各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8…

『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【カタログ進呈！】高性能オシロスコープ　PicoScope

PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 ３ GHｚ ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8－12ビット ・メモリ４GS ・アナロ...

メーカー・取り扱い企業： Pico Technology Ltd.

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

レジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。 グレイスケールリ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

【半導体】量産向け半導体用レチクルが欲しい

熟練した技術スタッフが特殊なご要望にもチャレンジ！EBデータでもGDS…

日本フイルコンは、半導体向けのフォトマスクとしてディスクリート、 パワーデバイス、ASIC、マイコンなど、0.35µmルールを中心として 数多くのレチクルの納入実績があります。 2001年にOMEGA導入後、積極的に設備投資を行なってきました。 量産工場の品質を保証するだけの...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社

水素センサー、濃度計測、溶存水素、水素燃料

用例；EVバッテリー開発（発生水素をオンライで計測）水素ジェット・ター…

センサー単体が水素限定タイプです。（パラジウム・ニッケル合金超薄膜センサー素子技術使用） リファレンスガス不要。自動校正タイプ。ASIC搭載。 レスポンスタイム１秒。 ガスクロレベルの濃度計測精度。アナログ出力・各種デジタル出力対応。 容易な取り付け、メンテナンス費用の大幅削減可能。 使用・搭載実績； 欧米の変圧器中絶縁...

メーカー・取り扱い企業： TRANS-PAC SALES CORP