チェックしたものをまとめて:

  • 全天日射計 CMP11/CMP-21/CMP-22の製品画像ですカタログあり

    全天日射量を測定、全天日射計

    ◆日射計ボディへの加熱と冷却は零点の安定性にほとんど影響しません。 ◆熱電対が同心円状に配列され、方位角特性の誤差を少なくしています。 ◆アルミナセラミック基板は熱伝導率が高いため、最大日射量のときでも基板内の  温度差が3℃以下になっています。 ◆放射以外の熱流に影響されないように受感基板の下に熱流を補償するエレメントを搭載。 ◆コサイン特性と方位角の誤差は太陽角度10...(つづきを見る

  • カタログあり

    高い性能を求められる半導体デバイスのCMP工程。性能、安定性、信頼性の…

    CMP用研磨パッド 総合カタログ』は、半導体デバイスのCMP用研磨パッドを掲載した総合カタログです。 特殊ポリウレタン材料をベースに、均一な微小発泡を持つ「IC1000(TM)」などのCMP用研磨パッ...(つづきを見る

  • CMPテクニカルトランスファー 『CMP技術移管』の製品画像ですカタログあり

    弊社はCMPファンダリーメーカーです。

    既にCMP装置をお持ちのユーザ様に対してCMPプロセスの技術移管サービスを 行なっております。 ...(つづきを見る

  • テクニカルトランスファー 『CMPプロセス移管』の製品画像ですカタログあり

    適切なCMPスラリーを自社開発し、お客様のニーズに適応したCMP受託加…

    数枚の試作から数万枚に至る量産加工のみならず、テクニカルトランスファー(CMPプロセス移管)も行っている。...(つづきを見る

  • 中古CMP装置『IPEC-472』の製品画像です

    驚きの低価格!全自動且つ信頼性の高いCMP装置

    MEMS/TSVの試作・量産においては億単位のコストはCMP装置にかけられないが、全自動且つ信頼性の高いCMP装置を導入したい方に最適な装置です。 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    CMP研磨で数百nmレベルの平面度を求めた研磨加工

    半導体製造用材料(特殊ガラス)の加工・販売・卸業を手掛けている当社では、 CMP研磨を用いた加工品の製造および提供も行っています。 数百nmレベルの平面度を求めた研磨加工等ご要望に応じた製品の製造・提供が可能です。 ★特殊ガラスや樹脂加工品でお困りの方はお気軽にお問い合わせ下さい! 【取り扱い製品(一例)】 ■光学研磨加工(平面度:1μ 平行度:1μ 面粗度:1Å) ■CM...(つづきを見る

  • MEMS CMP受託加工の製品画像ですカタログあり

    MEMS CMP受託加工。あらゆる平坦化CMP加工を可能にします!

    D-process社では経験豊かなプロセスエンジニアが あらゆる平坦化CMP加工を可能にします。 【加工プロセス】 ○Step1  秘密保持契約及び技術検討  その他アプリケーションの選択 ○Step2  テストウェーハを用いた基礎評価及び ...(つづきを見る

  • カタログあり

    ご要望に対応した装置を設計製作!CMP処理後のスクラブ洗浄装置

    ヴァリアスでは半導体向け「CMP処理後スクラブ洗浄装置」を ご要望に応じて設計製作いたします。 また、ご依頼に柔軟性をもって装置製作以外にも対応します。 お気軽にご相談ください。 【特徴】 ○パルスJET洗浄 ○...(つづきを見る

  • CMP装置部品リペア&アップグレードの製品画像ですカタログあり

    CMP装置部品リペア&アップグレード

    CMP装置用電気/機械部品のリペア及びアップグレードを リーズナブルプライスでご提供 【特徴】 ○Dual channel pneutronics アップグレード  ・純正品に0500-01091に対して完全に互換性がある  ・純正品から置き換える際、ソフトウェアの更新は一切なし  ・純正品よりも早いキャリブレーションが実現 ○デジタルンエンドポイント スリップリング交換キット ...(つづきを見る

  • CMP装置 LP50精密ラッピング&ポリッシングマシンの製品画像ですカタログあり

    CMP装置 LP50精密ラッピング&ポリッシングマシン

    あらゆる材料のアプリケーションに対応でき、そのラッピング/ポリッシングプロセスにおいて最高の利便性を発揮いたします。 【特徴】 ○1~3台のWorkstation を稼動 ○CMPのための耐薬品モデル ○多様なlapping & polishing プレートとクロスを供給 ○スラリーの供給が不足すると自動的に運転を止めるInfra-red 機能(オプション) ...(つづきを見る

  • CMP受託加工の製品画像ですカタログあり

    スポット試作から24,000枚/月の量産まで幅広く対応!ありとあらゆる…

    1〜10枚程度の少量のスポット試作から24,000枚/月程度の量産まで幅広く対応しております。 MEMSデバイスからトラックメディア&パターンドメディアのような超微細なCMPまで 可能となっております。 ■弊社CMP受託加工の特徴 弊社では世の中で対応していないありとあらゆる材料に対して、スラリーを自社で組成から開発 することでとても大きなプロセスマー...(つづきを見る

  • ポストCMP/スクラバー用PVAブラシの製品画像です

    ウエハのポストCMP洗浄に最適!特殊洗浄で高度なクリーン度を実現。

    KM−PVAブラシはポストCMP,ホトマスク,ガラス/アルミ ハードディスク,LCDパネル基材等のスクラブ洗浄に最適な高度に洗浄された製品です。 国内外の装置に合わせて多種のスムースブラシ,イボ付ブラシ,パックブラシ,ペンタイプブラシを用意しております。 KM−PVAブラシは純度の高い日本製原材料を使用した成形品です。切削はしておりません。 成形後、酸・アルカリを使った特殊洗浄・純水リン...(つづきを見る

  • CMP装置用メカニカルユニット 部品リペアサービスの製品画像ですカタログあり

    CMP装置用メカニカルユニット 部品リペアサービス

    CMP装置構成部品の、再生/リペアを リーズナブルプライス・短納期で実現 【特徴】 ○ロータリーユニオンリペア  ・200mm、300mm用CMP装置向けに対応可能  ・純正新品50%、修理は30%強のコスト削減 ○メガトルクモータリペア  ・故障内容に応じた再生オプションにより    最も費用対効果の高い再生修理が実現  ・ドライバーとモーター共に修理可能 ○プラテン...(つづきを見る

  • ダイアモンド砥粒と基板の分子レベルでの強固な化学的結合を達成!CMPプ…

    米Morgan Advanced Ceramics社のCMPプロセスで使用する表面がダイアモンドで覆われた独特の構造のパッドコンディショナーを提案致します。ダイアモンド砥粒をシリコン基板、あるいはセラミック基板にCVDコーティングした構造です。ダイアモンド...(つづきを見る

  • カタログあり

    加工時間の大幅削減と優れた研磨精度を誇る装置!

    本製品は、高い研磨精度を維持し加工時間を大幅削減する新方式の装置 です。 小径の化合物半導体ウェハのCMP加工やCMPスラリー、パッド、そして ダイヤモンドドレッサー等の研究開発用装置として最適。 加工ヘッドは1軸タイプと2軸タイプが用意されており、装置には加工ヘッド のオシレーション、強制...(つづきを見る

  • カタログあり

    CMP部材開発や部材スクリーニング、デバイス開発に!幅広く活用できる実…

    ケメット・ジャパンの『BC-15』は、CMP 部材開発や部材スクリーニング、 デバイス開発にと幅広くご活用いただける装置構成です。 定盤径は15インチで、定盤回転数は5~100RPMです。 また、最大加工物径はφ152mmです...(つづきを見る

  • カタログあり

    卓上型でもタッチパネル搭載!研究開発を身近にできる卓上型CMP実験装置

    卓上型 CMP実験装置「BC-15CN」は、チップサイズからφ6インチウエハサイズまで対応可能な、最もベーシックな卓上型CMP実験装置です。 高い剛性、試料研磨機ベースの卓上研磨機であり、コストパフォーマンス...(つづきを見る

  • リテーナリング用新素材 セミトロン(R)CMP XL20の製品画像です

    耐摩耗性を向上させた次世代リテーナーリング用新素材

    CMP装置のリテーナーリング及びガイドリング用材料に、耐摩耗性の更なる向上により長寿命化を提案できる素材です。 【特長】 ●どのプロセスにおいても優れた耐摩耗性を発揮します。  特にタングステンプロセスでは、Techtron(R) PPSに  対して20倍を超える耐摩耗性を示します。 ●剛性が優れており、SUSリングによる補強のないデザイン  も可能です。...(つづきを見る

  • リテーナーリング用新素材 セミトロン(R)CMP LL5の製品画像です

    耐摩耗性を向上させた次世代リテーナーリング用新素材

    CMP装置のリテーナーリング及びガイドリング用材料に、耐摩耗性の更なる向上により長寿命化を提案できる素材です。 【特長】 ●酸化膜プロセスにおいてはTechtron®(R)に対して約5倍高い  耐磨耗性を示します。 ●金属リングと組み合わせ、補強を施すことで最良の性能を  引き出すことが可能です。...(つづきを見る

  • カタログあり

    PCに表示される画面をフルカラーLEDモジュールに表示するシステムです…

    VGA対応LEDディスプレイコントローラー CMP-002は、パーソナルコンピュータ(PC)に表示される画面をフルカラーLEDモジュールに表示するシステムです。 画像取り込み制御ユニットCMP-FCL002CRでPCからの画像を取り込み、専用ケ...(つづきを見る

  • KS-71製品写真カタログあり

    CMPにインラインで対応 CMPのスラリー中の粒子を希釈なしで測定

    CMPで問題となるスラリー中の粗大粒子を測定、監視 ●インライン、希釈なし ●スクラッチ不良の原因となる凝集粒子を即発見...(つづきを見る

  • カタログあり

    Android/iOS対応したモバイル(携帯型)プリンター 物流から…

    『携帯型端末』と接続し、その場で公共料金の利用明細や宅配便の受領書などの出力に使用されるモバイルプリンターですが、モバイルサーマルプリンター CMP-20/30は、Android、 Windows CE、Windows Mobileなどの主要プラットフォームに対応したSDK (Software Development Kit)を提供することで...(つづきを見る

  • カタログあり

    φ300ウェハに対応したマニュアル式のCMP装置です。MEMS・TSV…

    シリコンウエハーの膜加工(CMP)や薄板加工を行うのに最適です。 膜種はLow-K膜用対応装置や導電体用装置、絶縁膜用装置があります。 ウエハー材料の薄板加工は別オプション装置により、30μm・50μmまで薄くしたWaferを単...(つづきを見る

  • CMP用 パーツソリューションの製品画像ですカタログあり

    CMP用 パーツソリューション

    主要消耗パーツを材料・設計変更の観点からアップグレード トータルランニングコストの大幅な削減に貢献 【特徴】 ○樹脂材料 X3G  ・リテーナーリングの長寿命に加え面内プロファイルの改善も実現  ・メンテナンスコストの削減  ・歩留まりの改善 ○強化型フレクサー  ・純正品より耐久性を高めた製品 ○改造SUSベアリング  ・純正品より耐腐食性を高めた製品 ○改造...(つづきを見る

  • カタログあり

    両面研削機や研磨機、CMP装置のことならお任せください。

    【特長】 ・R&D用の小型CMP装置 プラテンφ300 4inchウェハー対応 ・安定した加工再現性と維持費の低減が得られます ・6~12inch対応の機種も有ります 切削機・研磨機に関してはお問い合...(つづきを見る

  • カタログあり

    大手海外半導体メーカーが多数採用!ウエハーの品質安定化とパッド寿命のロ…

    【特長】 ■Phoenix I、Phoenix II、PHOENIX(R) EDGEの3シリーズ ■ダイヤモンドグリッドの粒径の調整が可能 ■CVD Diamondでコートしている為、CMP conditionerの寿命が延びる   詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。...(つづきを見る

  • PC/104 電源モジュール PCM-P50/PCM-P50Nの製品画像ですカタログあり

    PC/104 電源モジュール PCM-P50/PCM-P50N

    PC/104電源モジュール ■□■特徴■□■ ■PC/104拡張バスを持つPC/104モジュールに接続して使用 ■高効率のDC-DCコンバータで合計最大50Wの出力が可能 ■動作温度範囲も広く移動体用に最適 ■電源出力   +5V 10A 、+12V 2A 合計最大50W  +5V 400mA 、-12V 500mA (PCM-P50Nのみ) ■入力電圧:6〜40V ■...(つづきを見る

  • カタログあり

    薄型,小型設計! 静止・点滅・表示パターン切り替え・スクロール表示が可…

    フルカラーLEDディスプレイコントローラー CMP-003は、16ドット,24ドット/外部クロックモード動作のローム製フルカラーユニットに完全対応しています。 電源とフルカラードットマトリクスユニットを接続するだけ。手軽にフルカラー表示が可能で...(つづきを見る

  • IPEC472

    プロセス性能保証可能なフル再生CMP装置

    MEMSプロセスのCMP加工に最適なIPEC472のフル再生装置を提供します。 他メーカーのCMP装置、ポスト洗浄装置、検査装置も取り扱っています。...(つづきを見る

  • コンディショナー CMPの製品画像です

    レッサーの長寿命化

    千代田交易社が取扱うコンディショナー・CMPのご紹介です...(つづきを見る

  • カタログあり

    歩留まりアップ、品質安定に!定期的な設備、配管の洗浄を行います

    CMP スラリー廃液配管洗浄』は、ブラシ洗浄、流速洗浄の洗浄、高圧洗浄、 TK-2ブラシ洗浄の洗浄前・洗浄後の様子をご紹介しています。 使用洗浄剤をはじめ、洗浄方法や比較も掲載しています。 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    精密圧縮型ロードセルで、オールステンレス製です。

    ・ ・腐食性のある場所での使用に適しています。 ・本質安全防爆構造 技術的基準に合格しています。(クラスiallCT5) ●詳細な製品仕様を、 メカニカルパーツ&システム総合サイト「MEKASYS」で閲覧できます。...・精密圧縮型ロードセルで、オールステンレス製です。 ・腐食性のある場所での使用に適しています。 ・本質安全防爆構造 技術的基準に合格しています。(クラスiallCT5)...(つづきを見る

  • CMPフィルター プレウェット特許取得

    超高圧でプレフラッシングを行った当フィルターは、ノンフラッシングのフィルターと比較すると、1ml中のパーティクル数や金属汚染レベルにおいて 高い性能を発揮します。...製造工程における薬液の廃液量を削減し、循環による再利用率を向上させる環境に優しいソリューションを提案 生産性の改善やコストダウンの実現にも寄与する事が可能です。...(つづきを見る

  • シストナビ社 サービス概要 パターニング加工 研究開発・実験・試作・外注量産 の製品画像ですカタログあり

    アシストナビ社の『パターニング加工』

    ■Large-wafer Foundry 8,12インチデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ■MEMS-wafer Foundry MEMSデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、...(つづきを見る

  • 着磁電源 CMPシリーズカタログあり

    とにかくサイズにこだわった驚異の省スペース着磁電源

    「どこまでサイズダウン出来るか」 そこにこだわって全回路を新設計。 驚異の省スペース&ハイパワーを実現しました。 全幅わずか35cm、奥行57cm、驚異の省スペース。 最高充電電圧2500V。小型モータの着磁ならその殆どをカバーできるハイパワー。 操作パネルに高輝度カラー液晶タッチパネルを採用。 【基本スペック】 ○充電電圧 1500V~2500V ○許容電流 最大30...(つづきを見る

  • 熱交換式給湯装置(複数系統) EX-CMP-2Wシリーズの製品画像です

    熱交換式給湯装置(複数系統) EX-CMP-2Wシリーズ

    蒸気による熱交換式給湯装置(間接加熱) 1機で多才。1台で複数系統の給湯ラインをコントロール。 異なる任意の設定温度のラインで、給湯の使用量が大きく変動しても、温度変化を抑えます。 【特徴】 ○1台で温度の異なる複数の系統に、各々任意の設定温度で給湯します。 各系統で使用量が変動しても、設定温度を維持するように電子制御弁及び循環用サーモ・ミキサーが安定した給湯を致します。 ●そ...(つづきを見る

  • カタログあり

    CMPコンディショナREVやRPC吸着プレート等を紹介します。

    、「1to1」によるオーダメイド対応で、ニーズが異なるお客様ごとに最適な製品づくりをご提供する株式会社リードの取扱製品を紹介しています。 セラミックス系の場合、ダイヤモンドとの結合が非常に強い「CMPコンディショナーREV」や、優れた高硬度、高剛性・耐衝撃性の「RPC吸着プレート」、低摩擦係数のボンド材を採用した「HALブレード」等、多数掲載しています。 【掲載製品】 ○CMPコンディ...(つづきを見る

  • 熱交換式給湯装置(循環式) EX-CMP-MEシリーズの製品画像ですカタログあり

    タンクレス局所の給湯シーンに適した給湯装置です。

    【特別仕様】 ◯高温水仕様:EXーCMPシリーズ ・STタイプ・・サブタンクにより安定供給を図る ・ERタイプ・・排熱回収により、さらに高温給湯する ・STーERタイプ・・上記2つを併用し、高温水を安定供給 ◯高温複数系統仕様:...(つづきを見る

  • カタログあり

    バックグラインド(BG)加工及びバックラップ加工承ります!

    満足な研磨速度が得られない、スクラッチが多い、プロセスマージンが狭い、選択比が欲しい等の時にご活用下さい。...【特徴】 ○ご要望、アプリケーション、加工条件に合わせた製品開発 ○豊富なラインナップで研磨対象物と加工プロセスに合致したスラリーを提供 ○CMPスラリーの最適な設計及び加工 ●その他機能や詳細についてはお問合せくださ...(つづきを見る

  • カタログあり

    セラミック製の噴口部!突き抜けるように強い打力のトリミングノズル

    「直進ノズル(トリミング用) CMP-T」は、細く直進するスプレーパターンで突き抜けるように強い打力、かつ乱れのない透明棒流を発生させるトリミングノズルです。 噴口部にセラミックを使用したノズルは、ノズル、ストレーナー+アダプター...(つづきを見る

  • カタログあり

    蒸気を熱源とし、SUS製熱交換器でクリーンな温水を供給する給湯装置

    熱交換式給湯装置(循環式) EX-CMP-MEシリーズは、蒸気を熱源とし、接液部も熱交換器も全てSUS製でクリーンな温水を供給する給湯装置です。 能力維持と付属機器の機能保持を図る<ドイツ製・パルス式スケール防止装置>”ブルカン”を標...(つづきを見る

  • クラス100対応 クリーンルーム用 無塵クリーンマイクロモップ HD-CMPカタログあり

    クリーンルーム用スポンジモップ 天井・床面・壁の拭き掃除・吸水に。

    クリーンルーム内では粉塵の発生源になる一般製品は持ち込みません。 クリーンルームでモップを使うときには、本製品「クリーンマイクロモップ」を使用します。 ●モップにはスポンジ入りのマイクロ繊維を採用しており、ミクロの汚れや油膜を除去します。 ●柄と本体は帯電防止アルミ製なので、ホコリを寄せ付けることなく保管できます。 ●柄の部分は5分割になっておりハンディ390mmからロング1330mmまで...(つづきを見る

  • カタログあり

    緊急時に空気ボンベから給気を受け、空気呼吸器として使用できます。

    送気マスクは、事業場、火災現場、船舶、トンネル等の現場において、酸素欠乏空気、粒子状物質、有毒ガス・蒸気などを吸入するおそれがあるときに使用する呼吸用保護具です。通常はエアラインマスクとして使用します。 万一、その給気が途絶したような緊急時又は作業の必要に応じて、携行した高圧空気容器(空気ボンベ)から給気を受け、空気呼吸器として使用できる構造になっています。......(つづきを見る

  • カタログあり

    スルーホールめっきと配線パターニングめっきを同時に成膜!

    『TGVウェハへめっき技術』は、スルーホールめっきと配線パターニングめっきを同時に成膜、だからCMPレスの工程を実現できます。「スルーホール基板にめっきしたい」、「めっきでパターン形成をしたい」、「基板の両面にめっきしたい」、「基板表面の研磨(CMP)をしたくない」、「1枚だけでも試作したい」な...(つづきを見る

  • 洗浄剤 ダッククリーンの製品画像です

    CMPマシン廃液配管内に付着したスラリー用洗浄剤及び洗浄システム

    CMPマシン廃液配管閉塞を防ぐための洗浄剤と洗浄システム...(つづきを見る

チェックしたものをまとめて:

277件中1〜45件を表示中

表示件数
45件

おすすめ関連情報

分類で絞り込む

分類で絞り込む

[-]