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    『PTFEライナーフレキシブルホース』

    PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…

    Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...

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    メーカー・取り扱い企業: Watson-Marlow(ワトソンマーロー)株式会社 東京本社、大阪支社

  • 新発売!低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」 製品画像

    新発売!低流量の配管の通水をひと目で確認「フローモニター小口径」

    PR成形機周辺の配管に!狭いピッチにも対応、レンズ部分のみの交換が可能でコ…

    『FMC-25-1F/FMC-25-2F』は、レンズ交換タイプのフローモニターです。 従来品「FMC-30-3F/FMC-30-4F」の小口径タイプが新登場! 従来のフローモニターよりさらに低流量(0.6~6L/min)な配管に対応しています。 2色の羽根の回転で流体の流れを目視で確認でき、低流量時の流れがより見やすくなりました。 金型の小型化に伴う、狭いピッチにも取付可能です。 従来品同様、配...

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    メーカー・取り扱い企業: 日東工器株式会社

  • CMPパッド再生・再利用技術 再盛エコキャップ 製品画像

    CMPパッド再生・再利用技術 再盛エコキャップ

    CMPプロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が…

    半導体の平坦化(CMP)プロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました。...

    メーカー・取り扱い企業: 西華デジタルイメージ株式会社

  • 自動CMP装置  製品画像

    自動CMP装置

    COF(摩擦係数)やパッド表面温度、研磨液の温度、装置内の室温などをモ…

    m 深さ:735mm~785mm(フロントバー含む) 幅:1680mm + コントロールアーム(平置き180mm) 正味重量:590kg 梱包総重量:830kg 化学的適合性:酸性およびアルカリ性CMPスラリー 【Tribo】 プレート速度:0-100rpm プレート直径:400mm プレートの回転:正方向と逆方向 キャリア1の速度:10-100rpm キャリア2の速度:10-100rpm 利用...

    メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社

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    全自動CMP装置『MGP-808XJ』

    ドライイン/ドライアウトが可能!シリコンウェーハの鏡面仕上げ用装置

    『MGP-808XJ』は、ラップマスター SFT製「LGP-808XJ」の後継機種の 全自動CMP装置です。 当社開発の新型Headを採用し、ウェーハ表面のGBIR、SFQRの向上を実現。 搬送はエッジクランプ又はエッジコンタクト方式です。 また、洗浄機との結合によりドライイン/...

    メーカー・取り扱い企業: ミクロ技研株式会社 本社

  • CMPスラリー用PPフィルター 製品画像

    CMPスラリー用PPフィルター

    CMPフィルター プレウェット特許取得

    超高圧でプレフラッシングを行った当フィルターは、ノンフラッシングのフィルターと比較すると、1ml中のパーティクル数や金属汚染レベルにおいて 高い性能を発揮します。...製造工程における薬液の廃液量を削減し、循環による再利用率を向上させる環境に優しいソリューションを提案 生産性の改善やコストダウンの実現にも寄与する事が可能です。...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トリコ 東京支店

  • 研磨盤 製品画像

    研磨盤

    固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介…

    】 ・2TS4(対応砥粒 1µm~6µm) ・2TS5(対応砥粒 0.5µm~6µm) ・2TS8(対応砥粒 0.5µm~6µm) ・4FV1(対応砥粒 0.015µm~3µm) 【CMP工程】 ・CMPクロス(対応砥粒 0.015µm~0.04µm) ・CMPパッド IC-1000(対応砥粒 0.015µm~0.04µm) その他、サンプルに適した研磨盤をご紹介いたしま...

    メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社

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    卓上型精密研磨装置

    ラッピング(粗研磨)からポリッシングまでこれ1台 GaAsやInPとい…

    μm分解能でモニター&自動修正を行います。 研磨治具が装置本体と通信し、研磨レートのチャート表示や目標研磨量の設定、マルチレシピの設定などが出来ます。 また、GaAsやInPといった化合物半導体のCMPに対応した薬品モデルもご用意しており、高精度、高速、ダメージレスのCMPも一台で全て行うことが出来ます。(ディレイヤリングも可)...

    メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社

  • 【スラリー/高純度流体向け】フッ素樹脂製ダイアフラムバルブ 製品画像

    【スラリー/高純度流体向け】フッ素樹脂製ダイアフラムバルブ

    スラリーなどの研磨性流体に最適なフッ素樹脂製ダイアフラムバルブ

    半導体製造装置及び化学工場の薬液配管向けのフッ素樹脂製バルブです。CMPスラリー等粘性薬液に最適な抵抗の少ない流路構造のダイアフラムバルブ(ダイヤフラムバルブ)です。抵抗の少ない構造である為、サイズによっては他社比較2倍以上の流量能力がございます。 また,液溜まりの...

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    メーカー・取り扱い企業: ゲミュージャパン株式会社

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