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プラスチックジャパン、フィルムテックジャパンに共同出展します
PR機能性ポリマーやゴム用添加剤、3Dプリンタ用樹脂複合材料などを展示!
大塚化学株式会社は、幕張メッセで開催される高機能素材Week 「プラスチックジャパン」と「フィルムテックジャパン」に 東山フイルムと共同出展いたします。 当社は機能性ポリマー「TERPLUS(タープラス)」、機能性無機材料 「TISMO(ティスモ)」「DENTALL(デントール)、機能性樹脂複合材料 「POTICON(ポチコン)」、ゴム用添加剤「ACROAD(アクロード)」、 3D...
メーカー・取り扱い企業: 大塚化学株式会社
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ワンバス式真空洗浄乾燥機『HEARVY』※無償洗浄テスト実施中
PR「CLOVA」から進化したワンバス!バスケットを正面から入れるため作業…
『HEARVY』は、炭化水素系ワンバス式真空洗浄乾燥機です。 従来機「CLOVA」の仕様・性能はそのままに、バスケットの投入取出を 正面にして、フリーローラーコンベア上を押す引くようにしたので、 作業性が大幅に向上。 バスケットの給除材を自動で行う場合、フリーローラーコンベアを チェーンコンベアに変えるだけで、簡単にできます。 【特長】 ■ローダー・アンローダーを付ける場...
メーカー・取り扱い企業: 新和産業株式会社 環境・洗浄事業部
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◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ:405(W) x 415(D) x 280(H)mm...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (P...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 ...【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar(バルクガス)です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min(60〜180m3/Hr)です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ
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【資料】アクア プラズマ~画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術~
Aqua Plasmaの効果として、ESCAによる表面の深さ分析結果な…
当資料では、アクア プラズマの画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術を ご紹介しています。 Aqua Plasmaの効果として、銅サンプル表面の酸化深さをESCAで Arビームエッチングを用いながら組成分析した結果などを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■はじめに ■Aqua Plasmaの効果 ■ESCAによる表面―深さ分析結果 ■フォトレジストの除去レー...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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