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50件 - メーカー・取り扱い企業
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59件 - カタログ
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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA
PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…
IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...
メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社
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半導体装置に最も適した材料！様々な用途で発揮されるソリッド SiC
ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD...
メーカー・取り扱い企業： 東海カーボン株式会社
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【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 様々なご提案！
【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】
こんなお困りごとはありませんか？ 課題、用途に適した膜種、方式を提案 【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがあ...
メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
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電子グレードCVDダイヤモンド 市場概要
CVD（化学気相成長法）： ダイヤモンド、炭素含有ガス（メタンなど）、水素の混合ガスを、標準大気圧より低い圧力と高温で励起・分解し、プラズマ炭素原子を形成し、基板上に堆積・交互に成長させる。多結晶ダイヤモンド（または、ダイヤモンド単結晶または準単結晶を析出・成長させるための制御された析出・成長条件）。CVDとはChemical Vapor Depositionの略で、化学気相成長法を用いて実験室で成長さ...
メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社
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TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ
波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…
0（G2.1）シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高...
メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社
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液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術！
『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応（CVD）させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社FLOSFIA
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市場調査レポート『CVD/ALD/SOD誘電プリカーサ2023』
米国の半導体材料専門の調査会社が、CVD、ALD、SODアプリケーショ…
本レポートは、CVD/ALD誘電体およびSODプリカーサの市場および技術動向に関する情報を提供します。 過去20年間、半導体産業向けのALDおよびCVDプリカーサに関する多くの研究論文や特許が発表されています。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社データリソース
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2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社
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プロセスの安定性を維持！誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置
当社の半導体における、回路形成「CVD(化学蒸着)」についてご紹介します。 化学蒸着は、ウェーハ上に誘電体および金属材料の ナノメートル厚の膜を配置。 このプロセスは非常に高温(800-2000℃)になるため、 デュブ...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
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素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少...
メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社
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独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱…
超高純度で耐食性及び耐熱性に優れているSiCダミーウェハは、長期のリサイクル使用が可能で、LP-CVD、高温拡散、CMP工程にてご使用頂けます。 ◆コストダウンに貢献 ・長期のリサイクル使用が可能 ・超高純度で耐食性及び耐熱性に優れている ・長期使用頂く事で、シリコンウェハの節約...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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セミコンダクター、ディスプレイ、ソーラー＆LEDに適用するダイシングブ…
当社が取り扱うEHWA社製の『ダイシングブレード』を紹介します。 基板への損傷を最小限に抑えた「CMP PAD CONDITIONER」をはじめ、 低費用で高い生産性を確保できる「CVD CMP PAD CONDITIONER」や 薄いWaferにも対応している「BACK GRINDING WHEEL」などをご用意しています。 【特長】 ■CMP PAD CONDITI...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
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部材の高寿命化､パーティクルの抑制 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリ…
半導体製造工程でのドライエッチングやプラズマCVDプロセスでは腐食性の強いハロゲンガスを用いるため、チャンバー付近の部材に耐プラズマ性が要求されます。 耐プラズマ部材を使用することにより、部材の浸食を抑制し、パーティクル発生を低減します。 時...
メーカー・取り扱い企業： 時田シーブイディーシステムズ株式会社
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炭化けい素セラミックス(TPSS)「高純度、高強度、高耐食性」
高純度、高強度、高耐食性を兼ね備えた半導体製造プロセスに欠かせない半導…
【特徴】 ・高温から低温プロセスまで幅広いユーザーニーズに対応 ・高純度、高強度、高耐食性 ・高温での使用が可能（～1350℃） ・パーティクル発生を抑制 製品の表面にCVD法により超高純度で緻密な炭化けい素膜をコーティングしたグレードも提供しており、特に、精密加工技術を取り入れたウェーハボートには定評があり、300mmウェーハプロセスの品質、歩留向上にも貢献していま...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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プログラミング＆デバッグ機能内蔵開発ボード！セキュアで信頼性の高いIo…
ートする スタンドアロンのWi-Fiモジュールです。 「WFI32E01PE」には、「PIC32MZW1シリーズ」が含まれており、Ethernet, CAN/CAN-FD, USB, CVD Touch 等の豊富なペリフェラルを搭載。 また、Azure、AWS、Google Cloud、プライベートクラウドへプロビジョニング 済のTrust&GOパッケージも搭載しており、セキ...
メーカー・取り扱い企業： グローバル電子株式会社
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優れた耐食性と物理特性がラインの信頼性を築きます！
CERASIC常圧焼結SiCセラミックスは耐磨耗・耐食性が要求される機械部品に最適な材料です。 半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められており、高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。 【特徴】 ・高強度 ・高耐摩耗性 ・高耐食性 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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お客様の仕様に合わせ、適した材料・プロセスを選択！ 少量の微細パター…
〔特徴〕 単工程～ワンストップまで要求に応じて承ります ・基板手配 ・・・多種多様な材料に対応 ・成膜 ・・・スパッタ・蒸着・CVD・メッキ等材料準備も充実 ・イオン注入 ・・・60種以上の材料が可能 ・リソグラフィー・・・コンタクトアライナー、ステッパー、EB描画、 ナノインプリントに対応 ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル
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ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…
ウエハ、パターンウエハ等を提供し、 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能、 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、V...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック 本社
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結晶シリコン成長時に使用されるドーパント材料のトータルサプライヤーです
用されるさまざまな材料を提供しております。 P型ドーパント材料のボロン、ガリウム、N型ドーパント材料の赤燐、 アンチモン等を主にご提供いたします。 また、半導体工程において使用されるCVD材料・イオン注入材料等も 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■シリコンドープ材料 ■イオン注入材料 ■CVD・拡散材料 ■その他（蒸着材...
メーカー・取り扱い企業： ヤマナカ アドバンス マテリアル株式会社
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ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…
発を総合的にサポートしております。 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能となります。 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/V...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック 本社
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CXコーティング 防水 防湿 生体適合性 無償コートも受付中
防水・防湿、絶縁、生体適合性などの性能を持ち合わせているCXコーティン…
水性と耐熱性を併せ持つ 【特徴】 ◆体内埋め込み部品への実績を持つ生体適合性！ ◆立体部品のすべてを覆う高い細部浸透性！ ◆WVTR-10-4を達成し10年以上交換不要な持続性！ ◆CVD技術での低温成膜！ ※詳細試験結果資料ダウンロード可能 この他にも弊社の強みとして前処理工程なども行っておりますので、現状での問題点や改善を考えている等、現在の使用状況や弊社の会社紹介を含...
メーカー・取り扱い企業： オーエスジー株式会社グループ
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撚り線以外もさまざまな形状が可能！真空装置に使われている産業・医療用コ…
岳石電気は常にお客様の「本当の狙い」「最終的な目的」を理解し、ご要望に 合わせた製造・開発を行ってきました。 「撚り線(ストランド)コイル」は真空スパッタ装置、成膜装置(PVD・CVD)等に 使われている製品で、撚り線以外もさまざまな形状が可能。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【その他のコイル】 ■センサ・分析機器用コイル ■特殊光源用コイル ...
メーカー・取り扱い企業： 岳石電気株式会社
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半導体関連技術の開発/解析を支援する統合プラットフォーム【日本語
半導体および関連技術の開発/解析を高速・高精度で支援する統合プラットフ…
ます。 【製品の概要】 ■量子力学計算による半導体物性の予測と解析 ・電子物性 ・機械特性（弾性定数テンソル、体積弾性率） ・誘電特性 ・反応経路探索 ■半導体成膜プロセス(CVD, ALD, ALE)の最適化 ・量子力学計算と機械学習による新規前駆体の開発 ■古典分子動力学計算による半導体実装の最適化 ・樹脂封止材の架橋構造モデルの構築 ・ガラス転移温度の計...
メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社
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PPX（ポリパラキシリレン）コーティングの磁石への適用 耐水耐湿
日経ニュースでも取り上げられた、錆びやすいマグネットが全く錆びない！防…
パラキシリレン）コーティングを提供しています。 今回は磁石への適用例を紹介します。 ◆水に弱い材料でも完全に水をシャットアウト！ ◆錆びやすいネオジウム磁石も新品同様の外観！ ◆CVDコーティングで、複雑形状でも均一なコーティング！ ◆形を変えない極薄コーティング！ ◆室温付近の低い温度で処理、熱に弱い部品も問題なし！ 耐水、耐湿性だけでなく、ほかにもPPXコーテ...
メーカー・取り扱い企業： オーエスジー株式会社グループ
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高純度アルミナセラミックスADS「電気絶縁性、高強度、耐摩耗性」
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01％以下と非常に緻密な焼結…
などの特性 ・半導体やFPD製造用部材としての用途が拡がっている ・酸・アルカリやハロゲンプラズマに対して高い耐食性を有する 【ADSの用途】 ・エッチング、アッシング装置用部品 ・CVD装置用部品 ・ウェーハ研磨用ラッププレート ・ウェーハ搬送用アーム ・各種大型製品や複雑形状品の対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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優れた耐熱性と高い証明制度の提供で、ラボの生産性と信頼性を飛躍的に向上…
分析プロセスの中で最も高い証拠精度を提供します。 Schunk Carbon Technology は、原子吸光分光法(AAS) 用のグラファイト製コンポーネント、チューブ、キュベット、および CVD 熱分解炭素コーティング技術の開発と製造において長年の経験があり、幅広い製品を取り揃えています。 配合、混合、成形から黒鉛化、高温洗浄に至るまでの当社の開発および生産プロセスは、分析技術における...
メーカー・取り扱い企業： シュンク・カーボン・テクノロジー・ジャパン株式会社
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均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング
●均一なプラズマ分布 ●独立したプラズマ室 ●基板温度100℃以下の低温スパッタ(SiO2，2KW，1時間) ●基板へのプラズマ衝撃フリーにより緻密な膜の形成・組成ずれのない合金膜 ●CVDのような特殊なガスを使わず、ターゲット間を電子が高速で往復することでスパッタ粒子(ターゲット材)を活性種化。それにより効率的に反応性スパッタ膜が形成されます。 ●テストスパッタはご相談ください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ
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機能性・信頼性・作業性バツグン！1台で2つの工法に対応する幹線絶縁器材
【対応ケーブル】 ■低圧ケーブル：CV単心、CVD、CVT、CVQ ■低圧ケーブル：EM-CE単心、EM-CED、EM-CET、EM-CEQ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社浅田電機商会 東京支店
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１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能
PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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液相・気相コーティングに関わらず多様な工法でお客様のニーズを全方位でカ…
『連続プロセス』で工法の違うプロセスもワンストップで対応可能。 生産工程を飛躍的に向上させます！ 多様なプロセス・膜種・膜厚が可能 ■ドライ ・スパッタ ・蒸着 ・CVD ・ALD ・DLC ■ウェット ・ディップ ・スプレー ・印刷、転写 ・ダイコーター ・ディスペンサー 装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス
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柔らかい・曲がる・止まるから、作業時間短縮・労力低減・安全作業を実現し…
【メーカー】 住電HSTケーブル株式会社 【対象品種】 600V CV、600V CVT(CVD,CVQ)、600V EM-CE/F、600V EM-CET/F(CED,CEQ)、 600V F-CV、600V F-CVT ※対象サイズはお気軽にお問合せください。...
メーカー・取り扱い企業： 光昭株式会社
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半導体前駆体市場の概要
的および熱的安定性を有し、対応する反応性または物理的特性を有する。薄膜、フォトリソグラフィ、相互接続、ドーピング技術などを含む半導体製造プロセスにおいて、前駆体は主に蒸着（物理蒸着PVD、化学蒸着CVD、原子蒸着ALDを含む）に使用され、半導体製造要件を満たす製品を形成する。さらに、プリカーサは半導体エピタキシャル成長、エッチング、イオン注入ドーピング、洗浄などにも使用でき、半導体製造の中核材料...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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光導波路ウェハ受託製造及び各種ウェハ受託加工サービス！世界トップクラス…
【主な保有技術】 ■成膜技術： スパッタ、常圧CVD、蒸着、火炎加水分解堆積(FHD)、高温アニール ■フォトリソ技術： 縮小ステッパー露光、非接触等倍露光、コーターデベロッパー ■微細加工技術： ガラスRIE、メタルRIE、ガラス・Si-De...
メーカー・取り扱い企業： NTTデバイスオプテック株式会社
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ダイヤモンドを成膜してみませんか？試作から量産まで対応！導電性ダイヤモ…
成膜方式：熱フィラメントCVD法 膜種：多結晶ダイヤモンド 成膜範囲：最大 φ150mm 膜厚：～15μm 対応基材：Si、SiC、Nb、Mo、Ti、W 水処理、電解合成、電解、センサー、医療用途に可能性は無限大です...
メーカー・取り扱い企業： 松尾産業株式会社 東京支店
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半導体産業の高誘電/ALD金属前駆体（プリカーサ）市場を詳細に調査・分…
米国の半導体材料専門の調査会社テクセット社の調査レポート「高誘電材料とALD金属前駆体（プリカーサー）2023-2024」は、高誘電金属酸化物、バリア層、金属配線、キャッピング層などを含むCVD、ALDアプリケーションに対応した有機および無機前駆体の市場および技術動向情報を提供しています。 【掲載内容（抜粋）】 ■エグゼクティブサマリー ■調査範囲、目的、メソドロジー ■半導...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社データリソース
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最小ロット1.000Mから対応！低価格にて各種ケーブル販売できます！
.55Q」を取り扱っており、 電線の色は黒色と黒色に白ライン入の2パターンございます。 この他にも、600V ビニル絶縁電線(IV)、架線ポリエチレン 絶縁ビニルシースケーブル(CVT.CVD)その他各種電線も取り扱いがございます。 お気軽にお問い合わせください。 【製品例(600V HCV 3.5SQ)】 ■単価：1m 62円（税込） ■条長：1.000M/ドラム単位 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イトデンエンジニアリング
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透過波長域0.37～13.5㎛
1_硫化亜鉛、マルチスペクトル硫化亜鉛の2種をご用意しております。 2_光学用品、レンズ、ドーム、蒸着材料をご提供可能です。 3_化学気相成長法（CVD)により製造しております。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウイング
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３次元実装サービス（TSV技術等による実装サービス）
す。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス スパッタ法で４，５，６，８インチに対応 ・Siディープエッチングサービス ２～１２インチに対応します ・100℃以下の低温CVD膜付けサービス ２～６インチに対応します。 ・8インチ, 12インチMEMSファンドリーサービス 大型チップ向けMEMS製造が可能 ※詳細はPDFをダウンロード下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 日本MEMS株式会社
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220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透…
CVDダイヤモンド（単結晶・多結晶）は220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透過する物質です。 また、優れた硬度・熱伝導性・化学的安定性・耐磨耗性をもち、他の物質では耐えられない過酷な環境で光学的観察・測定を可能にします。ATRプリズムへの加工や、10.6umCO2レーザー用のARコートも可能です。 更に高い熱伝導率を利用した放熱用基板としての利用も可能で、各種の基礎...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・アール・システム
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新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に応える半導体製品をご提供…
当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材...
メーカー・取り扱い企業： 東ソー・クォーツ株式会社
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透過波長域0.37～13.5㎛
1_最適なコストでCO2レーザー製造業者様、レーザー製品販売業者様、及びエンドユーザー様にご満足頂いております。 2_CVD（化学気相成長法）によりレーザー用グレードの製品となっております。 3_大経口のレンズ及びドーム型の制作も可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウイング
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ALD（アトミックレイヤーデポジション） アプリケーション例
ALD（アトミックレイヤーデポジション） アプリケーション例を写真付き…
当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...
メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
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低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…
PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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