• コーティングの悩みを解決!『表面処理技術』のワンストップサービス 製品画像

    PR6000Hvの超硬DLCも!大物対応のコーティングも!耐熱1000℃の…

    「コーティング・表面処理の比較検討、面倒ではないですか?」 数百種類の高機能表面処理のネットワークを持つ千代田交易なら、 窓口はひとつで様々な課題解決の提案が出来ます。 潤滑性、耐摩耗性、非粘着性、耐熱性などの機能性を持つ被膜のご提供や、 現場ごとに変わる「コスト」「短納期」「機能付加」などのニーズにあわせ、 適した表面処理技術を提案する事が出来ます。 【取扱い技術の一例】...(つづきを見る

  • シャワーヘッド型CVDの解析ソフト『DSMC-Neutrals』 製品画像カタログあり

    「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア…

    シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列...(つづきを見る

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像カタログあり

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャン...(つづきを見る

  • フジタ技研『高精度 CVDコーティング技術』 製品画像カタログあり

    CVDは「教科書に存在しない技術」。絶妙の製膜コントロール技術で実現!

    CVDコーティング技術は、経験に裏打ちされた自信が品質の差となって表れます。 長年にわたる試行錯誤と経験の蓄積・絶妙の製膜コントロール技術により 他社にマネのできない精度を実現しています。 【特徴】 ■膜が非常に硬く、滑り性も良い ■TiC+TiNの2層膜で高い膜靭性 ■FTCより高い耐熱性 ■冷間鍛造、板金プレス加工等、幅広く使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置) 製品画像カタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • PVD・CVDコーティング(耐熱用プライムコート−T) 製品画像

    PVD・CVDコーティング(耐熱用プライムコート−T)

    精密金型部品・各種表面処理・特殊切削工具・ケミカル用品販売総合商社 ツールテック東北社 『PVD・CVDコーティング(耐熱用プライムコート−T)』のご案内です。 豊富なコーティング被膜の選択により、各種金型・治工具・切削工具などの 寿命延長を行いトータルコストの引き下げを実現します。 本体加工からコーティングまでの一貫加工により、迅速な対応が可能となります。 1,000...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...(つづきを見る

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像カタログあり

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送...(つづきを見る

  • CVD装置 製品画像カタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 書籍:プラズマCVD 製品画像

    プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた 反応機構の理解とプロ…

    ■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■ 電気回路、電磁気学、放電工学、流体力学、化学工学、表面科学…… 様々な学問体系が絡み合う、複雑なプラズマCVDを「使いこなしたい!」と願う技術者・研究者へ ○「...(つづきを見る

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • CVDコーティング装置 製品画像カタログあり

    どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

    中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」 製品画像カタログあり

    小ロット生産・試作・開発向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成…

    「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。 密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。 装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「D501」 製品画像カタログあり

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

     「D501」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、研究施設・試作/開発ライン向けのバッチ式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、異なる形状・サイズの基板への成膜が一回の処理ででき、また、量産用装置「A6300S」と同タイプの成膜ヘッドを使用している為、量産装置導入前の試作ラインでの使用や、R&Dに適しています。  その他、目...(つづきを見る

  • ロータリーキルン式連続CVD装置 製品画像

    粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...(つづきを見る

  • CVD装置向けモジュールヒーター 製品画像カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • 回転CVD炉 製品画像

    リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

    炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...(つづきを見る

  • 受託加工『CVD-SiCコーティング』 製品画像カタログあり

    高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

    CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2m...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「A6300S」 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「A6300S」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、2レーンでの連続成膜により、高生産性を確保し、CVDコートSiCトレーの採用によりメタルコンタミ(金属汚染)の低減を実現しています。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「AMAX1000S」 製品画像カタログあり

    量産対応 太陽電池向け NSG(SiO2)/BSG/PSG膜成膜用 連…

     「AMAX1000S」は、結晶系太陽電池(セル)製造用固相拡散ソース膜・ハードマスク/拡散バリア膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  拡散層(p+/++層、n+/++層、BSF層、FSF層等)形成において、形状(拡散濃度/深さ)、シート抵抗を容易に制御する事が可能です。また、拡散源として使用した膜をそのまま次の拡散の...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「AMAX」シリーズ 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「AMAX」シリーズは、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  8”・12”のウェハにも対応しており、連続式のメリットである量産性を確保しつつ、高品質な成膜が可能です。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装置によるサンプル成膜も可能です。詳しくはお問合せください。.....(つづきを見る

  • 拡散炉・CVD炉用高温断熱材 断熱リング 製品画像カタログあり

    拡散炉・CVD装置の断熱材、『断熱リング』

    【特徴】 ・外皮材及び縫糸は高耐熱性アルミナ長繊維を使用し、長寿命。 ・外皮材組成はAL2O3 72%、SIO2 28%からなり、  繊維は直径7μと細く柔軟性に優れています。 ・酸化ホウ素を含有しないアルミナ長繊維を仕様した  断熱リングは特許製品 ・石英チューブや炭化ケイ素チューブの形状に合わせて  加工します ・ニチビ二しかない高グレード品として、  さらに...(つづきを見る

  • グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ 製品画像カタログあり

    大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した…

    少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、 同時に大幅なコストダウンを実現しました。 また、従来小型では困難とされてきた5~100Pa での圧力コントロール機能を備え、 より多様な処理パターンに対応可能としました。 さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、 大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。 詳しくは、カタログをダウンロ...(つづきを見る

  • 太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置 「AMAX1000S」 製品画像カタログあり

    結晶太陽電池セル用量産装置を新たにリリースしました

    太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置「AMAX1000S」は、太陽電池(セル)製造用に開発されたハイスループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。拡散用ハードマスクやパッシベーション用のSiO2膜、固相拡散源...(つづきを見る

  • 耐プラズマ表面処理 CVDイットリア 製品画像カタログあり

    CVDイットリアは耐プラズマ性に優れた高純度保護膜です。

    CVDイットリア」は、耐プラズマ性に優れた透明性保護膜です。 密着性が高い緻密膜ですので、プラズマ処理プロセス(F系、Cl系) で使用されるウィンドウ類の保護膜として有効です。...(つづきを見る

  • PVD・CVDコーティング(耐熱用プライムコート−T) ヴィーナスコート  製品画像

    PVD・CVDコーティング(耐熱用プライムコート−T) ヴィーナスコー…

    アルミダイカスト金型・冷間温間鍛造金型部品に適した被膜 『ヴィーナスコート』 ■□■特徴■□■ ■超耐酸化・高硬度   1,100℃以上の耐熱性とHV3,500の被膜硬度を有し、  金型の耐久性を飛躍的に向上させる画期的な被膜 ■1,100℃以上の耐熱、耐酸化により高温域での膜寿命向上 ■HV3,500以上の膜硬度により、耐磨耗性を大幅に向上 ■耐熱酸化性、高硬度が求めら...(つづきを見る

  • CVD合成ダイヤモンド 製品画像

    CVD合成ダイヤモンド

    CVD法により合成された極めて高品質のダイヤモンド結晶が手頃な価格でご購入いただけます。単結晶、多結晶、ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜等、ご希望に応じた形態で提供させていただきます。...(つづきを見る

  • デジタルリサーチ PVD・CVD・TD・DLC受託加工市場の調査 製品画像

    PVD・CVD・TD・DLC受託加工市場の現状と展望を調査したレポート…

    この調査資料は、金型、切削工具、機械部品の摺動部、腕時計など装飾品の表面硬化処理として利用されるセラミックコーティングやTD処理、ダイヤモンドライクカーボン被膜の受託加工市場の現状を、PVD・CVDといった方式別、需要分野別、TiN、TiAlN、CrNなど薄膜材料別に調査した資料です。2009年度版ではプレス金型、ダイカスト金型のコーティングの現状も調査しております。...(つづきを見る

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「SiC技術」 製品画像カタログあり

    優れた純度!耐食性・耐酸化性・耐熱性・耐摩耗性が高いSiC

    三井造船で培った独自のCVD-SiCで製作されたアドマップのSiC製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えており、 あらゆるフィールドで使用されております。 【特徴】 ○超高純度...(つづきを見る

  • CVDプロセスガス分析装置 MPQMS] 製品画像

    CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

    当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...(つづきを見る

  • オスミウムコーター HPC-1SW型ホローカソードプラズマCVD 製品画像カタログあり

    SEMで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング!!

    )を追加可能。   四酸化オスミウムを大気に晒す不安が解消されます。 ○HPC専用の真空ポンプと排出オスミウムトラップ付属。 【その他の特徴】 ○ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法(特許出願中)を採用、   試料にやさしく金属オスミウムをコーティングします。 ○試料の大きさ、高さには制限がありません。 ○結晶オスミウムの消費を節約できます。 ●詳しくはお問い合...(つづきを見る

  • 管状炉CVD装置 製品画像

    長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...(つづきを見る

  • 半導体材料 ALD/CVD材料 製品画像カタログあり

    高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

    業界に先駆けて新規ALD/CVD材料の開発に着手してまいりました。その結果、高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産されております。詳しくはカタログをダウンロード、もしくは...(つづきを見る

  • CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像カタログあり

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    して 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子...(つづきを見る

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「SiC製品」 製品画像カタログあり

    SiC成膜技術で未来をひらく!独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

    独自の CVD - SiC( 化学蒸着法)で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇...(つづきを見る

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「SiC製品」 製品画像カタログあり

    SiC成膜技術で未来をひらく!独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

    独自の CVD - SiC( 化学蒸着法)で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇...(つづきを見る

  • PVD・CVDセラミックコーティング『セラミックサーフェス』 製品画像カタログあり

    お客様の求められる最適なコーティング技術とサービスをご提供します!

    『セラミックサーフェスシリーズ』は、PVD・CVDセラミックコーティングを 主体とした表面処理技術です。 イオンプレーティングにより高密着、高硬度コーティング膜の生成を行う 「PVDコーティング」をはじめ、「ハイブリッドPVDコーティン...(つづきを見る

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「SiC各種物性値」 製品画像カタログあり

    SiC製品の代表特性値、不純物濃度など各種物性値を紹介!

    三井造船で培った独自のCVD-SiCで製作されたアドマップのSiC製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えており、 あらゆるフィールドで使用されております。 【不純物拡散係数(cm...(つづきを見る

  • 耐プラズマ表面処理 CVDイットリアコート製品 製品画像カタログあり

    環境対応型の新商品開発

    CVDイットリアは耐プラズマ性に優れた高純度・透明保護膜です。...(つづきを見る

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「膜単体製造技術」 製品画像カタログあり

    厳しい環境下で多数の実績!適応可能が幅広い膜単体製造技術

    はじめ、複雑形状まで幅広く適応可能です。 半導体製造装置を中心に、超高温やプラズマの厳しい環境下での数多くの実績があります。 【製造工程(例)】 1.黒鉛基材を円板状に加工 2.全面にCVD-SiCコーティング 3.外周加工により基材を露出 4.高温酸化雰囲気中で基材除去 5.2枚の膜単体円板となる 6.研削/研磨・面取り・洗浄・検査 詳しくはお問い合わせ、またはカタロ...(つづきを見る

  • CVD-SiC(化学蒸着法)「ソリューション」 製品画像カタログあり

    ベストソリューションを提供!独自技術を中心としたソリューション

    独自のCVD-SiC技術を中心に、 分析力・解析力・設計力を掛け合わせ、構想の初期段階から参画し、 ベストソリューションを提供いたします。 【提案例】 ○超高温アニール装置用大型部材開発(ボート、...(つづきを見る

  • 単結晶・多結晶・ナノ結晶他『CVD合成ダイヤモンド』 製品画像カタログあり

    光学・放熱・機械・電気化学・センサーなどのアプリケーションに適していま…

    アイリックス株式会社では、単結晶・多結晶・ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜の『CVD合成ダイヤモンド』を取り扱っております。 ダイヤモンドドームツイーター、腕時計のコンポーネント、MEMS放射線やその他センサー(電離放射線検出器/線量計)、蛍光ビームモニター、ガスセンサー、電気...(つづきを見る

  • ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF 製品画像

    ホットフィラメント(ホットワイヤー)を搭載したコンパクトな卓上型CVD

    試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種(ラジカル)が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...(つづきを見る

  • 【新技術の導入】スパッタリング/プラズマCVD 製品画像カタログあり

    高エネルギーを利用して形成!材料そのものを叩き出す、再現性に優れた表面…

    研株式会社では、イオンプレーティング方式に加えスパッタ法によるコーティングサービスも始めました。 現在スパッタ法での対応膜種は、Ti、TiN、TiCとさせていただいております。 また、P-CVD(Plasma-Chemical Vapor Deposition)法によるコーティングサービスも始めました。 現在P-CVD法での対応膜種は、DLC(Diamond-Like Carbon)、...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置 製品画像カタログあり

    プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可!

    PE-CVD装置 ●各種MEMSデバイスにおける酸化膜の高速厚膜形成が可能 ●優れたステップカバレッジを実現 ●低水素含有の高品位SiN成膜が可能 ●SiN成膜プロセスで応力制御が可能...(つづきを見る

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