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PRコンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです!
卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応できる卓上ラップ装置です。 <特徴> ・精密鏡面加工の自動化 ・耐薬品性に優れたボディ設計 【使用可能定盤外径 : Φ380 mm】 *ご要望がございましたらお...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
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小型全電動竪型スライドテーブル式射出成形機『VES5-S8EV』
PR成形機用新型コントローラを搭載!同一機での多種多様な小型精密成形が可能
『VES5-S8EV』は、インラインスクリュ方式を採用した 小型全電動竪型スライドテーブル式射出成形機です。 タイバーレス構造採用により、ハーネス、センサの成形が容易なほか、 インサート+フープ成形等多彩なバリエーションに対応可能。 金型交換も容易に行なえ、多品種少量生産に効果を発揮します。 【特長】 ■インラインスクリュ方式採用で小サイズ ■モーメントフリー採用により、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社山城精機製作所
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CMPスラリー
CMPスラリーはサファイア、SICウェハー、窒化アルミニウム、セラミックス、金属材料などのポリッシュ加工専用に最適化されたシリカスラリーです、粒子径の均一性に優れ、分散安定性が高く、均一でかつ良好な仕上げ面が得られます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サミットスーパーアブレーシブ
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ダイヤモンドスラリーやCMP用研磨剤など、様々なラインアップをご用意し…
お問い合わせください。 【ラインアップ】 ■ダイヤモンドスラリー ■GC研磨剤(緑色炭化ケイ素) ■WA研磨剤(白色アルミナ) ■酸化セリウム研磨剤 ■コロイダルシリカ研磨剤 ■CMP用研磨剤 【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、...
メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社
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前工程製造ならびに後工程製造の機械清掃などの用途に好適
『MicroSeal 1400』は、発塵が非常に少なく、イオンの注入・拡散、 CMP工程での使用が可能な製品です。 繊維の脱落が少ないことから、フラット・パネル、チャンバーの清掃、 光学製品の清掃にも役立ちます。 無菌環境でのオートクレーブ使用にも好適です。 ...
メーカー・取り扱い企業: 森村商事株式会社 電子材料事業部
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前工程製造ならびに後工程製造の機械清掃などの用途に使用できます!
工程製造ならびに後工程製造の機械清掃 ■酸化物、金属化、CVD区域での使用 ■フォトリソグラフィ・プロセス区域での使用 ■フラット・パネル、光学製品、チャンバーの清掃 ■イオン注入、拡散、CMP工程での使用 ■無菌環境でのオートクレーブ使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 森村商事株式会社 電子材料事業部
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APPシリーズ
CMP工程の濾過に最適!多層式のPP繊維で纏めたデプスタイプです。フィルターメディア部の各層は、上流側より下流側に向かい徐々に目開きの細かくなるよう構成している。 ...
メーカー・取り扱い企業: 凱懿國際有限会社 台湾本社
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前工程製造の機械清掃をはじめ、液剤等の液体の拭取り用などに使用できます…
【用途例】 ■前工程製造の機械清掃 ■酸化、金属化、CVD区域での使用 ■イオン注入、拡散、CMP工程での使用 ■フォトリソグラフフィ・プロセス区域での使用 ■フラット・パネル、チャンバーの清掃 ■無菌環境でのオートクレーブ使用 ■液剤等の液体の拭取り用 ■殺菌・消毒剤の塗布に使用 ...
メーカー・取り扱い企業: 森村商事株式会社 電子材料事業部
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【お役立ち情報】アルミナ代替 複合材料SA701
大型アルミナ部品でお困りのお客様へ - その問題、セラミックス…
日本ファインセラミックス株式会社