• HallinSight 3D ホール効果 磁場カメラ 製品画像

    HallinSight 3D ホール効果 磁場カメラ

    PRHallinSightのベクトル式磁場イメージング技術によって、「3D…

    HallinSightは、Flaunhofer IIS(フラウンホーファー集積回路研究所)によって開発され、以下の特長があります。 ・見えなかったものを見えるようにする 3軸磁場カメラです。 ・動的な磁場をリアルタイムでマッピングできます。 ・X,Y,Z 3軸を同時測定するホールセンサ・アレイを用います。  ⇒ 32×32点、16×16点、32×2点の3種類があります。  ⇒ 各々2...

    メーカー・取り扱い企業: 大栄無線電機株式会社

  • 【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA 製品画像

    【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

    PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…

    IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • 落下衝撃試験機 製品画像

    落下衝撃試験機

    落下衝撃試験機

    Drop impact tester, drop test, drop impact tester impact testing machine The drop impact tester thickness <1mm 50 designated by the impact of high dirt from plastic film or sheet per cent applies to ...

    メーカー・取り扱い企業: ラブシンク インスツルメンツ株式会社

  • ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム) 製品画像

    ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム)

    ARPESでのXPS観察・測定に!次世代のARPES測定装置の紹介です…

    ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム)、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム) 製品画像

    HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム)

    放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!

    今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により9.25keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed ...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • DA30-L (光電子アナライザー) 製品画像

    DA30-L (光電子アナライザー)

    ARPES分析アナライザーの紹介

    ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【特長】※英文 ●30° degrees full cone acceptance without sample rotation ●Spin-resolved MDC without sample rotation ●Patented (WO2013/133739) ●Improved ky accuracy (resolution bet...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • 最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC 製品画像

    最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC

    日々のメソッド開発の課題を解決!既存システムの段階的なアップグレードも…

    『1260 Infinity II メソッド開発システム』は、最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したシステムです。 100種類を超える、異なるLC分離条件での、自動スクリーニングが可能で マニュアル操作は不要。15の異なる移動相および2つの独立した温度ゾーンで、 4本までのカラムを用いたメソッド開発が可能です。 新しい 1260 Infinity II フレキシ...

    メーカー・取り扱い企業: アジレント・テクノロジー株式会社

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