型、筒型、水冷他) 《グレードに応じた表面処理》 1、酸洗浄：低コスト 2、電解研磨：SMC洗浄、サスピカ、アルピカの高グレード対応可能 3、バフ研磨、各種めっき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFを...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

【国産】ペン型大気圧プラズマ装置

表面改質・洗浄・親水処理・接着強化に優れた低温電荷ダメージ無し！ペン型…

『樹脂』『金属』『ガラス』の『基板』『チューブ』『繊維』『粉体』など様々な材質の『濡れ性向上』『接着強化』『洗浄』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂けます！ ペン型トーチ採用で微細な加工やラボ用途に適し、初心者でも簡単に取扱いできます。 【特長】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によっ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

スパッタリングの基礎知識

【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…

フィルムやガラスの基材の表面に薄膜を形成する手法には、塗布、印刷、 めっき、蒸着などがありますが、金属やセラミックで構成されるナノレベルの 薄膜を精度高く形成するために使われるのが「スパッタリング」という技術です。 実際のスパッタリングにおいて「石」の役割を果たすのが、真空の容器 （真空チャンバー）内に充填されたアルゴン（Ar）などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真空中にア...

メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社

コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」

ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。

マルチコンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」は、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特長】...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ペン型大気圧プラズマ装置P500-SM

【国産】超小型、微細な加工やラボ用途に適した、ペン型タイプの大気圧プラ…

洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、ペン型タイプの大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。 【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

窓交換式高真空用ビューイングポート（ビューポート）

窓材の交換が簡単にできます！

取り外せるため、窓材の交換やクリーニングなどを簡単に行うことが可能です。 窓材はホウケイ酸グラスまたは溶融石英から選択できます。溶融石英は波長域に応じて4種類のラインナップがあります。 - ARコートなし - UV(290~370nm) - Type-A (350~700nm) - Type-B(650~1050nm) - Type-C(1050~1620nm) また窓材のみ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

超高真空用ビューイングポート＆電流導入端子※総合カタログ進呈中

官公庁、研究機関、大学の方必見！当社が扱っているビューイングポート（ビ…

47ページに渡り掲載しています。 【特長】 ■短納期、低価格で提供！ ■豊富な窓材（グラス7056（ホウケイ酸グラス）、溶融石英、サファイヤ等） ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き（溶融石英）あり ■広範囲の波長用のビューイングポート（ZnSe, CaF2, MgF2等） ■レーザー用のビューイングポート（780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

高出力RFイオンソース 「ISG-180」

広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。

広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / 　イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10％以下（1300、1550...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

幅広ロールコーター『FRC-500VT』

幅600mmまで対応！フィルムにスパッタにより成膜するウェブコーター

『FRC-500VT』は、幅600ミリまで対応のウェブコーターです。 PET等のフィルムにスパッタにより成膜します。 巻き上げはフィードバック制御です。 ロールコーターは複数台納入し、ご好評頂いております。 その他スパッタリグ装置も多数手掛けております。 カソード用マグネットからターゲットの手配まで全てお任せください。 【特長】 ○セッティング性に優れている ○サーボによる細か...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

プローブに原子を採用した表面分析装置（CAICISSの発展版）

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

『TP-50B』は、電波法による設置許可申請も不要の50Ｗ型で、操作も簡単、 気軽にプラズマ加工が行える卓上プラズマエッチング装置です。 独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能で、半導体故障解析用試料の 前処理（配線の露出）から、各種プラズマ加工に幅広く対応致します。 また小型のため、スペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとD...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

『立体物用スパッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』

GaN基板の処理も可能！コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装…

『RLA-3100-V』は、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応可能な コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置です。 耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、 N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。 また、自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現します。 【特長】 ■～6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応 ■自...

メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

株式会社芝橋　ラッピング装置

産業分野に最先端のスーパーフィニッシングソリューションを提供

【掲載製品】 ○卓上ラッピングシステム →EJ-200IN →EJ-300IN / EJ-380IN ○超精密ラッピングシステム →EJW-400IFN →ARシリーズ ○精密大型ラッピングシステム →EJW-610/710/910/1200I-3AL ○両面ラッピングシステム →EJD-5BT →EJDシリーズ　150AV/170AV/250A...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社芝橋

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

当製品は、当社が得意とするスパッタリング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方式 ■超低温冷却ステージ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」

樹脂レンズへの成膜に最適！大量生産を高次元で実現する光学薄膜用蒸着装置…

光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」は、Sapio 1300 のテクノロジーを盛り込みつつコストパフォーマンスに磨きをかけたAR コート専用 スタンダードマシンです。 ＲＦイオンソース、光学モニター、反転パレットなど多彩な仕様選択が可能です。 【特徴】 ○量産性能と作業効率を高次元で融合 ○設置スペースは1300...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

【事例集】新研磨装置『PERET』ソリューション

受託分析をする際により微細で、詳細な分析結果欲しいと思った経験ありませ…

、 多数ご紹介しています。 【掲載事例】 ■斜め研磨 　・樹脂上金属メッキの界面分析事例 　・自動車ボディ塗装の分析事例 　・アルミ表面アルマイト処理の分析事例 　・樹脂レンズ表面AR膜の分析事例 　・薄膜製造プロセスの異物分析事例 　・IC半導体の内部分析事例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パルメソ

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

後酸化式スパッタリング装置

多層の光学薄膜に最適な後酸化式スパッタリング装置です。

カバーガラス用ARコート、自動車用光学部品に採用されています。 ご要望・ご予算等どうぞお気軽にご相談ください。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

特許技術のラミナーフロー方式 　YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、 　加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。 　平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを 　除去するのに効果的です。 チャンバー内にパーティクル除去フィルタを搭載 　加熱されたプロセスガスは100um径...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

PRIME TECH-アダプタ-CWT

多領域で使えるアダプタ

/CAE 5V～56V)； Low Wattage Adapter：24W~60W (ABL/ABN/ABS/ADF/ADG 12V～48V) 5W~18W (AAG/ AAJ/ AAQ/A AR/ AAU/ ABE/ ABB/ ACA/ ACE/ ACF/ ACG/ACH/ACT/ACS/ADB/ADE/KPD 5V/9V/12V)； IP66 Adapter：30W ( 2ADF03...

メーカー・取り扱い企業： PRIME TECH SOLUTIONS Co., LTD PRIME TECH (Shanghai) Co., LTD