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73件 - メーカー・取り扱い企業
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16件 - カタログ
109件
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PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…
Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...
メーカー・取り扱い企業： Watson-Marlow（ワトソンマーロー）株式会社 東京本社、大阪支社
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新発売！低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」
PR成形機周辺の配管に！狭いピッチにも対応、レンズ部分のみの交換が可能でコ…
『FMC-25-1F/FMC-25-2F』は、レンズ交換タイプのフローモニターです。 従来品「FMC-30-3F/FMC-30-4F」の小口径タイプが新登場！ 従来のフローモニターよりさらに低流量（0.6～6L/min）な配管に対応しています。 2色の羽根の回転で流体の流れを目視で確認でき、低流量時の流れがより見やすくなりました。 金型の小型化に伴う、狭いピッチにも取付可能です。 従来品同様、配...
メーカー・取り扱い企業： 日東工器株式会社
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コンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです！
卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応...
メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社
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φ8"～φ12"ウェーハに対応！CMP加工中にln-Situパッドコン…
『LGP-712』はφ8"～φ12"ウェーハに対応し高精度技術の開発を支援する製品です。 2ポリッシングヘッドを備えデバイスの平坦化CMPに対応。 パッドやスラリーのご研究開発用の実験機としても適しております。 当社では、Cu-CMPなどのメタルCMPにも対応しお客様のご要望に お応えできるように多くのオプションを用意して...
メーカー・取り扱い企業： ラップジャパン株式会社
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加工時間の短縮に成功！ディッシングを極限まで低減することが可能に
当社では『TSV CMP受託加工』を承っております。 通常の半導体用Cu CMPに用いられるCu slurryに対して 10倍近くの加工速度を確保しているスラリーを用いたCMPプロセスを 適用しているため短時間...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社D-process
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お客様のご要求される表面粗さを確保し常温接合を可能と致します
当社では『接合前CMP受託加工』を承っております。 接合前CMPの加工実績の一例として、半導体及び化合物半導体で使われる材料 Si、Cu、W、Ta、TaN、SiO2、TEOS、GaAs、SiC、GaN、InP ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社D-process
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幅広くカスタマイズ可能なCMPスラリー
CMP（ケミカル・メカニカル・ポリッシング：化学的機械研磨）スラリーは、半導体の製造工程で、基板表面を研磨するために用いるスラリーです。化学的エッチングが、材料を柔らかくし、機械的摩耗によりマテリアルが除去されるため、元々の立体的形状が平坦化されます。これがCMPのメカニズムです。 当社のCMPスラリーは半導体回路微細化と高速化を実現するための銅配線用、低温でスパッタリングでき、ローコストなアルミ配線...
メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社
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表面粗さ精度Ra0.1~0.3nm！自社調合のCMPスラリーと研磨パッ…
当カタログは、CMP及びウェハ直接接合試作・量産、それに伴う プロセスの移管を行うD-processの総合カタログです。 CMP受託加工をはじめ、ウエーハ接合受託加工やシード層形成・ めっき受託加工などにつ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社D-process
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あて板を使用することにより、材料の突き残りをほとんどなくすことができま…
『CVシリーズ』は、木材加工機械で培ってきた繊細な技術を樹脂の スライスに応用したCMPパッドスライサーです。 あて板を使用することにより、材料の突き残りをほとんどなくすことが可能。 CMPパッドをはじめ、リノリウム（床材）やPVC、ウレタンフォーム、 各種機能性樹脂の...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社丸仲鐵工所
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Android/ｉOS対応したモバイル（携帯型）プリンター 物流から…
『携帯型端末』と接続し、その場で公共料金の利用明細や宅配便の受領書などの出力に使用されるモバイルプリンターですが、モバイルサーマルプリンター CMP-20/30は、Android、 Windows CE、Windows Mobileなどの主要プラットフォームに対応したSDK （Software Development Kit）を提供することで...
メーカー・取り扱い企業： シチズン・システムズ株式会社
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既存のCMPスラリーにご不満をお持ちの方！ぜひ当社にご相談ください！
当社では、機械研削研磨/バックグラインド(BG)から最終平坦化の CMPまでの研磨が可能です。 満足な研磨速度が得られない、スクラッチが多い、プロセスマージンが 狭い、選択比が欲しい等の時にご活用下さい。 ステンレス・鋼板の電解研磨も可能です。 外形の...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アシストナビ
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φ300ウェハに対応したマニュアル式のCMP装置です。MEMS・TSV…
シリコンウエハーの膜加工（CMP）や薄板加工を行うのに最適です。 膜種はLow-K膜用対応装置や導電体用装置、絶縁膜用装置があります。 ウエハー材料の薄板加工は別オプション装置により、30μm・50μmまで薄くしたWaferを単...
メーカー・取り扱い企業： テクノライズ株式会社
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CMP装置 LP50精密ラッピング＆ポリッシングマシン
あらゆる材料のアプリケーションに対応でき、そのラッピング/ポリッシングプロセスにおいて最高の利便性を発揮いたします。 【特徴】 ○１～３台のWorkstation を稼動 ○CMPのための耐薬品モデル ○多様なlapping & polishing プレートとクロスを供給 ○スラリーの供給が不足すると自動的に運転を止めるInfra-red 機能（オプション） ...
メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社
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CMP装置【研究開発用の卓上型～300mmウエハー対応まで！】
卓上型から300mmウエハー対応までCMP装置をラインナップ！Dry-…
したコンパクトなモデルから300mmウエハーに対応した モデルまでラインナップを取り揃えております。お客様のご希望に沿った 仕様変更 ・オーダーメイド、Dry-in / Dry-outが可能なCMP自動装置も ご提案いたします。デモ機もございますので、立ち合いの元デモテスト も対応可能です。 【下記のようなご要望にもお応えします】 ■薬液対応（酸性・アルカリ性の様々なスラリーに対...
メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社
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両面研削機や研磨機、CMP装置のことならお任せください。
【特長】 ・R&D用の小型CMP装置 プラテンφ400 4,6inchウェハー対応 ・安定した加工再現性と維持費の低減が得られます ・6～12inch対応の機種も有ります 切削機・研磨機に関してはお問...
メーカー・取り扱い企業： AMTEC株式会社 ＡＭＴＥＣ 株式会社
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CMPプロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が…
半導体の平坦化(CMP)プロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました。...
メーカー・取り扱い企業： 西華デジタルイメージ株式会社
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ドライイン/ドライアウトが可能！シリコンウェーハの鏡面仕上げ用装置
『MGP-808XJ』は、ラップマスター SFT製「LGP-808XJ」の後継機種の 全自動CMP装置です。 当社開発の新型Headを採用し、ウェーハ表面のGBIR、SFQRの向上を実現。 搬送はエッジクランプ又はエッジコンタクト方式です。 また、洗浄機との結合によりドライイン/...
メーカー・取り扱い企業： ミクロ技研株式会社 本社
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『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバルCMP後洗浄のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2024」を1月2日に発行しました。本レポートでは、CMP後洗浄市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、C...
メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社
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高精度研磨を実現！多段階ステップを有し、複雑な研磨レシピに対応可能
『LGP-612』は、φ4"～φ8"ウェーハ対応の2ポリッシングヘッドを備えた 高精度技術の開発を支援する製品です。 ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用。 ポリッシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっており、 低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。 【特長】 ■偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度...
メーカー・取り扱い企業： ラップジャパン株式会社
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CMP研磨液供給システムの世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケー…
グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のCMP研磨液供給システムの供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるCMP研磨液供給システムの販売量と販売収益を調査しています。同時に...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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精密ラップ研削機 『ラポテスターGP2型』 研究室・試験室向け
研究目的に合わせて様々な条件下での研磨・研削が可能なラップ研削機。新材…
新材料の研削・研磨加工はもとより、組織観察用試料の作製や高精度鏡面研磨、CMPなど多岐にわたる加工条件テストができます。 ■ 切込方式は、強制切込方式と定圧研磨方式とが選択でき、上定盤・下定盤共に独立で駆動が可能 ■ 新材料の研削・研磨加工はもとより、組織観察用試料の作...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社
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CMPプロセス開発・試作・請負受託加工！確かな技術力や経験で、お客様の…
当社のCMP／ダイシング事業「MAT課」についてご紹介します。 「平坦化」「平滑化」「薄片(薄膜)化」、また、半導体分野に限らず、 SiCパワーデバイス・SOI・マイクロマシン(MEMS)・光学系デバ...
メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社
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光学ガラス・セラミックスなどの板状素材を、高精度な鏡面に研磨できる加工…
『ポリッシュ加工（CMP）』は、サファイヤなどの硬質材料の鏡面加工も 対応しています。 研磨キャリアを豊富に取り揃えており、試作・小ロット製作にも迅速に 対応可能。垂直立ち上げから量産までご相談いただけます。 ...
メーカー・取り扱い企業： シンコー株式会社
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試作から量産までの製作対応可能！
溶接構造を熟知した技術者で、寸法精度の精密を出すことができ、 歪処理等も得意です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【製品紹介】 ■ホイルローダー リフトアームCMP／キャノピCMP（ROPS）／リアフレームCMP／ フロントフレームCMP／ベルクランクCMP／ホイルローダセット台車／ ホイルローダ専用台車 ■油圧ショベル ブームCMP／アームC...
メーカー・取り扱い企業： 新栄工業株式会社 木元工場
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シストナビ社 サービス概要 パターニング加工 研究開発・実験・試作・外注量産
アシストナビ社の『パターニング加工』
■Large-wafer Foundry 8,12インチデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・ＣＶＤ ・ＫｒＦ／ＡｒＦ露光、イオン注入、CMP等 ■MEMS-wafer Foundry MEMSデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・ＣＶＤ ・ＫｒＦ／ＡｒＦ露光、イオン注入、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アシストナビ
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多機能コンパクトCMP対応の両面ポリッシング装置誕生!
“Trinity-Y” シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。 フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。 また他のT...
メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社
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CMPフィルター プレウェット特許取得
超高圧でプレフラッシングを行った当フィルターは、ノンフラッシングのフィルターと比較すると、1ml中のパーティクル数や金属汚染レベルにおいて 高い性能を発揮します。...製造工程における薬液の廃液量を削減し、循環による再利用率を向上させる環境に優しいソリューションを提案 生産性の改善やコストダウンの実現にも寄与する事が可能です。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリコ 東京支店
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CMPパッド等、硬質発泡樹脂のスライスに最適！ 高速で高精度なスライ…
木材加工機械で培ってきた繊細な技術を樹脂のスライスにも応用。 CMPパッドを始めとしたリノリウム（床材）やウレタンフォーム・樹脂のスライス等に最適！ 日本ならではのかんな掛けスライス方式で、0.3mm~3.0mm(材質による)の薄さまで対応可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業： 双日マシナリー 株式会社 環境・生活産業システム本部
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固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介…
】 ・2TS4（対応砥粒 1µm～6µm） ・2TS5（対応砥粒 0.5µm～6µm） ・2TS8（対応砥粒 0.5µm～6µm） ・4FV1（対応砥粒 0.015µm～3µm） 【CMP工程】 ・CMPクロス（対応砥粒 0.015µm～0.04µm） ・CMPパッド IC-1000（対応砥粒 0.015µm～0.04µm） その他、サンプルに適した研磨盤をご紹介いたしま...
メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社
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【評価用パターンウェハー】小ロット～カスタマイズオーダーまで対応
数枚の試作加工でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の寸法測…
株式会社アイテスが取り扱っている「評価用パターンウェハー」「シリコンウェハー販売」「化合物半導体」をご紹介します。「評価用パターンウェハー」は、CMP/成膜装置/洗浄装置/各種素材の評価用として、様々な構造のテスト用パターンウェハーを作成。 数枚の試作評価でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の 寸法測定に至るまで、非常に柔軟...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテス
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半導体・液晶・電子部品製造における技術コンサルタントならお任せ下さい！
WS株式会社は、主に半導体製造・検査装置の開発、設計、製造、 販売を行っている会社です。 主な製品として、装置付帯ユニット＆パーツ「ウエハプローブ・カード」 「研磨フィルム」「Post CMP Blush」などを取り扱っております。 その他にも各種省力機器の設計製造や自社製機器および輸入半導体製造・ 検査装置の据付、保守などの技術サービスもご提供しております。 ご要望の際はお...
メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社
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研究開発から生産まで幅広い要求に対応したスタンダードな卓上型研磨装置
開発から生産まで幅広い要求に対応したスタンダードな卓上型研磨装置です。多種多様なオプションを取り揃え、カスタマイズ化することにより、ガラス・金属・セラミックのラッピング加工から、ポリッシング加工、CMP加工まで幅広く対応可能です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： テクノライズ株式会社
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研削・CMP・ダイシング・ペレットチャージ・外観検査！幅広く受託加工を…
当社のCMP／ダイシング事業「STB課」についてご紹介します。 膜付ガラスやセラミックスなど脆く硬い材質のダイシング加工から、 シリコンウェハの裏面研削加工（BG）及びポリッシュ加工（CMP）、 ダ...
メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社
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コンパクトなため、設置場所を選ばずAC100Vのみで動作します。
mm×220mmとコンパクトなため、設置場所を選ばずAC100Vのみで動作します。金属部品・ガラス・ウエハなどの加工ができ、研磨プレートを交換することでラッピングのみならず、ポリッシングや簡易的なCMPにも使用できます。研磨方法も、スラリーによるウエット研磨や研磨シートを用いたドライ研磨にも対応します。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： テクノライズ株式会社
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電磁スキャナー式（特許取得済み） ダメージレスで非破壊で測定可能 …
ーボンナノプローブ（高分解能・長寿命） 【ソフトアプリケーション】 ・微細線幅測定 ・シリコン、化合物ウエハ表面形状測定 ・石英ガラス表面検査 ・マスクパターン測定 ・研磨、CMP後の表面検査評価 ・薄膜段差測定、成膜時の連続、不連続測定 ・ハードディスクの磁気フィールドの観察 ・フィルム表面検査 ・高精度金型の表面解析 ・光学部品、精密部品の評価...
メーカー・取り扱い企業： ブルーオーシャンテクノロジー株式会社
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スラリーなどの研磨性流体に最適なフッ素樹脂製ダイアフラムバルブ
半導体製造装置及び化学工場の薬液配管向けのフッ素樹脂製バルブです。CMPスラリー等粘性薬液に最適な抵抗の少ない流路構造のダイアフラムバルブ(ダイヤフラムバルブ)です。抵抗の少ない構造である為、サイズによっては他社比較2倍以上の流量能力がございます。 また,液溜まりの...
メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社
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材料調達から加工、測定まで！一貫生産が実現させるハイクオリティ
グセンタ ・高精度高速小径微細加工機 ■研削 ・直高精度静圧式平面研削盤 ・超大型門形平面研削盤 ・高精度大型研削盤 ■研磨 ・大型平面ラップ盤 ・平面ラップ盤 ・CMP研磨機 ・超大型CMP研磨機 ■超精密加工 ・Nanoform700Ultra ・Nanoform250Ultra ・Planoform650 ■測定 ・超大型三次元座標測...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学
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基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能！グローバルネット株式…
一貫生産の対応が可能です。 【事業概要】 ■GNCの加工ファンドリー ・成膜ファンドリー ・プロセス評価 ■GNCパターンウエハサービス ・GNC微細パターンウエハ ・GNC先端CMP評価用パターンウエハ ・GNC MEMS・シリコン特殊加工サービス ■GNC 2.1D/2.5D/3Dソリューション ・バンプウエハ・再配線加工／FOWLPプロセスサービス ※詳しくは...
メーカー・取り扱い企業： グローバルネット株式会社
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研削・研磨は当社まで！超薄仕上げの対応が可能で、12インチ40μm仕上…
株式会社ニチワ工業では『ICウェハの裏面加工』を承っております。 インフィード方式により仕上げ厚みを安定させることができる 「ウェハ研削(BG)」をはじめ、CMP方式とドライポリッシュ方式の2種類を ラインアップした「ウェハ研磨」も受託可能。 また、機種やLot No.、社名、ロゴマークなどのマーキングも可能です。 お問い合わせ下さい。 【...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニチワ工業
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「自動定盤修正装置」を装備し、超精密な仕上げを可能にします。
本格的な「自動定盤修正装置」を装備し、超精密な仕上げを可能にします。装置本体の剛性により拡張性が高く揺動・強制駆動・エア加圧などの付加装置による機能・性能アップが可能です。 ●CMPによるグローバルプラナリゼーションの試作実験研磨 ●光ファイバの端面・傾斜研磨 ●その他、多くの新素材の高精度研磨を可能にします...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノファクター
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ラッピング加工された梨地面を平滑な表面に仕上げる鏡面研磨法！
社新興製作所では、『ポリシング加工』を行っております。 ポリシング加工とは、ラッピング加工された梨地面を平滑な表面に 仕上げる鏡面研磨法です。 工法については機械研磨や化学機械研磨（CMP）があり、当社では 単結晶やセラミックス、金属、樹脂に至るまでの種々材料物性に応じた 工法を適切に選定し、ご希望の表面粗さに仕上げさせて頂きます。 表面粗さはサブミクロンからナノオーダー...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社新興製作所
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CMPマシン廃液配管内に付着したスラリー用洗浄剤及び洗浄システム
CMPマシン廃液配管閉塞を防ぐための洗浄剤と洗浄システム...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社ファーストダック
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【集積/コンパクト化 マニホールドバルブ】 【薬液/純水配管用】
普通のバルブメーカーではありません！フィルターやセンサーなどを組合せた…
薬液や純水を使用する業界で長年の実績がございます。 【ゲミュー社カスタマイズバルブの特徴】 ■ フィルター、流量/温度/圧力センサーや逆止弁などを組合わせてユニット化することが可能 ■ CMPスラリーなど粘性が高く複雑な組成の流体に適した流路で設計が可能 ■ プロセスに合わせてPTFE,PVDF,PP,PVC,SUSなど様々な材質に対応 ■ 他社で廃盤となってしまったバルブの同等仕...
メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社
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食品業界におすすめ！高機能吸水・脱水スポンジ『ACスポンジ』
防カビ剤不使用で予洗いなしですぐ使用可能！従来の発泡スポンジに見られな…
洗浄機に使用されている抗菌スポンジ ■食品加工、包装、レトルト食品などの製造時に付着した水の吸水に使用 「ＡＣスポンジＵＦ」 ■化粧用パフやあぶら取りスポンジに 「ＡＣスポンジＳＰ」 ■CMP洗浄、シリコンウェハー、液晶ディスプレイ用基板、 フォトマスク、 電子材フィルム等の精密洗浄として 「ＡＣスポンジＰ」 ■板ガラス、プリント基板、フィルム、プラスチック、プレート類の ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エー・シーケミカル
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UL,IECの難燃性規格認証済の同軸ケーブルをご提供致します。
＜対応規格＞ ・UL/NEC/CSA: CMR/MPR/FT4 UL1666 Riser Cable ・UL/NEC/CSA: CMP/FT6 UL910 Plenum Cable ・Flame: Meets IEC-332-1-2, IEC 332-3 CAT.C, UL-VW1, UL-1581, IEE-383, B...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト
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PR
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ウルトラファインバブル水を使用した『MUFB温水洗浄機』
ウルトラファインバブル水を使用した温水洗浄で、ボイラー燃料使用…
株式会社丸山製作所 産機営業部 -
電流導入端子
高真空、超高真空へ の電流導入端子です！
有限会社テクサム -
工業用高精細レンズシリーズ『ZEISS Dimension』
4/3型の大型エリアセンサに対応。超高分解能で細部まで高精細な…
株式会社ケンコー・トキナー 本社