• 『PTFEライナーフレキシブルホース』 製品画像

    『PTFEライナーフレキシブルホース』

    PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…

    Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...

    • s1.jpg
    • s2.jpg
    • s3.jpg
    • s4.jpg

    メーカー・取り扱い企業: Watson-Marlow(ワトソンマーロー)株式会社 東京本社、大阪支社

  • 新発売!低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」 製品画像

    新発売!低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」

    PR成形機周辺の配管に!狭いピッチにも対応、レンズ部分のみの交換が可能でコ…

    『FMC-25-1F/FMC-25-2F』は、レンズ交換タイプのフローモニターです。 従来品「FMC-30-3F/FMC-30-4F」の小口径タイプが新登場! 従来のフローモニターよりさらに低流量(0.6~6L/min)な配管に対応しています。 2色の羽根の回転で流体の流れを目視で確認でき、低流量時の流れがより見やすくなりました。 金型の小型化に伴う、狭いピッチにも取付可能です。 従来品同様、配...

    • 2021-04-14_17h09_32.png
    • 2021-04-14_17h11_17.png
    • 1.jpg
    • 2.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 日東工器株式会社

  • 卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』 製品画像

    卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』

    コンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです!

    卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社

  • ラップマスターCMPマシーン『LGP-712』 製品画像

    ラップマスターCMPマシーン『LGP-712』

    φ8"~φ12"ウェーハに対応!CMP加工中にln-Situパッドコン…

    『LGP-712』はφ8"~φ12"ウェーハに対応し高精度技術の開発を支援する製品です。 2ポリッシングヘッドを備えデバイスの平坦化CMPに対応。 パッドやスラリーのご研究開発用の実験機としても適しております。 当社では、Cu-CMPなどのメタルCMPにも対応しお客様のご要望に お応えできるように多くのオプションを用意して...

    メーカー・取り扱い企業: ラップジャパン株式会社

  • CMPパッドスライサー『CVシリーズ』 製品画像

    CMPパッドスライサー『CVシリーズ』

    あて板を使用することにより、材料の突き残りをほとんどなくすことができま…

    『CVシリーズ』は、木材加工機械で培ってきた繊細な技術を樹脂の スライスに応用したCMPパッドスライサーです。 あて板を使用することにより、材料の突き残りをほとんどなくすことが可能。 CMPパッドをはじめ、リノリウム(床材)やPVC、ウレタンフォーム、 各種機能性樹脂の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社丸仲鐵工所

  • CMP装置  POLI-400 製品画像

    CMP装置 POLI-400

    両面研削機や研磨機、CMP装置のことならお任せください。

    【特長】 ・R&D用の小型CMP装置 プラテンφ400 4,6inchウェハー対応 ・安定した加工再現性と維持費の低減が得られます ・6~12inch対応の機種も有ります 切削機・研磨機に関してはお問...

    メーカー・取り扱い企業: AMTEC株式会社 AMTEC 株式会社

  • ラップマスターCMPマシーン『LGP-612』 製品画像

    ラップマスターCMPマシーン『LGP-612』

    高精度研磨を実現!多段階ステップを有し、複雑な研磨レシピに対応可能

    『LGP-612』は、φ4"~φ8"ウェーハ対応の2ポリッシングヘッドを備えた 高精度技術の開発を支援する製品です。 ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用。 ポリッシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっており、 低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。 【特長】 ■偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度...

    メーカー・取り扱い企業: ラップジャパン株式会社

  • 研磨盤 製品画像

    研磨盤

    固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介…

    】 ・2TS4(対応砥粒 1µm~6µm) ・2TS5(対応砥粒 0.5µm~6µm) ・2TS8(対応砥粒 0.5µm~6µm) ・4FV1(対応砥粒 0.015µm~3µm) 【CMP工程】 ・CMPクロス(対応砥粒 0.015µm~0.04µm) ・CMPパッド IC-1000(対応砥粒 0.015µm~0.04µm) その他、サンプルに適した研磨盤をご紹介いたしま...

    メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社

  • ポリシング加工とは? 製品画像

    ポリシング加工とは?

    ラッピング加工された梨地面を平滑な表面に仕上げる鏡面研磨法!

    社新興製作所では、『ポリシング加工』を行っております。 ポリシング加工とは、ラッピング加工された梨地面を平滑な表面に 仕上げる鏡面研磨法です。 工法については機械研磨や化学機械研磨(CMP)があり、当社では 単結晶やセラミックス、金属、樹脂に至るまでの種々材料物性に応じた 工法を適切に選定し、ご希望の表面粗さに仕上げさせて頂きます。 表面粗さはサブミクロンからナノオーダー...

    • 2020-06-09_15h28_54.png
    • image_04.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新興製作所

  • 【277台】日本唯一の大型測定機械もあり!機械設備・測定機一覧 製品画像

    【277台】日本唯一の大型測定機械もあり!機械設備・測定機一覧

    先端技術をささえる超精密研磨のクリスタル光学の機械設備・測定機一覧です

    【主な設備】 ○研磨装置(定盤最大サイズ:3200mm) →平面ラップ盤 →両面ラップ盤 →大型オスカー式ラップ盤 →超大型CMP研磨機  他 ○研削盤(最大サイズ:5000mm) →大型門型平面研削盤 →超精密成形平面研削盤(静圧式) →平面研削盤 →内面研削盤  他 ○切削加工機(最大サイズ:8000mm) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリスタル光学

  • 大型機械完備! 株式会社クリスタル光学 機械設備・測定機一覧 製品画像

    大型機械完備! 株式会社クリスタル光学 機械設備・測定機一覧

    先端技術をささえる超精密研磨のクリスタル光学の機械設備・測定機一覧です

    【主な設備】 ○研磨装置(定盤最大サイズ:3200mm) →平面ラップ盤 →両面ラップ盤 →大型オスカー式ラップ盤 →超大型CMP研磨機  他 ○研削盤(最大サイズ:5000mm) →大型門型平面研削盤 →超精密成形平面研削盤(静圧式) →平面研削盤 →内面研削盤  他 ○切削加工機(最大サイズ:8000mm) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリスタル光学

1〜9 件 / 全 9 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR