【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CV...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』

引張り～圧縮の応力制御が可能！スペースに合わせて柔軟に設置できます

サムコ株式会社では、プラズマCVD装置である『PD-270STLC／PD-2201LC』を 取り扱っております。 「PD-270STLC」は、上部、中部、底部とカバレッジ性良く成膜が可能。 また「PD-2201LC」...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

最新の技術　ラボ・学校教育用　ナノチューブ生成機

CVD方式、アーク放電式の二つのシステムを用意しました。

チューブ生成機は小規模生産用ラボ器で2～3時間の授業時間中に準備からナノチューブの製造まで特別な技術を要しないで簡単短時間に生成できます。学生や初心者が安全に作業できるように配慮した設計で一般的なCVD方式のほかに短時間で生成が可能で品質の良いアーク放電式の二つのシステムを用意しました。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： エイアールブイ株式会社

温水循環装置【KCTシリーズ】

高い精度と安定性を持った温水循環装置 清水を使う加熱タイプの温調機で…

【特長】 ○汎用温水循環装置 　高性能ポンプの採用により、負荷側温度を常に均一に制御可能 　昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮 ○大流量温水循環装置 　CVD装置、ロール・ジャケット・各種チャンバーなど 　多様な用途の温度管理に対応可能 ○高温水循環装置 　 160℃までの高温域に対応し、昇温効率が良い 　 大流量ポンプの採用で、均一の温度管...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レイケン 本社、南関東営業所、大阪支店、中部営業所、茨城工場、大阪工場

ＨＰＣ－２０フルオートオスミウムコーター

高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…

特　徴 ★ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法（特許）を採用、試料にやさしく金属オスミウムをコーティングします。 ★ホローカソード円筒内全体にオスミウムプラズマイオンが発生しますので試料の大きさ、高さの影響を受けません。 ★プラズマ放電...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

オスミウムコーターＨＰＣ－１ＳＷ

ＳＥＭで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング！！

）を追加可能。 　 四酸化オスミウムを大気に晒す不安が解消されます。 ○HPC専用の真空ポンプと排出オスミウムトラップ付属。 【その他の特徴】 ○ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法（特許出願中）を採用、 　 試料にやさしく金属オスミウムをコーティングします。 ○試料の大きさ、高さには制限がありません。 ○結晶オスミウムの消費を節約できます。 ●詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

卓上オゾン排気ドラフト

卓上ドラフト内にUV/O3 装置やプラズマ装置を設置することで、オゾン…

設置場所は振動無きこと 使用上の注意 ・本製品はオゾンガスの分解用です。下記のガスの混合は燃焼・爆発もしくは触媒毒の危険性がありますので絶対に避けてください。 ・ 可燃性ガス、シラン系ガス、CVD 排ガス等 ・ 金属化合物等が含まれるガス（Si,P,As,Hg,Pb 等の化...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エキシマ 横浜ラボ

ロードロック式プラズマALD装置『AD-230LP』

有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜しま…

【その他特長】 ■熱ALDとカソードCVDによる二層成膜により、優れた特性を持つゲート絶縁膜を形成 ■容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化 ■ロードロ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社