• 卓上CNT/グラフェン成膜装置 製品画像

    卓上CNT/グラフェン成膜装置

    長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型C…

    有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 二軸押出機用スクリューエレメント『SMAPスクリュー』 製品画像

    二軸押出機用スクリューエレメント『SMAPスクリュー』

    異常滞留がない・滞留時間分布が良好!CNT、CNFのコンパウンディング…

    当社で取り扱う、完全自己清掃型の二軸押出機用スクリューエレメント『SMAPスクリュー』をご紹介します。 高溶融、可塑化能力を有しており、複合材コンパウンディングや CNT、CNFのコンパウンディングに好適。 また、ニーディングディスク、定量供給装置が不要となるほか、 ダウンサイジング(小口径化、端L/D化)が可能です。 【特長】 ■完全自己清掃型 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社プラスチック工学研究所 本社・工場

  • サーマル式ALD原子層堆積装置 製品画像

    サーマル式ALD原子層堆積装置

    ALD装置。小型・低価格で、原子レベルの堆積制御で精確な厚さ実現!

    ハイテックシステムズは、ALD(Atomic Layer Deposition)装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD(Atomic Layer Deposition)事業部門で 先端のALD(原子層堆積)技術開発を行い、世界の研究機関、大学、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • プラズマ式/サーマル式両用ALD装置 製品画像

    プラズマ式/サーマル式両用ALD装置

    プラズマ、サーマル両方のALD成膜が可能です。

    ハイテックシステムズは、ALD(Atomic Layer Deposition)装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD(Atomic Layer Deposition)事業部門で 先端のALD(原子層堆積)技術開発を行い、世界の研究機関、大学、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 量産用バッチ式ALD装置 製品画像

    量産用バッチ式ALD装置

    バッチ装置 複数のカセットを同時成膜、大きな3D基板成膜が可能です。

    ハイテックシステムズは、ALD(Atomic Layer Deposition)装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD(Atomic Layer Deposition)事業部門で 先端のALD(原子層堆積)技術開発を行い、世界の研究機関、大学、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 大型基板用ALD装置 製品画像

    大型基板用ALD装置

    4.5世代、5.5世代角基板を成膜します

    ハイテックシステムズは、ALD(Atomic Layer Deposition)装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD(Atomic Layer Deposition)事業部門で先端のALD(原子層堆積)技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • ロータリーキルン式連続CVD装置 製品画像

    ロータリーキルン式連続CVD装置

    粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 管状炉CVD装置 製品画像

    管状炉CVD装置

    長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...【特徴】 ○ 真空CVDモードおよび大気圧CVDモードを実施できます。 ○ マスフローガス導入システム標準装備 ○ ナノカーボン生成向けCVDプロセスレシピを開示 ●その他機能や詳細はお問い合わせくだ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 成形加工装置『高せん断成形加工装置』 製品画像

    成形加工装置『高せん断成形加工装置』

    多様な新規ナノコンポジット材料の開発に成功している装置です

    発材料】 ■ガラス代替  ・透明ナノポリマーアロイ(PC/PMMAアロイ) ■金属代替  ・高強度・軽量化素材(等方的・均一分散CFRP)  ・伸縮自在電極用素材(熱可塑性エラストマー/CNT) ■レアメタル代替  ・新規ナノコンポジット素材:Pt・CNT/IL/CP Pd・PEEK/SiO2粒子 ■石油資源代替  ・エコマテリアル(植物性由来orCO2由来) ※詳しくは...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社HSPテクノロジーズ

  • 【分級機】旋回気流式ふるい分け装置 スピンエアーシーブ 製品画像

    【分級機】旋回気流式ふるい分け装置 スピンエアーシーブ

    当社独自のふるい分け技術により、微粉域での連続ふるい分級が可能に。

    ピンエアーによる驚異的な分散力 ○極めてシャープな分級 ○ソフトな分級 ○シンプル構造 ○豊富なラインナップ(量産型/インライン型/ラボ用) ○特にカサ高い粉体の異物除去に成果を発揮 (CNT、ホワイトカーボン等) ※詳細はお気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社セイシン企業

  • 奈良機械製作所 粒子の表面改質 製品画像

    奈良機械製作所 粒子の表面改質

    新規材料への応用へつながる、奈良機械製作所の粒子の表面改質技術

    aTiO3 誘電体材料 ■母:Nd-Fe-B/子:SiO2 磁性材料 ■母:金属コート樹脂/子:樹脂 電子材料 ■母:PP/子:イオン交換樹脂 触媒材料 ■母:チタン合金/子:多層CNT 構造材料 ■母:PMMA/子:SiC 研磨砥粒材料 ■母:タルク、マイカ/子:PMMA 化粧品材料 ■母:鉄系/子:マグネシア 触媒材料 ■母:水酸化ニッケル/子:ニッケル 電池材...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奈良機械製作所

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