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  • プラスチックジャパン、フィルムテックジャパンに共同出展します 製品画像

    プラスチックジャパン、フィルムテックジャパンに共同出展します

    PR機能性ポリマーやゴム用添加剤、3Dプリンタ用樹脂複合材料などを展示！

    大塚化学株式会社は、幕張メッセで開催される高機能素材Week 「プラスチックジャパン」と「フィルムテックジャパン」に 東山フイルムと共同出展いたします。 当社は機能性ポリマー「TERPLUS(タープラス)」、機能性無機材料 「TISMO(ティスモ)」「DENTALL(デントール)、機能性樹脂複合材料 「POTICON(ポチコン)」、ゴム用添加剤「ACROAD(アクロード)」、 3D...

    メーカー・取り扱い企業： 大塚化学株式会社

  • UHPLC用配管 MarvelX / MarvelXACT 製品画像

    UHPLC用配管 MarvelX / MarvelXACT

    PR工具不要、軽く手締めするだけで接続できる、UHPLC・超高速液体クロマ…

    『MarvelX』は、独自のシール技術によってゼロデッドボリュームを実現し、 より良いクロマトグラムが得られるUHPLC用のフィッティングです。 工具を使わず、手締めで簡単に接続可能で、 しかも軽い力で締められ、フィッティングの耐用年数が向上。 ポートの摩耗も抑え、UHPLCシステムのコストを削減することができます。 チューブ交換が可能でランニングコストを削減できる『Marvel...

    メーカー・取り扱い企業： IDEX Health&Science 株式会社

  • ソフトエッチング装置【nanoETCH】 製品画像

    ソフトエッチング装置【nanoETCH】

    ＜30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細…

    【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

    連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』 製品画像

    卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

    独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

    『TP-50B』は、電波法による設置許可申請も不要の50Ｗ型で、操作も簡単、 気軽にプラズマ加工が行える卓上プラズマエッチング装置です。 独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能で、半導体故障解析用試料の 前処理（配線の露出）から、各種プラズマ加工に幅広く対応致します。 また小型のため、スペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

  • ドライエッチング装置 製品画像

    ドライエッチング装置

    RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

    『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとD...

    メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

  • アッシング装置 製品画像

    アッシング装置

    エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

    『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方式 ■超低温冷却ステージ...

    メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

    連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

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