電流導入端子

PR高真空、超高真空へ の電流導入端子です！

米国MPFプロダクト社の電流導入端子のご紹介です。 ■MIL丸型、C-Sub型のマルチピン、熱電対、高電流・高電圧タイプ、同軸タイプ等各種電流導入端子を取り扱っております。 ■電流導入端子と併せて使用するコネクタ、ケーブル等もお取り扱いがございます。 ■標準品のカスタマイズ（フランジの変更、ピン長さの変更等）にも対応しております。まずはお問い合わせ下さいませ。 ※詳しくはカタログを...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

新発売！低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」

PR成形機周辺の配管に！狭いピッチにも対応、レンズ部分のみの交換が可能でコ…

『FMC-25-1F/FMC-25-2F』は、レンズ交換タイプのフローモニターです。 従来品「FMC-30-3F/FMC-30-4F」の小口径タイプが新登場！ 従来のフローモニターよりさらに低流量（0.6～6L/min）な配管に対応しています。 2色の羽根の回転で流体の流れを目視で確認でき、低流量時の流れがより見やすくなりました。 金型の小型化に伴う、狭いピッチにも取付可能です。 従来品同様、配...

メーカー・取り扱い企業： 日東工器株式会社

腐蝕性特殊ガス対策用ハステロイC-22ハウジング製

ハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性…

半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 フィルター構成部材には、フィルターハウジングにハステロイC-22を、そしてフィルターエレメントにはセラミックスを使用しております。これら全ての部材は、HBr、HClなどのハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性能を発揮いたしま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント： ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3（炭化珪素）コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティンググラファイト Max1900℃ 高純度・耐...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質！低価格！】

様々な流体を低温から高温まで確実にシールする継手です！

部はすべて同じ材質(SUS316)で構成 ●広い温度範囲で低温から高温まで使用可能 【仕様】 ●使用温度領域：-196～+600℃（SUS316） 　　　　　　　　-196～+200℃（C3604、C3771） 　※圧力により、使用可能温度領域も変動します。 ●RoHs対応品（SUS316） ※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： イハラサイエンス株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

● 反応副生成ガスにも対応 　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他 　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 　集合表示灯及びタッチパネル（オプシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

集積化ガスシステム対応ガスフィルター

高濾過精度

【特徴】 ○高濾過精度で定評のあるセラミックスエレメントタイプ（0.003μm）と、メタルエレメントタイプ（0.003μm）があります。 ○Cシール/H1Gシール/Wシールに対応しています。（Cシール/Wシールは1.125インチタイプも対応しています） ○数LPMの少流量から120LPMまでの大流量タイプをラインナップしています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shal...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

リコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD）

ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…

レンは、絶縁性、バリア性、抗菌性、生体適合性に優れています。 ・プリカーサ: ポリ・パラエチレン, ポリ・クロパラエチレン, ポリ・ジクロロパラエチレン（材料も販売可能です） ・パリレンC（ポリ・パラエチレン）は生体適合性に優れており、FDA認証も取得しております。 ・成膜プロセス:コーティングは、専用の真空蒸着装置を用い、室温にて実施されます。ダイマーと呼ばれる固体の顆粒状原...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

ソーラーリサーチ研究所の非接触搬送装置：フロートチャックSAC型

オーダメイドの垂直気体噴流方式非接触搬送装置「フロートチャックSAC型…

ベルヌーイ効果・エゼクタ効果・コアンダー効果を持つベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」の新機構を採用したオーダメイドの「ベルヌーイチャック・非接触搬送装置」製作いたします。 新機構：非接触搬送装置「フロ－トチャックSAＣ型」には吸引力を生じるエゼクタ効果を高めるためにコアンダー...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

ズ： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社