- 製品・サービス
40件 - メーカー・取り扱い企業
企業
16件 - カタログ
109件
-
-
PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…
Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...
メーカー・取り扱い企業: Watson-Marlow(ワトソンマーロー)株式会社 東京本社、大阪支社
-
-
柔よく剛を制す!シリカにダイヤモンドをブレンドした硬質基板研磨用スラリ…
サファイア、SiC、窒化ケイ素など、硬質材料の研磨におすすめのプレCPMスラリーです。CMPの前に使用することで、CMPのプロセス時間を短縮可能です。 【このような場合におすすめです】 ■CMPのプロセス時間を短縮したい方 ■微細スクラッチ等の除去を効率化されたい方 ■過マン...
メーカー・取り扱い企業: ピュアオンジャパン株式会社
-
-
砥粒技術+ケミカル配合技術により設計!ハイレートかつ面品質/面品位を両…
当社が取り扱うCMPスラリー『ClasSiC/GaiNシリーズ』のご紹介です。 「ClasSiC」は、特にパワーデバイスに使用されるSiC基板の化学機械的 平坦化用に特別に配合されたハイレートスラリーです。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本ピストンリング株式会社
-
-
加工面の高い平坦性とクロスの高耐久性を実現!CMP用クロスのご紹介
『CMPクロス』は、特殊ポリエステル繊維から成る不織布にポリウレタンを 結合したCMP用クロスです。 加工面の高い平坦性とクロスの高耐久性を実現し、化合物半導体の鏡面加工、 酸化膜の除去等、基板...
メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社
-
-
タニムラ クリーンルーム用無塵クリーンマイクロモップHD-CMP
クリーンルーム用スポンジモップ 天井・床面・壁の拭き掃除・吸水に。
クリーンルーム内では粉塵の発生源になる一般製品は持ち込みません。 クリーンルームでモップを使うときには、本製品「クリーンマイクロモップ」を使用します。 ●モップにはスポンジ入りのマイクロ繊維を採用しており、ミクロの汚れや油膜を除去します。 ●柄と本体は帯電防止アルミ製なので、ホコリを寄せ付けることなく保管できます。 ●柄の部分は5分割になっておりハンディ390mmからロング1330mmまで...
メーカー・取り扱い企業: タニムラ株式会社
-
-
CMPスラリー
CMPスラリーはサファイア、SICウェハー、窒化アルミニウム、セラミックス、金属材料などのポリッシュ加工専用に最適化されたシリカスラリーです、粒子径の均一性に優れ、分散安定性が高く、均一でかつ良好な仕上げ面が得られます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サミットスーパーアブレーシブ
-
-
酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー
『ILD(TM)シリーズ』は、ヒュームドシリカを用いた酸化膜CMPスラリーです。 一般的なコロイダルシリカスラリーでは実現困難な高研磨レートと スクラッチフリー・不純物低減を実現した業界標準のスラリーで、 ガラスエポキシ研磨にもご使用いただけます。 ...
メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社
-
-
安定した品質が特長!「アルミナ」「シリカ」の特性や研磨対象物をご紹介!
当社は創業より培ってきた経験に基づきスラリー開発・製造を行っております。 『CMPスラリー』は、ケミカル溶液とナノサイズの研磨粒子で構成されており、 粗大粒子の発生が少なく、粒子の分散性の良い、安定した品質が特長。 洗浄性が良く、速い研磨レートが得られる「アルミナ」と、...
メーカー・取り扱い企業: 北川グレステック株式会社 本社
-
-
CMP洗浄液の世界市場規模、売上、価格、収益、動向分析レポート2023…
2023年7月4日に、YHResearchaは「グローバルCMP洗浄液のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」の調査資料を発表しました。本レポートでは、CMP洗浄液の世界市場について、製品別、アプリケーション別、会社別、地域別、国別に分類されます。...
メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社
-
-
CMP研磨スラリー供給システムの世界市場:メーカー、地域、タイプ、アプ…
グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のCMP研磨スラリー供給システムの供給、需要、主要メーカー、2024 ~ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるCMP研磨スラリー供給システムの販売量と販売収益を調査してい...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
-
-
CMP研磨液用粒度分析装置の世界市場:メーカー、地域、タイプ、アプリケ…
グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のCMP研磨液用粒度分析装置の供給、需要、主要メーカー、2024 ~ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるCMP研磨液用粒度分析装置の販売量と販売収益を調査しています。同...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
-
-
歩留まりアップ、品質安定に!定期的な設備、配管の洗浄を行います
『CMP スラリー廃液配管洗浄』は、ブラシ洗浄、流速洗浄の洗浄、高圧洗浄、 TK-2ブラシ洗浄の洗浄前・洗浄後の様子をご紹介しています。 使用洗浄剤をはじめ、洗浄方法や比較も掲載しています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
デバイスウェーハのCMPプロセスにおける業界標準品
当社では、デバイスCMPにおける業界標準のウレタンパッドを 取り扱っております。 特殊ポリウレタン材料をベースに、高均一な微小発泡を持つユニークな 構造はスラリーをうまく保持しながら、被加工物へ均等に行き渡らせ...
メーカー・取り扱い企業: アンカーテクノ株式会社
-
-
ピュアオンが誇る最高品質のスラリー。ワークや用途、求める研磨レート、表…
精密分級でお客様に貢献してきたマイクロディアマントはアメリカのCMP関連会社エミネステクノロジーを買収して、ピュアオンになりました。これまでの質の高いダイヤモンド関連製品に加えて、最終仕上げのCMPについてのノウハウも社内に蓄積されます。 ピュアオンはアメ...
メーカー・取り扱い企業: ピュアオンジャパン株式会社
-
-
CMPコンディショナREVやRPC吸着プレート等を紹介します。
、「1to1」によるオーダメイド対応で、ニーズが異なるお客様ごとに最適な製品づくりをご提供する株式会社リードの取扱製品を紹介しています。 セラミックス系の場合、ダイヤモンドとの結合が非常に強い「CMPコンディショナーREV」や、優れた高硬度、高剛性・耐衝撃性の「RPC吸着プレート」、低摩擦係数のボンド材を採用した「HALブレード」等、多数掲載しています。 【掲載製品】 ○CMPコンディ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リード 横浜営業所
-
-
ダイヤモンドスラリーやCMP用研磨剤など、様々なラインアップをご用意し…
お問い合わせください。 【ラインアップ】 ■ダイヤモンドスラリー ■GC研磨剤(緑色炭化ケイ素) ■WA研磨剤(白色アルミナ) ■酸化セリウム研磨剤 ■コロイダルシリカ研磨剤 ■CMP用研磨剤 【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、...
メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社
-
-
ポリッシングスラリーのご紹介!
さい。 ===== ご紹介のポリッシング液 ===== ポリシングコンパウンド(サスペンションタイプ) ・コロイダルアルミナ ・コロイダルシリカ ・コロイダル酸化セリウム CMPリキッド ・ケミカルリキッド HCL ・ケミカルリキッド HCL-XL ・ケミカルリキッド HCL-XL2 ルブリカント(潤滑油) ・OSタイプ(油性) ・S-4889タイプ(水溶...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
-
-
非イオン界面活性剤『ニューコールシリーズ他』【サンプル進呈】
乳化、分散、洗浄等の機能を発揮し、農薬製剤や塗料、樹脂の助剤、洗剤の主…
<ニューコール(Newcol)シリーズ> ・B系 ポリオキシエチレン アリールエーテル ・CMP系 ポリオキシエチレン p-クミルフェニルエーテル ・80系 ポリオキシエチレン ソルビタン オレエート ・400系 ポリオキシエチレン アルキルアミノエーテル ・600系,700系,260...
メーカー・取り扱い企業: 日本乳化剤株式会社
-
-
コンポジット特殊パッド『IRINO』:今ある研磨機を高性能化
SiCやサファイアなどに高い研磨レートと優れた面仕上がりを実現!
D ・厚み 1.0 または 1.6 mm ・サイズ 200 ~760 mm ※それ以上のサイズは複数枚に分けて貼り合わせる形でご提供 ・用途 SiC・セラミック・サファイアのポリッシュ(CMP / MP)前加工...
メーカー・取り扱い企業: ピュアオンジャパン株式会社
-
-
食品業界におすすめ!高機能吸水・脱水スポンジ『ACスポンジ』
防カビ剤不使用で予洗いなしですぐ使用可能!従来の発泡スポンジに見られな…
洗浄機に使用されている抗菌スポンジ ■食品加工、包装、レトルト食品などの製造時に付着した水の吸水に使用 「ACスポンジUF」 ■化粧用パフやあぶら取りスポンジに 「ACスポンジSP」 ■CMP洗浄、シリコンウェハー、液晶ディスプレイ用基板、 フォトマスク、 電子材フィルム等の精密洗浄として 「ACスポンジP」 ■板ガラス、プリント基板、フィルム、プラスチック、プレート類の ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エー・シーケミカル
-
-
鋼構造物のアンチエイジングに!架け替え・建替えに比べ地球資源の節約に貢…
【主な塗装工程】 ■素地調整 ■防食下地塗装(エピコンジンク HB-2) ■チタン箔シート貼付け ■チタン箔専用プライマー塗装(CMPチタンプライマー) ■中塗り(フローレックス中塗 EP MS) ■上塗り(フロ-レックス上塗 MS) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 中国塗料株式会社
-
-
機械工具類用や半導體・電子部品用など!超砥粒のダイヤモンド・CBNホイ…
及びCBNホイールを ご紹介しています。 機械工具類用の「ビトリファイドホイール」をはじめ、ガラス・セラミックス・ マグネット材用の「レンズ研磨用ペレット」や、半導體・電子部品用の 「CMPバットコンデシオナー」などを多数ラインアップ。 ホイール規格推薦表や、エアーラッパー及び連結の仕方なども掲載しています。 製品の選定にご活用ください。 【掲載内容(一部)】 ■BD...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社北陸砥石
-
-
当社取り扱いの半導体加工工具を豊富にラインアップ!
【その他掲載内容】 ■CMPコンディショナ ■シリコンウェーハ研削用ホイール ■ダイシングブレード ■パッケージ切断用カッタ ■プリデュースボード ■シリコン半導体の製造工程 ※詳しくはPDFをダウンロードし...
メーカー・取り扱い企業: 旭ダイヤモンド工業株式会社
-
-
高研磨レートと良好な表面品質を実現する研磨スラリー
2025:c面サファイア研磨用・高研磨レート ・Machplaner(TM) MS2100:a面サファイア研磨用・高研磨レート・低摩擦 ・Machplaner(TM) MS5000:厚膜Cu-CMP用、TSV用・高研磨レート ・Machplaner(TM) ST2000:ガラス研磨用・表面粗さ低減 ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お問い合わせください...
メーカー・取り扱い企業: ニッタ・デュポン株式会社
-
-
Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ
高品質低コスト コロイダルシリカ
Guangdong Well Nanotech社は、1998年に設立され、6つの生産拠点を持つ中国のコロイダルシリカサプライヤーのリーディングカンパニーです。同社の高品質なコロイダルシリカとCMPスラリーは、精密鋳造、セラミック、製紙、コーティング、触媒、電池、食品、研削、研磨など様々な産業で利用されています。 弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パイロテック・ジャパン
-
-
CMPプロセスにおける研磨用パッドのディファクトスタンダード。世界シェ…
これまでに数多くの採用実績があり、今もなお高いシェアを維持しています。 IC1000(TM)は、特殊な材料・製造・加工技術、そして高いアプリケーション・評価技術をベースにデザインされていますので、最適なパフォーマンスをお届けします。...特殊ポリウレタン材料をベースに、均一な微小発泡を持つそのユニークな構造はスラリーの保持性を向上させ、さらにパッド表面溝加工を施すことにより、スラリーをウェーハ全...
メーカー・取り扱い企業: ニッタ・デュポン株式会社
-
-
金属不純物を低減した高純度くえん酸水溶液!
微粒子及び各種金属不純物を保証した高純度くえん酸水溶液であり、CMPスラリー原料、化合物半導体エッチング液及びウェーハ洗浄液として用いる事が可能です。 【特徴】 ■各種金属不純物・微粒子を高い水準で保証 ※詳しくは弊社HPをご覧いただくか、お気軽にお...
メーカー・取り扱い企業: 関東化学株式会社 電子材料事業本部
-
-
ウエハのポストCMP洗浄に最適!特殊洗浄で高度なクリーン度を実現。
KM−PVAブラシはポストCMP,ホトマスク,ガラス/アルミ ハードディスク,LCDパネル基材等のスクラブ洗浄に最適な高度に洗浄された製品です。 国内外の装置に合わせて多種のスムースブラシ,イボ付ブラシ,パックブラシ,ペンタイプブラシを用意しております。 KM−PVAブラシは純度の高い日本製原材料を使用した成形品です。切削はしておりません。 成形後、酸・アルカリを使った特殊洗浄・純水リン...
メーカー・取り扱い企業: KMジャパン株式会社
-
-
精度・能率アップへの要求に応える砥石をオーダーメイドでご提供。製品ライ…
度、表面粗さを向上したい ・作業環境をクリーンにしたい ・ドレスインターバルの伸長、ノードレス化を実現したい ・目詰まりやスクラッチをなくしたい ・パワー半導体ウエハの加工で潜傷を浅くし、CMP量を減らしたい ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニートレックス 【販売本社】
-
-
その研磨機部品まだ使えませんか?頑固な汚れを落とし使用可能。新品交換に…
研磨機、CMP装置の部品(研磨材タンク内冷却管、研磨材タンク、水量計等)“汚れ”は、放置していると製品の品質に影響を与えるリスクがあり、故障トラブルの原因のひとつにもなる厄介な存在。 とはいえ「付着研磨材はな...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
前工程製造ならびに後工程製造の機械清掃などの用途に好適
『MicroSeal 1400』は、発塵が非常に少なく、イオンの注入・拡散、 CMP工程での使用が可能な製品です。 繊維の脱落が少ないことから、フラット・パネル、チャンバーの清掃、 光学製品の清掃にも役立ちます。 無菌環境でのオートクレーブ使用にも好適です。 ...
メーカー・取り扱い企業: 森村商事株式会社 電子材料事業部
-
-
不可能を可能に。切削の未来を見据え、常に挑戦し続けます。
り快適にするご提案 ○研削盤事業 →切削工具を再研削できる研削盤を開発 ○スペシャルツール事業 →目的にあわせた、ツールの開発とソリューション ○研究開発(事例) →単結晶SiCの曲面CMP加工による新規切削工具の開発 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: ビーティーティー株式会社
-
-
前工程製造ならびに後工程製造の機械清掃などの用途に使用できます!
工程製造ならびに後工程製造の機械清掃 ■酸化物、金属化、CVD区域での使用 ■フォトリソグラフィ・プロセス区域での使用 ■フラット・パネル、光学製品、チャンバーの清掃 ■イオン注入、拡散、CMP工程での使用 ■無菌環境でのオートクレーブ使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 森村商事株式会社 電子材料事業部
-
-
APPシリーズ
CMP工程の濾過に最適!多層式のPP繊維で纏めたデプスタイプです。フィルターメディア部の各層は、上流側より下流側に向かい徐々に目開きの細かくなるよう構成している。 ...
メーカー・取り扱い企業: 凱懿國際有限会社 台湾本社
-
-
洗浄テストを行いお客様にあった洗浄方法をご提案!※資料無進呈中!
有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー(研磨材)の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。 当社が行った、スラリーアームの洗浄前と洗浄後をご紹介しています。 今なら資料を無料進呈中! ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
研磨機部品に付着した研磨剤をキレイに洗浄【※無償テスト実施中!】
歩留まりアップや品質安定に最適な洗浄剤!定期的な設備、配管付着研磨剤洗…
現在、研磨機(定盤横、研磨材タンク等)、CMPののぞき窓等に貼り付着研磨材を軽減及び簡単洗浄できるフィルムを開発テスト中です。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
SiCの両面研削を実現!両面研削加工
いて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ<0.5nm (後工程CMP) ■TTV<2μm/Warp<10μm ■高速圧研磨装置『EJD-6BY』と 固定砥石 『MAD Plate』を使用することで SiCの両面研削加工を実現 ※詳しくはPDF資料...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
-
-
洗浄テストを行いお客様にあった洗浄方法をご提案!※資料無料進呈中!
有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー(研磨材)の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。 当社が行った、研磨機定盤下チラー内洗浄の水質分析結果をご紹介します。 今なら資料を無料進呈ト中! 【...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
洗浄テストを行いお客様にあった洗浄方法をご提案!※資料無料進呈中!
有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー(研磨材)の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。 当社が行った、精密機器付属チラー内の水質分析結果をご紹介します。 今なら資料を無料進呈中! 【水質分...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
洗浄テストを行いお客様にあった洗浄方法をご提案!※資料無料進呈中!
有限会社ファーストダックは、研磨機・CMPマシンに付着したスラリー(研磨材)の洗浄剤、洗浄方法を提供している会社です。 当社が行った、金型付属チラーの水質分析結果をご紹介します。 今なら資料を無料進呈中! 【水質分析】 ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ファーストダック
-
-
前工程製造の機械清掃をはじめ、液剤等の液体の拭取り用などに使用できます…
【用途例】 ■前工程製造の機械清掃 ■酸化、金属化、CVD区域での使用 ■イオン注入、拡散、CMP工程での使用 ■フォトリソグラフフィ・プロセス区域での使用 ■フラット・パネル、チャンバーの清掃 ■無菌環境でのオートクレーブ使用 ■液剤等の液体の拭取り用 ■殺菌・消毒剤の塗布に使用 ...
メーカー・取り扱い企業: 森村商事株式会社 電子材料事業部
- 表示件数
- 45件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
PR
-
【お役立ち情報】アルミナ代替 複合材料SA701
大型アルミナ部品でお困りのお客様へ - その問題、セラミックス…
日本ファインセラミックス株式会社 -
工業用高精細レンズシリーズ『ZEISS Dimension』
4/3型の大型エリアセンサに対応。超高分解能で細部まで高精細な…
株式会社ケンコー・トキナー 本社 -
ウルトラファインバブル水を使用した『MUFB温水洗浄機』
ウルトラファインバブル水を使用した温水洗浄で、ボイラー燃料使用…
株式会社丸山製作所 産機営業部