チェックしたものをまとめて:

  • 高機能表面処理『DLCコーティング』 ※用途事例進呈 製品画像

    PR耐磨耗・耐溶着・耐凝着などの特性を向上。切削工具、金型、自動車部品など…

    当社の『DLCコーティング』は、回転・滑り・往復などの機械的相対運動に 要求される様々な特性を兼ね備え、切削工具や各種金型、 自動車・機械部品などへのコーティングで活躍します。 摩擦抵抗を低減できる「ジニアスコートHA」、 表面の平滑性に優れた「ジニアスコートHAX」、 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」 など、目的に合わせて様々な膜種が選択可能です。 ただい...(つづきを見る

  • 昇温時間を大幅に短縮!温水循環装置【KCTシリーズ】 製品画像

    PR最大180℃!昇温効率が高く、昇温時間を大幅に短縮!

    清水を媒体とした加熱温調機です。 高い精度と安定性があり、昇温効率が高く、金型の昇温時間が大幅に 短縮できます。 2018名古屋ブラスチック工業展にて実機を展示します。皆様のご来場をお待ちいたしております。 会期:2018年10月31日(水)~11月2日(金) 会場:ポートメッセ名古屋(第3展示室) ■小間番号:D-9 ■出展ゾーン:プラスチック機械 成形機部品/周辺機器 ■出...(つづきを見る

  • 株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 製品画像カタログあり

    液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!

    『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...(つづきを見る

  • 高機能フィルム製造用ロールコーター 製品画像

    スパッタ・CVD・蒸着の複合機

    他社との違いは、BOC社とのライセンスにより、回転式カソード(ターゲット使用効率70%)とSiOx(C)フィルムを特殊なCVDによって成膜可能です。またラインスピードを2000倍まで可変可能です。...高性能な透明導電フィルムや透明バリアフィルムを乾式(スパッタやCVDや蒸着)で製造するロールコーターです。...(つづきを見る

  • 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリア) 製品画像カタログあり

    部材の高寿命化、パーティクルの抑制 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリ…

    半導体製造工程でのドライエッチングやプラズマCVDプロセスでは腐食性の強いハロゲンガスを用いるため、チャンバー付近の部材に耐プラズマ性が要求されます。 耐プラズマ部材を使用することにより、部材の浸食を抑制し、パーティクル発生を低減します。 時...(つづきを見る

  • 各種デバイス材料販売及び各種薄膜受託加工 製品画像

    各種デバイス材料販売及び各種薄膜受託加工

    ウェハー(シリコン,石英サファイア,その他) 各種薄膜成膜(熱酸化膜,PE-CVD,LP-CVD,AP-CVD スパッタ,蒸着) 洗浄,パターニング,エッチング(Dry,Wet) 各種熱処理 マイクロブラスト ダイシング メッキ その他特殊加工...(つづきを見る

  • 製造装置用大容量RF同軸コネクタ13.56Mhz~ 製品画像カタログあり

    RF電源からプロセスチャンバー間の高周波同軸接続箇所において、ワンタッ…

    製造装置の種類の中でもエッチャーやCVD等はプラズマ発生時に高周波が必要とされておりますが、製造装置は各ユニット(RF電源~マッチングボックス~プロセスチャンバー等)を接続し組み立てるため、装置納入時の組み立てやメンテナンス時の脱着において再現性やインピーダンス整合が重要な箇所であります。 その中で高周波接続部において弊社コンタクトスプリングを装着した高周波同軸コネクタを採用された装置がトッ...(つづきを見る

  • 真空対応PZTアクチュエータ 製品画像カタログあり

    真空対応PZTアクチュエータ。アウトガスの発生がほとんどない

    当社の真空対応ピエゾアクチュエータは、化学蒸着法(CVD)による絶縁・防湿コーティングを使用しています。無酸素状態での対放射線性に優れ、アウトガスの発生がほとんどありません。低〜超高真空の各種装置で対応が可能です。 ■特長 ・低電圧で変位量が大きい ・エネルギー変換効率が大きい ・広い温度範囲で使用できる ・真空状態でのアウトガスの発生が少ない ・小型・軽量 ◆◇◆◇◆◇◆◇...(つづきを見る

  • 導電性ダイヤモンドの受託成膜 製品画像

    ダイヤモンドを合成してみませんか。

    熱フィラメントCVDによるダイヤモンドの合成をお受けいたします。 金属並みの導電性をもった導電性ダイヤモンドの合成ができます。 受託成膜から装置販売まで幅広くご対応いたします。 ...(つづきを見る

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...(つづきを見る

  • MEMS試作ソリューション 製品画像カタログあり

    MEMS試作ソリューション

    適な材料・プロセスを選択 少量からのMEMS試作・マイクロチップに対応いたします 【特徴】 ○基板手配  シリコン・ガラス・樹脂など多様な材料に対応 ○成膜  スパッタ・蒸着・CVD・メッキなど、常時120種類以上の  材料を保有し、スピーディな対応が可能 ○リングラフィ  コンタクトアライナー・ステッパー・EB描画  ナノインプリントを利用した3Dパターンなど...(つづきを見る

  • スパッタ装置 ロール to ロール式 <サンプル対応実施中!> 製品画像カタログあり

    高い信頼性をもった標準型真空ロール to ロールシステムをラインナップ…

    <500mm幅までサンプル対応可> コンパクトな装置設計でありながら薄いフイルム・金属箔などの搬送が可能で、当社独自の高使用効率カソードや前処理機構などオプションを使用する事により幅広いプロセスに対応できます ...<特長> 蒸発方式:マグネトロンスパッタ DCまたはRF 処理量:~2000mm幅 (お問い合わせください) ・コンパクトな装置設計が可能、量産から各種実験装置の対応...(つづきを見る

  • 半導体メーカー様必見!【長寿命&品質安定】CMPコンディショナー 製品画像カタログあり

    大手海外半導体メーカーが多数採用!ウエハーの品質安定化とパッド寿命のロ…

    ウエハーを研磨するパッドは、一般的にダイヤモンドグリッドで研磨をしていることが多いのですが、モルガナイト・カーボンの「CMPコンディショナー」は、ダイヤモンドグリッドをCVD Diamondで覆う為、ダイヤモンドの剥離が無く、長期間安定して使用頂けます。 ダイヤモンドグリッドの剥離防止でウエハーへの傷も付きにくくなり、ウエハーの品質安定化に貢献することが可能です。 ...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Pシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Rシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Rシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「R-200 エアオープンタイプ」をはじめ、 ...(つづきを見る

  • PICOSUN JAPAN 株式会社 会社紹介 製品画像カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当社は、今後も洗練されたALD装置を提供してまいります。 ...(つづきを見る

  • DLC/酸化膜成膜装置・高温成膜装置・ドライ洗浄機 総合カタログ 製品画像カタログあり

    微粒子からウエハ、フィルム、ボトル、シリンダーまで、薄膜成膜技術、成膜…

    もポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂のガスバリア膜・保護膜としての展開が進んでおります。 300mmウエハ対応のTSV側壁用の絶縁物成膜装置はGINTIでTSV Liner CVDとして使用されており、膜特性で高い評価を得ています。また同仕様の装置は電子デバイス製造会社での評価も高く、今後の3Dパッケージで活躍が期待されています。 高温下での成膜も当社の得意とするとこ...(つづきを見る

  • SKエンジニアリング株式会社 事業紹介 製品画像カタログあり

    常に新しい技術を開発し、顧客の信頼を獲得し高い生産性に貢献します

    ステム ■加工機  ・切断・面取装置  ・研磨装置  ・ポリッシング装置  ・研削盤  ・研削・研磨液リサイクルシステム  ・研磨材回収装置 ■ドライプロセス装置  ・成膜装置(CVD・スパッタ・蒸着)  ・アニール路(常圧・真空・加圧)  ・プラズマアッシャー  ・多段ホットプレート(HP)  ・多段クーリングプレート(CP)  ・IR乾燥炉・UV炉 など ※...(つづきを見る

  • エレクトロニクス 総合カタログ 製品画像カタログあり

    半導体製造加工プロセス/ハンドリング用製品など多数掲載!

    【掲載製品】 ○半導体製造加工プロセス/ハンドリング用製品 ○CVD SiCおよびPBN製品 ○量産セラミックおよびガラス部品 ○レーザおよび光電子アプリケーション向け高機能製品 ○ソナー用広帯域トランスデューサ ○標準品および積層バイモルフ型アクチュエー...(つづきを見る

  • CLEARTRAN 硫化亜鉛 (ZnS)ウインドウ 製品画像カタログあり

    標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致し…

    ZnS)材料です。0.4umから12umの広い波長に対して透光性があり、同波長帯において低吸収・低散乱特性を有します。硫化亜鉛は、TECHSPEC ZnSe光学ウインドウと同様、化学気相成長法 (CVD法)を用いて作られる結晶材料で、サーマルイメージング用に共通して用いられます。可視域と赤外域における卓越した透過特性により、Cleartranは同波長に感度を持つ光電センサーを使用したシステムへの...(つづきを見る

  • 金属超微粒子 製品画像カタログあり

    独自製法の高品質・低コスト金属超微粒子!120℃低温焼結の銀配線代替銅…

    せんか? 当社は産業ガス業界No1のノウハウを生かし、酸素バーナーを用いた世界初のオール乾式プロセスによる、高品質かつ数百kg/月の超微粒子量産技術を実現いたしました! 従来の湿式法やCVD法ではバッチプロセスとなるため生産性が悪く銅などの安価な素材を使っても結果的にコストが高くなったり、粒子自体を保護する有機物がコンタミの原因となるなど課題がありました。 当社はオール乾式の連...(つづきを見る

  • ダイヤモンド窓 製品画像

    220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透…

    CVDダイヤモンド(単結晶・多結晶)は220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透過する物質です。 また、優れた硬度・熱伝導性・化学的安定性・耐磨耗性をもち、他の物質では耐えられない過酷な環境で光学的観察・測定を可能にします。ATRプリズムへの加工や、10.6umCO2レーザー用のARコートも可能です。 更に高い熱伝導率を利用した放熱用基板としての利用も可能で、各種の基礎...(つづきを見る

  • 株式会社テクノス 事業紹介 製品画像カタログあり

    粉体対策ツールでお客様の多彩なご要求にお応えします

    クノスは、主に集塵機用カートリッジフィルターや粉体トラップ フィルターを取り扱っている会社です。 多彩な集塵機に適合する高性能フィルターを低価格にてご提供。 また、当社の表面処理技術は、CVDやドライエッチャーなどの排気ライン からチャンバーといったウェハープロセスまで、幅広い範囲でご利用 いただいています。 【取扱製品】 ■集塵機用カートリッジフィルター ■粉体トラップ...(つづきを見る

  • SOIウェーハ『Thick-BOX SOI』【厚いBOX層!】 製品画像カタログあり

    独自技術の厚膜熱酸化膜加工を利用し、厚いBOX層を有するSOIウェーハ…

    【仕様および対応表】 ■対応サイズ:4inch~12inch ■対応機種  ・拡散炉・CVD系  ・メタル膜系  ・コート膜系  ・その他の加工  ・パターン付ウェーハ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 水系・炭化水素系マルチ洗浄機(超音波洗浄機) 製品画像カタログあり

    水系・炭化水素系マルチ洗浄機(超音波洗浄機)

    広範囲にラインナップ ○多槽式タイプでは予備洗浄・本洗浄・すすぎ洗浄という系統で   精密洗浄が可能 ○シミのない仕上り仕上りを実現 ○水溶性の汚れにも油性の汚れにも対応可能 ○PVD、CVD、真空蒸着前の洗浄にも最適 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...(つづきを見る

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • 成膜受託サービス 製品画像

    多様なプロセス・膜種・膜厚が可能

    お客様のニーズに合わせたプロセス、膜厚、膜種で、最適な成膜レシピを提案いたします。 多様な工法で対応します ■ドライ  ・真空蒸着機  ・スパッタリング  ・CVD ■ウェット  ・スプレー  ・コーター  ・ディップ 装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な成膜レシピ、成膜作製等、成膜に関する受託サービスを提供いたし...(つづきを見る

  • 薄膜形成 製品画像

    薄膜形成

    薄膜形成技術は、物理的気相法(PVD)・化学的気相法(CVD)・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・EB蒸着・スパッタリング・ イオンプレーティ...(つづきを見る

  • 【事業紹介】アメリカ・イートンバスマン社製品の販売 製品画像

    アメリカのヒューズ回路保護製品メーカー イートンバスマン社のご紹介

    当社では、『アメリカ・イートンバスマン社製品の販売』を行っております。 イートンバスマン社は、アメリカにある、回路保護製品を扱う会社です。 製品は世界中で採用され、各機関や国際規格IEC、VDE、DIN、UL、CSA、BS、 CCCなどに適用しております。 米国4カ所、メキシコ、英国、デンマーク、インド、コスタリカ、ブラジル、 中国に工場を構え、民生、一般産業、モーター保護、電力...(つづきを見る

  • 【事業紹介】香港・SUNTAN社製品の販売 製品画像

    キャパシターは全ての種類に対応!香港・SUNTAN社をご紹介

    当社では、香港の電子部品メーカー『SUNTAN社製品の販売』を行っております。 SUNTAN社は、トリミングポテンショメータ、キャパシター、バリスタの製造が ベースの香港企業です。特にキャパシターは全ての種類の製品がございます。 中国に4工場を構え、ENEC、VDE、UL、cUL、RoHS2.0の認証取得済みです。 国内外メーカーのコンパチ品が多数ございますので、CD/VAが可能で...(つづきを見る

  • 電源『CLX シリーズRF 電源』 製品画像カタログあり

    ソリッドステート設計による小型、高性能!プラズマ真空装置に高信頼性を発…

    ル選択ができ、 周波数チューニングタイプの製作も可能です。 当シリーズは、半導体製造プロセスにおけるRFプラズマ用として デザインされています。 エッチ、RIE、ICP、RFスパッタ、CVD、PVD、誘導加熱システム等に 優れた性能を発揮します。 【特長】 ■COMDEL社の高信頼性のアンプ設計  →プラズマ負荷に対して安定動作 ■ETL、SEMI F47 に適合 ■...(つづきを見る

  • 幹線絶縁器材『ナイスブランチ』 製品画像カタログあり

    機能性・信頼性・作業性バツグン!1台で2つの工法に対応する幹線絶縁器材

    【対応ケーブル】 ■低圧ケーブル:CV単心、CVD、CVT、CVQ ■低圧ケーブル:EM-CE単心、EM-CED、EM-CET、EM-CEQ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • GaNテンプレート(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド) 製品画像

    MoCVD法で製造したGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)をご…

    弊社のGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)は沢山の販売実績を重ねております。転位密度やXRD値など品質面や価格パフォーマンスでも高い競争力を確保しております。1枚からの研究開発用から数千枚の量産用までご対応可能でございます。 ...サイズ:Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み:3μm、4μm、指定可能 結晶構造:GaN膜・オン・サファイア基板 転位密度≦ 5x106/ ...(つづきを見る

  • 株式会社SGC 非鉄金属部品製作 製品画像

    既存パーツの改造や特殊工具の製作など各消耗パーツ以外でも1個から製作を…

    弊社ではオン注入・PVD・CVD・エッチャー・CMPといった半導体製造の主に前工程の消耗パーツの製造や改造部品の製造を行っております。また、蒸着用のドームやヤトイ(ホルダー)の製作や液晶製造用成膜治具等の製作も行っております。 ...【特徴】 ○材料のみの販売も行います(希望サイズに切断を致します)。 ○主な加工材質:ステンレス(SUS)・チタン(Ti)・アルミニューム(AL)・銅(Cu...(つづきを見る

  • POC-VDC-RS232 製品画像

    RS232デバッグケーブル

    対応製品: POC-SOM-MX6評価キット/キャリアボード POC-SOM-AM33評価キット /キャリアボード...対応製品: POC-SOM-MX6評価キット/キャリアボード POC-SOM-AM33評価キット /キャリアボード...(つづきを見る

  • 表示灯・押ボタンスイッチ『18シリーズ』 製品画像カタログあり

    タクタイル、コンパクト、鮮やか!屋内使用向けの表示灯・押ボタンスイッチ…

    『18シリーズ』は、表示灯、照光式押ボタンスイッチ、非照光式押ボタンスイッチです。 測量機器、医療機器、オーディオなど特に制御システムの操作と表示灯に適しています。 正確なタクタイル動作によるスイッチ操作が分かりやすいフィードバックが あり、赤、緑、黄色の照光で明確な状態表示を可能にします。 (白や青など他の色については応相談) プラスチックレンズの形は、円形、正方形、長方形があ...(つづきを見る

  • コモンモードチョークコイル『RTシリーズ』 製品画像カタログあり

    PCB設計用の経済的なソリューション!コンパクトな電力線チョーク

    『RTシリーズ』は、主にAC電力線上の600VACまでのEMIノイズを 制御するために使用される電力線チョークです。 電子機器のEMIノイズは通信機器、ロボットなど、様々な周辺デバイスの 電力線の重畳され、その正常な機能を阻害します。 また、バイパスコンデンサを用いたプリント基板一体型フィルタの EMIノイズ抑制用として使用可能な他、単相フィルタとの組み合わせによる 超低リーク...(つづきを見る

  • 短波長 DEEP UV LED series 製品画像カタログあり

    短波長 DEEP UV LED series

    D series』のご案内です。 【特徴】 ●紫外線および深紫外線を用いたハーメチックシール型の発光ダイオード ●ピーク発光波長は240nm〜365nmまで豊富 ●MEMOCVD法で結晶成長させたAlGaN/GaN LEDチップ/チップアレイを搭載 ●紫外線透過型の光学ウィンドウ(サファイアまたは石英)を備えた  各種パッケージをご用意 ●パッケージとレンズ...(つづきを見る

  • 4Gb/s 1310nm FP Laser Diode 製品画像カタログあり

    4Gb/s 1310nm FP Laser Diode – LC TO…

    『FP-1310-4I-LCx』はMOCVD法による1310nm帯InAlGaAsリッジレーダイオードになります。 データレート4Gb/sまでのデータコムやテレコム用途の光源として適当です。...(つづきを見る

  • 5Gb/s 1310nm FP Laser Diode 製品画像カタログあり

    5Gb/s 1310nm FP Laser Diode – Pigta…

    『FP-1310-5I-xxx』はMOCVD法による1310nm帯InAlGaAsリッジレーダイオードになります。 データレート5Gb/sまでのデータコムやテレコム用途の光源として適当です。...(つづきを見る

  • 【半導体】MOCVD 製品画像カタログあり

    MOCVD装置の2nd化を推進!希少価値の高いReも材料仕入れから加工…

    MOCVD装置の2nd化を推進しているのと同時に、エンドユーザー市場で培った改造案もご提案させて頂きます。 また、希少価値の高いReも材料仕入れから加工まで請け負ってます。 【特長】 ○MOCVD...(つづきを見る

  • EMI対策フェライトコア(スリーブクランプコアインナーロック方式) 製品画像

    EMI対策フェライトコア(スリーブクランプコアインナーロック方式)

    樹脂ケース材質:PA66(ナイロン) 94V-0...・ FCC、VDEが要求する「容易に取り外せない構造」。 ワンタッチ取付が可能で、道具でロック解除可能 ・ 丸ケーブルへの自己保持機構付き ・ 束線の場合のケーブルへの固定はバンド1本で可能 ・ ケーブルとの一体感を持つデザインとカラー ・ 環境対応型で一体成形方式に比べリサイクル分別容易 ・ 電話回線接続用ケーブ...(つづきを見る

  • スリーブクランプコア(インナーロック方式) 製品画像

    EMI対策フェライトコア

    ■電話回線接続用ケーブルやACアダプターのケーブルがクランプケース内で2ターンできる新機構(コア4 個分の効果)、スマートな外観とケーブル緩み防止 ■ハイスピードクロック対応の高性能磁性材を採用 ■コアボリュームが大きい為、静電気イミュニティーにも効果的...◆FCC、VDEが要求する「容易に取り外せない構造」。 ワンタッチ取付が可能で、道具でロック解除可能 ◆丸ケーブルへの自己...(つづきを見る

  • ハイパワーファイバーピッグテールHHLモジュール半導体レーザー 製品画像

    波長帯域780nm-1070nmでシングルモード出力500mW程,マル…

    チップ単体、サブマウントにチップを搭載した状態、完全パッケージ(モジュール)状態での納品が可能です。 Axcel Photonics社の全て製品は、RoHS対応です。 製造施設は、最新技術のMOCVDを駆使してGaAsとInP製造プロセスを行っています。また製造施設には、オプトエレクトロニクスのエクスパートを配置して、デザインと製造を行っています。 Axcel Photonics社は、ISO...(つづきを見る

  • 株式会社フェローテック 事業紹介 製品画像カタログあり

    気づき、改善し、そして幸せを追求する企業。フェローテック。

    【取扱製品】 ○磁性流体シール ○真空シール ○磁性流体 ○ロボットシール ○三次元ダンパ ○サーモモジュール ○太陽電池関連製品 ○石英製品 ○セラミックス ○CVDSiC製品 など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • 流体電磁式サーキットブレーカ『Dシリーズ』 製品画像カタログあり

    素早く簡単に取り付け/取り外しが可能なスナップオンバックパネルのレール…

    『Dシリーズ』は、『Cシリーズ』に類似した35mm X 7.5mm、または35mm x 15mmの対称DINレールでのスナップオンバックパネルのレール取り付け用に設計された流体電磁式サーキットブレーカです。 ブレーカを素早く簡単に取り付けおよび取り外しができます。 埋め込み式、ワイヤ対応、タッチプルーフ、耐衝撃性の端子があり、自動ドライバ組立ておよび「デッドフロント」構造に適しています。 2色V...(つづきを見る

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