CVD | イプロスものづくり

PRエッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐…

当社は、半導体製造の分野における、熱特性や異物発生防止のニーズに応える特殊セラミック部品を提供しています。窒化アルミは、最高220W/m・Kの熱伝導率で、最大φ500のプレートを提供可能です。イットリアは、高い耐プラズマ性を備え、焼結材部品と溶射材をラインアップ。溶射時には高い密着性により、パーティクル低減のニーズに対応可能です。【特長】 ■窒化アルミは、半導体装置向...

メーカー・取り扱い企業：千代田交易株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

グ法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

真空成膜装置・高真空装置

お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取...

メーカー・取り扱い企業：西華デジタルイメージ株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

測定が可能なIn-situモニターです。特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100H...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

マントルヒータ　Mantle heater

配管部品の均一加熱を実現！CVDエッチング・アッシング装置に適していま…

ワッティーが提供する『マントルヒータ』は、配管・容器加熱用にご使用いただけます。発熱体を使用しない断熱材、保温材の設計製作も承っており、クロス材質も複数ご用意しているので、ご希望の仕様で製作が可能。（400℃以上のご希望の際はご相談ください。）また、サーモスタット、ヒューズ等の過昇温防止素子、及び熱電対、 Ptセンサ等の温度制御素子の取り付けなどオプションで承ります。...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

● 反応副生成ガスにも対応　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン　集合表示灯及びタッチパネル（オプショ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社巴商会管理部署：企画営業部

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

■Marathon gridsは、一般的なグリッドと比較して3倍の長寿命化達成　(他社製品への搭載可) ■独自技術によりRFシャントおよびアノード消失を防止したイオンガンを搭載 ■プラズマCVD、ドライエッチャー等の当社装置とのクラスター化も可能 ■複数ターゲットの搭載、デュアル・イオンガン・システムによるイオンアシスト機能等、　多彩な機能を選択可 ※詳しくは、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

高純度イットリア溶射材

耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末…

高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。アプリケーション例・プラズマエッチング装置　・CVD装置　・静電チャック　・焼成トレイ　など【メッセージ】フジミではお客様のご要望に応じた純度、粒度に調整した粉末の試作も可能です。セラミックス溶射材料に関してご質問やご要望等ございま...

メーカー・取り扱い企業：株式会社フジミインコーポレーテッド

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

ることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、　Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能 ■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能 ■150mm、200mm ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

『事例』プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策　無料進呈中

真空配管設備の不安を解消！プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の…

製品使用例のご紹介です。・プラズマCVD装置によるプラズマや高温排気の影響で配管接続に使用しているフッ素ゴムO-リングが劣化してしまう。・高価なセンターリングを採用しているが、コストが高く困っている。・真空設備のセンターリングが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

石英ガラス加工製品・再生石英材料

最高の加工技術で作られた製品をお客様に提供します。

【加工例】 ◯洗浄装置用処理槽 ◯ウェーハ用キャリアー、ボート、チャック ◯拡散・CVD用炉芯管 ◯エッチャー/アッシャー用ベルジャー ◯各種治工具類 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インテリンク

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

PICOSUN Sprinter ALDシステムは、優れた膜質、短いサイクルタイム、完全自動化により、ALDの大量生産に革命をもたらします。プリカーサフローを完全に層流にすることで、不要にCVD成長させることのない完全なALD成膜を保証し、システムメンテナンスの必要性を最小限に抑えます。プリカーサの供給が最適化されているため、材料の無駄がありません。 ※詳しくはPDFダウン...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。 CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。【特長】 ■高絶縁膜特性 ■多層膜 ■緻密・平坦膜 ■低ダメージ ■長期安定稼働 ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ（MFC）とデジタルマスフローメーター（MFM）は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

2020版薄膜作製応用ハンドブック

｢21世紀版薄膜作製応用ハンドブック｣から17年、基礎を押さえつつ、新…

薄膜材料の磁気特性　6章薄膜材料の光学特性　7章薄膜材料の力学特性　8章薄膜材料の化学特性第2編薄膜の作製と加工　1章基板と表面処理　2章 PVD法　3章 CVD法　4章液相薄膜堆積法　5章有機・高分子・生体関連薄膜作製法　6章パターン化技術　7章薄膜の加工／改質技術第3編薄膜・表面・界面の分析・評価　1章薄膜・表面・界...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エヌ・ティー・エス

真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』

【～300mmウエハ用】旋回軸にダイレクトドライブモータを採用！高…

■Z軸が標準搭載されているダブルアームタイプの真空用ウエハ搬送ロボット ■θ軸にダイレクトドライブモータを採用し、ウエハを低振動で搬送することでスループット向上に貢献 ■CVD装置、アニール装置など、高温プロセス装置に対応 ■可搬重量2kgのため、重量物搬送にも対応 ■ウエハセンター位置ずれ補正機能付き ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダイヘン

半導体製造装置部品

消耗部品から修理に渡り、お客様のコストダウンに貢献できるご提案、ご提供…

ンス、改造、設計、製作などお客様のご要望を形にする技術相談等も承っております。【半導体製造装置部品　取扱製品(一部)】 ■フォトリソ ■インプラ ■エッチング ■スパッタ ■CVD ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ポシブル

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されてい...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

ング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPD...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

薄膜蒸着装置

マグネトロン、イオンビームなど！さまざまな薄膜蒸着ソリューションから選…

れた信頼性、およびグローバルなサービスとサポートを通じて、一貫した再現性のある結果を提供する「薄膜蒸着装置」を取り扱っております。蒸着、熱蒸着、マグネトロン、スパッタリング、PE-CVD、イオンビームなど、幅広い材料とアプリケーションに対応するさまざまな薄膜蒸着ソリューションから選択可能。また、海外半導体製造装置メーカーの代理店として、新品半導体製造装置売買お...

メーカー・取り扱い企業： TST SEMICONDUCTOR株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

SiC半導体製造用機能部品

2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。【特長】 ■タンタルカーバイド・超高温（2000℃以上）での使用が可能・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック・1000℃までのプ...

メーカー・取り扱い企業：モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

ガラス基板などへの対応可　成膜加工（PVD）

１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

真空蒸着システム　総合カタログ

様々なニーズに対応

ourcdの　適切な組合せを通じて、お客様のneedsにお応えできる　最も優れたコーティング膜が合成できるようにした　複合コーディング装備 ○PECV 　プラズマを利用したCVD 　source gasなどで分解させ、そこで発生するグロー放電を利用する薄膜合成法 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業：パーカー熱処理工業株式会社川崎事業所

保守・メンテナンスサービス

半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

＜対応実績＞ CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など詳しくは、お問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研

薄膜加工技術の解説付きガイドブック『薄膜Q&A』を無料進呈中！

各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質…

・どんな膜ができるの？・こんなコーティングはできるの？・試作だけでもいいの？量産もできるの？東邦化研株式会社では、表面処理に好適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。イオンプレーティング部発足以来、約40年に渡って幅広い分野で実績を残してまいりました。その中で、特にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

半導体用発熱体

半導体製造に使われる拡散炉用ヒーター、CVD炉用ヒーターを提供　...

メーカー・取り扱い企業：アレイマジャパン株式会社カンタルカンパニー

メンテナンス・リサーチ株式会社　会社案内

真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

ッタリングカソード ○短形スパッタリングカソード ○シリンダー型スパッタリングカソード ○スパッタ用各種ターゲット ○高インパルススパッタ電源 ○アークプラズマ用パルス電源 ○プラズマCVD用パルス電源 ○メンテナンス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：メンテナンス･リサーチ株式会社

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

できます。また、反射防止膜(ARコート)による課題解決事例もご紹介しています。【比較処理方法】 ■乾式法・真空蒸着、スパッタリング、イオンアシスト(IAD)、化学的気相法(CVD) ■湿式法・ダイ、スプレー、ディッピング、フロー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ニデックコート事業部

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドCVD、ALDなど、厳しい条件の半導体製造プロセス用真空計としての用途の他、バクテリア増殖を防止する目的で蒸気を用いる、凍結乾燥装置、滅菌装置などのバイオ製薬プロセスに最適です。特徴 ●最小フ...

メーカー・取り扱い企業：日本エム・ケー・エス株式会社

【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります

相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製…

【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置【取扱製品】プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

ダイヤモンドは銅の5倍の熱伝導率を持ち、電気絶縁体であるため、完璧なヒートシンクとなります。 CVDダイヤモンドは、サイズや形状の制限を受けることなく、単結晶ダイヤモンドのすべての特性を備えています。ダイヤモンドの卓越した熱伝導率と高い電気抵抗率は、マイクロプロセッサの周波数向上...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

テクノウェーブ株式会社　会社案内

"お客様の発展に貢献すること"を第一に真空技術で産業の底辺を支えます

【製作実績装置・部品】 ■真空デシケータ ■実験用薄膜作成装置 ■高真空チャンバー ■真空ベアリング試験機 ■常圧CVD装置 ■イオンビームスパッタ装置 ■卓上型装着装置（Meius） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：テクノウェーブ株式会社

株式会社エイディーディー　事業紹介

私たちは半導体業界に新しい風を起こします。

に応じた製品を設計、開発いたします。 →チラー →純水加熱器 →セカンドパーツ ○修理：チラー、Heコンプレッサー、カップ温湿調器、RF電源等の修理を　行っております。 ○成膜受託：CVD、インプレーティングにて、薄膜の真空蒸着を行っております。 ○チラー省エネ改造：各種メーカーのチラーを対象に、省エネ改造を　提案いたします。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイディーディー

薄膜形成

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・イオンプレーティ...

メーカー・取り扱い企業：豊和産業株式会社

【資料】パワーデバイス用GaNのトレンチ加工

これまでの加工実績をベースに行ったGaNのトレンチ加工をご紹介します

当社は半導体製造装置メーカーとして、GaN系発光デバイス製造における ICPエッチング装置、CVD装置及びプロセス技術を提供してきた実績があります。また、4H-SiCパワーデバイスに対してもトレンチ加工、メサ加工等に対応できる装置を提供。当資料では、これまでの加工実績をベー...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

Local Scrubber

Local Scrubber Burn-wet ECS-3000S …

The abatement system is highly efficient, used in CVD- and etch applications for photovoltaic, semiconductor and other related industries. Advantage:...

メーカー・取り扱い企業：株式会社臺禹科機

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch ・0...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD装置用ガスボックス

弊社の業務内容としては、半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や特殊材料ガス配管工事などです。【製品事例】・高純度ガス供給ユニット製作・シリンダーキャビネット製作・排気ユニット製作・除害ユニット製作・クリーン自動溶接配管製作・真空配管製作など様々な製造を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南テクノ

耐熱単結晶 CVD ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch ・0...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる研究開発向け装置。ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。【特長】 ■共通プラットフォームを...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

合物半導体など、様々な材料に対応可能；幅広く温度の工程に対応可能；エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用 ...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

PLAD-250R PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-161 PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250E PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社