• 解説資料 金型コーティング膜の特性と選定【被覆処理・下地処理編】 製品画像

    PR硬質膜の被覆処理時の注意点と、金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法!…

    硬質膜の被覆処理時の注意点とは?金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法とは? 本資料(その3、その4)では事例を用いて被覆処理時の注意点と当社独自の処理方法を詳しく説明しています。 ・資料(その3)では金型に必須なコーティング膜について、さまざまな実際の損傷を交え特性と選定方法について解説しています。 ・資料(その4)では金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法、当社が行う下地処理であるD...(つづきを見る

  • DLCコーティングの基礎知識・事例・選定基準をまとめた資料進呈中 製品画像

    PR切削工具、金型、機械部品の磨耗・傷つき防止に!樹脂・ゴムに対応したタイ…

    当社の『DLCコーティング』は、高い耐摩耗性はもちろんのこと 回転・滑り・往復などの機械的相対運動に要求される特性を兼ね備え、 切削工具や金型、自動車部品、シール材などに幅広く適用可能。 摩擦抵抗を低減できる水素フリーの「ジニアスコートHA」や 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」など、 課題に合わせて選択できる様々な膜種をラインアップしています。 【用途例】 ...(つづきを見る

  • 超高純度CVD-SiC「ソリッド SiC」 製品画像カタログあり

    半導体装置に最も適した材料!様々な用途で発揮されるソリッド SiC

    ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD...(つづきを見る

  • 株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 製品画像カタログあり

    液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!

    『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...(つづきを見る

  • 高機能フィルム製造用ロールコーター 製品画像

    スパッタ・CVD・蒸着の複合機

    他社との違いは、BOC社とのライセンスにより、回転式カソード(ターゲット使用効率70%)とSiOx(C)フィルムを特殊なCVDによって成膜可能です。またラインスピードを2000倍まで可変可能です。...高性能な透明導電フィルムや透明バリアフィルムを乾式(スパッタやCVDや蒸着)で製造するロールコーターです。...(つづきを見る

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • ナチュラトロンスパッタ装置 製品画像

    スパッタリングを超えたCVDlikeの新しい成膜方式!

    【特長】 ●均一なプラズマ分布 ●基板温度100℃以下の低温スパッタ(SiO2,2KW,1時間) ●基板へのプラズマ衝撃フリーにより緻密な膜の形成・組成ずれのない合金膜 ●CVDのような特殊なガスを使わず、ターゲット間を電子が高速で往復することでスパッタ粒子(ターゲット材)を活性種化! ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。...(つづきを見る

  • 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリア) 製品画像カタログあり

    部材の高寿命化、パーティクルの抑制 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリ…

    半導体製造工程でのドライエッチングやプラズマCVDプロセスでは腐食性の強いハロゲンガスを用いるため、チャンバー付近の部材に耐プラズマ性が要求されます。 耐プラズマ部材を使用することにより、部材の浸食を抑制し、パーティクル発生を低減します。 時...(つづきを見る

  • GaNテンプレート(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド) 製品画像

    MoCVD法で製造したGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)をご…

    弊社のGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)は沢山の販売実績を重ねております。転位密度やXRD値など品質面や価格パフォーマンスでも高い競争力を確保しております。1枚からの研究開発用から数千枚の量産用までご対応可能でございます。 ...サイズ:Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み:3μm、4μm、指定可能 結晶構造:GaN膜・オン・サファイア基板 転位密度≦ 5x106/ ...(つづきを見る

  • CERASIC 常圧焼結SiCセラミックス 製品画像カタログあり

    高温強度を必要とする場合や耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適

    Cセラミックス」は、高温強度を必要とする場合はもちろん、耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適な材料です。また、半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められています。高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。 ...(つづきを見る

  • MEMS試作ソリューション 製品画像カタログあり

    MEMS試作ソリューション

    適な材料・プロセスを選択 少量からのMEMS試作・マイクロチップに対応いたします 【特徴】 ○基板手配  シリコン・ガラス・樹脂など多様な材料に対応 ○成膜  スパッタ・蒸着・CVD・メッキなど、常時120種類以上の  材料を保有し、スピーディな対応が可能 ○リングラフィ  コンタクトアライナー・ステッパー・EB描画  ナノインプリントを利用した3Dパターンなど...(つづきを見る

  • 真空対応PZTアクチュエータ 製品画像カタログあり

    真空対応PZTアクチュエータ。アウトガスの発生がほとんどない

    当社の真空対応ピエゾアクチュエータは、化学蒸着法(CVD)による絶縁・防湿コーティングを使用しています。無酸素状態での対放射線性に優れ、アウトガスの発生がほとんどありません。低〜超高真空の各種装置で対応が可能です。 ■特長 ・低電圧で変位量が大きい ・エネルギー変換効率が大きい ・広い温度範囲で使用できる ・真空状態でのアウトガスの発生が少ない ・小型・軽量 ◆◇◆◇◆◇◆◇...(つづきを見る

  • 製造装置用大容量RF同軸コネクタ13.56Mhz~ 製品画像カタログあり

    RF電源からプロセスチャンバー間の高周波同軸接続箇所において、ワンタッ…

    製造装置の種類の中でもエッチャーやCVD等はプラズマ発生時に高周波が必要とされておりますが、製造装置は各ユニット(RF電源~マッチングボックス~プロセスチャンバー等)を接続し組み立てるため、装置納入時の組み立てやメンテナンス時の脱着において再現性やインピーダンス整合が重要な箇所であります。 その中で高周波接続部において弊社コンタクトスプリングを装着した高周波同軸コネクタを採用された装置がトッ...(つづきを見る

  • 水系・炭化水素系マルチ洗浄機(超音波洗浄機) 製品画像カタログあり

    水系・炭化水素系マルチ洗浄機(超音波洗浄機)

    広範囲にラインナップ ○多槽式タイプでは予備洗浄・本洗浄・すすぎ洗浄という系統で   精密洗浄が可能 ○シミのない仕上り仕上りを実現 ○水溶性の汚れにも油性の汚れにも対応可能 ○PVD、CVD、真空蒸着前の洗浄にも最適 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...(つづきを見る

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像カタログあり

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...(つづきを見る

  • 導電性ダイヤモンドの受託成膜 製品画像

    ダイヤモンドを合成してみませんか。

    熱フィラメントCVDによるダイヤモンドの合成をお受けいたします。 金属並みの導電性をもった導電性ダイヤモンドの合成ができます。 受託成膜から装置販売まで幅広くご対応いたします。 ...(つづきを見る

  • DLC/酸化膜成膜装置・高温成膜装置・ドライ洗浄機 総合カタログ 製品画像カタログあり

    微粒子からウエハ、フィルム、ボトル、シリンダーまで、薄膜成膜技術、成膜…

    もポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂のガスバリア膜・保護膜としての展開が進んでおります。 300mmウエハ対応のTSV側壁用の絶縁物成膜装置はGINTIでTSV Liner CVDとして使用されており、膜特性で高い評価を得ています。また同仕様の装置は電子デバイス製造会社での評価も高く、今後の3Dパッケージで活躍が期待されています。 高温下での成膜も当社の得意とするとこ...(つづきを見る

  • TPSS 炭化けい素セラミックス 製品画像カタログあり

    TPSSは、高純度炭化ケイ素を主成分とする半導体関連材料です。

    【特長】 ○TPSS表面のCVD膜はLP-CVD工程で生成するデポ膜(SiN、Si等)と近似した熱膨張率をもつ ○デポ膜剥離によるパーティクルが減少 ○高純度、高強度、高耐食性など数多くの特性をもつ ○半導体熱処理炉用炉心...(つづきを見る

  • 半導体メーカー様必見!【長寿命&品質安定】CMPコンディショナー 製品画像カタログあり

    大手海外半導体メーカーが多数採用!ウエハーの品質安定化とパッド寿命のロ…

    ウエハーを研磨するパッドは、一般的にダイヤモンドグリッドで研磨をしていることが多いのですが、モルガナイト・カーボンの「CMPコンディショナー」は、ダイヤモンドグリッドをCVD Diamondで覆う為、ダイヤモンドの剥離が無く、長期間安定して使用頂けます。 ダイヤモンドグリッドの剥離防止でウエハーへの傷も付きにくくなり、ウエハーの品質安定化に貢献することが可能です。 ...(つづきを見る

  • スパッタ装置 ロール to ロール式 <サンプル対応実施中!> 製品画像カタログあり

    高い信頼性をもった標準型真空ロール to ロールシステムをラインナップ…

    <500mm幅までサンプル対応可> コンパクトな装置設計でありながら薄いフイルム・金属箔などの搬送が可能で、当社独自の高使用効率カソードや前処理機構などオプションを使用する事により幅広いプロセスに対応できます ...<特長> 蒸発方式:マグネトロンスパッタ DCまたはRF 処理量:~2000mm幅 (お問い合わせください) ・コンパクトな装置設計が可能、量産から各種実験装置の対応...(つづきを見る

  • 金属超微粒子 製品画像カタログあり

    独自製法の高品質・低コスト金属超微粒子!120℃低温焼結の銀配線代替銅…

    せんか? 当社は産業ガス業界No1のノウハウを生かし、酸素バーナーを用いた世界初のオール乾式プロセスによる、高品質かつ数百kg/月の超微粒子量産技術を実現いたしました! 従来の湿式法やCVD法ではバッチプロセスとなるため生産性が悪く銅などの安価な素材を使っても結果的にコストが高くなったり、粒子自体を保護する有機物がコンタミの原因となるなど課題がありました。 当社はオール乾式の連...(つづきを見る

  • 短波長 DEEP UV LED series 製品画像カタログあり

    短波長 DEEP UV LED series

    D series』のご案内です。 【特徴】 ●紫外線および深紫外線を用いたハーメチックシール型の発光ダイオード ●ピーク発光波長は240nm〜365nmまで豊富 ●MEMOCVD法で結晶成長させたAlGaN/GaN LEDチップ/チップアレイを搭載 ●紫外線透過型の光学ウィンドウ(サファイアまたは石英)を備えた  各種パッケージをご用意 ●パッケージとレンズ...(つづきを見る

  • 電源『CLX シリーズRF 電源』 製品画像カタログあり

    ソリッドステート設計による小型、高性能!プラズマ真空装置に高信頼性を発…

    ル選択ができ、 周波数チューニングタイプの製作も可能です。 当シリーズは、半導体製造プロセスにおけるRFプラズマ用として デザインされています。 エッチ、RIE、ICP、RFスパッタ、CVD、PVD、誘導加熱システム等に 優れた性能を発揮します。 【特長】 ■COMDEL社の高信頼性のアンプ設計  →プラズマ負荷に対して安定動作 ■ETL、SEMI F47 に適合 ■...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Pシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじ...(つづきを見る

  • ガラス基板などへの対応可 成膜加工(PVD) 製品画像カタログあり

    1枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

    PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • ハイパワーファイバーピッグテールHHLモジュール半導体レーザー 製品画像

    波長帯域780nm-1070nmでシングルモード出力500mW程,マル…

    チップ単体、サブマウントにチップを搭載した状態、完全パッケージ(モジュール)状態での納品が可能です。 Axcel Photonics社の全て製品は、RoHS対応です。 製造施設は、最新技術のMOCVDを駆使してGaAsとInP製造プロセスを行っています。また製造施設には、オプトエレクトロニクスのエクスパートを配置して、デザインと製造を行っています。 Axcel Photonics社は、ISO...(つづきを見る

  • UV-LED UVTOPシリーズ 深紫外発光ダイオード 製品画像カタログあり

    瞬時のオン/オフ! 紫外線領域 発光ダイオード

    SET社のUVTOPシリーズは、紫外線領域の発光ダイオードです。同社独自(特許取得済)のMEMOCVDRプロセスで結晶成長させたAlGaN/GaN LEDチップをメタルガラスTOパッケージに密封しており、小さくて丈夫な発光ダイオードです。 【特徴】 ○瞬時のオン/オフ ○有害物質なし ...(つづきを見る

  • 各種ケーブル販売 製品画像カタログあり

    最小ロット1.000Mから対応!低価格にて各種ケーブル販売できます!

    .55Q」を取り扱っており、 電線の色は黒色と黒色に白ライン入の2パターンございます。 この他にも、600V ビニル絶縁電線(IV)、架線ポリエチレン 絶縁ビニルシースケーブル(CVT.CVD)その他各種電線も取り扱いがございます。 お気軽にお問い合わせください。 【製品例(600V HCV 3.5SQ)】 ■単価:1m 62円(税込) ■条長:1.000M/ドラム単位 ...(つづきを見る

  • 株式会社テクノス 事業紹介 製品画像カタログあり

    粉体対策ツールでお客様の多彩なご要求にお応えします

    クノスは、主に集塵機用カートリッジフィルターや粉体トラップ フィルターを取り扱っている会社です。 多彩な集塵機に適合する高性能フィルターを低価格にてご提供。 また、当社の表面処理技術は、CVDやドライエッチャーなどの排気ライン からチャンバーといったウェハープロセスまで、幅広い範囲でご利用 いただいています。 【取扱製品】 ■集塵機用カートリッジフィルター ■粉体トラップ...(つづきを見る

  • 石英ガラス サーマルプロセス用製品 製品画像カタログあり

    新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に応える半導体製品をご提供…

    当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材...(つづきを見る

  • 株式会社SGC 非鉄金属部品製作 製品画像

    既存パーツの改造や特殊工具の製作など各消耗パーツ以外でも1個から製作を…

    弊社ではオン注入・PVD・CVD・エッチャー・CMPといった半導体製造の主に前工程の消耗パーツの製造や改造部品の製造を行っております。また、蒸着用のドームやヤトイ(ホルダー)の製作や液晶製造用成膜治具等の製作も行っております。 ...【特徴】 ○材料のみの販売も行います(希望サイズに切断を致します)。 ○主な加工材質:ステンレス(SUS)・チタン(Ti)・アルミニューム(AL)・銅(Cu...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...(つづきを見る

  • PICOSUN JAPAN 株式会社 会社紹介 製品画像カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当社は、今後も洗練されたALD装置を提供してまいります。 ...(つづきを見る

  • SOIウェーハ『Thick-BOX SOI』【厚いBOX層!】 製品画像カタログあり

    独自技術の厚膜熱酸化膜加工を利用し、厚いBOX層を有するSOIウェーハ…

    【仕様および対応表】 ■対応サイズ:4inch~12inch ■対応機種  ・拡散炉・CVD系  ・メタル膜系  ・コート膜系  ・その他の加工  ・パターン付ウェーハ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • エレクトロニクス 総合カタログ 製品画像カタログあり

    半導体製造加工プロセス/ハンドリング用製品など多数掲載!

    【掲載製品】 ○半導体製造加工プロセス/ハンドリング用製品 ○CVD SiCおよびPBN製品 ○量産セラミックおよびガラス部品 ○レーザおよび光電子アプリケーション向け高機能製品 ○ソナー用広帯域トランスデューサ ○標準品および積層バイモルフ型アクチュエー...(つづきを見る

  • 幹線絶縁器材『ナイスブランチ』 製品画像カタログあり

    機能性・信頼性・作業性バツグン!1台で2つの工法に対応する幹線絶縁器材

    【対応ケーブル】 ■低圧ケーブル:CV単心、CVD、CVT、CVQ ■低圧ケーブル:EM-CE単心、EM-CED、EM-CET、EM-CEQ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • SANG MAO社サーマル型サーキットブレーカーA-0702B 製品画像

    SANG MAO社 サーマル型サーキットブレーカー A-0702B 標…

    SANG MAO社 サーマル型サーキットブレーカー A-0702B ■特長 低価格高信頼性のバイメタル式サーキットブレーカー 手動復帰型ブレーカー ■仕様 定格:1A~20A 入力電圧:12VDC/125VDC/250VDC 耐電圧:1500VAC/1 MINUTE 絶縁抵抗値:100MΩ以上 接点耐久性:125VAC×定格150%時 500回 ■海外規格 CSA 2...(つづきを見る

  • ダイヤモンド窓 製品画像

    220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透…

    CVDダイヤモンド(単結晶・多結晶)は220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透過する物質です。 また、優れた硬度・熱伝導性・化学的安定性・耐磨耗性をもち、他の物質では耐えられない過酷な環境で光学的観察・測定を可能にします。ATRプリズムへの加工や、10.6umCO2レーザー用のARコートも可能です。 更に高い熱伝導率を利用した放熱用基板としての利用も可能で、各種の基礎...(つづきを見る

  • 成膜受託サービス 製品画像

    多様なプロセス・膜種・膜厚が可能

    お客様のニーズに合わせたプロセス、膜厚、膜種で、最適な成膜レシピを提案いたします。 多様な工法で対応します ■ドライ  ・真空蒸着機  ・スパッタリング  ・CVD ■ウェット  ・スプレー  ・コーター  ・ディップ 装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な成膜レシピ、成膜作製等、成膜に関する受託サービスを提供いたし...(つづきを見る

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • 薄膜形成 製品画像

    薄膜形成

    薄膜形成技術は、物理的気相法(PVD)・化学的気相法(CVD)・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・EB蒸着・スパッタリング・ イオンプレーティ...(つづきを見る

  • 株式会社フェローテック 事業紹介 製品画像カタログあり

    気づき、改善し、そして幸せを追求する企業。フェローテック。

    【取扱製品】 ○磁性流体シール ○真空シール ○磁性流体 ○ロボットシール ○三次元ダンパ ○サーモモジュール ○太陽電池関連製品 ○石英製品 ○セラミックス ○CVDSiC製品 など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • ウエハ 開発サービス 製品画像カタログあり

    ELO(epitaxial lateral overgrowth)にも…

    当社では、GaN、Sapphire、SiC基板上へのMOCVDによるエピ成長に 対応できるウエハを開発しております。 高周波デバイスをはじめ、パワーデバイス、照明など 様々な用途にご利用頂けます。 ご要望の際はお気軽にご連絡ください。 【特...(つづきを見る

  • CLEARTRAN 硫化亜鉛 (ZnS)ウインドウ 製品画像カタログあり

    標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致し…

    ZnS)材料です。0.4umから12umの広い波長に対して透光性があり、同波長帯において低吸収・低散乱特性を有します。硫化亜鉛は、TECHSPEC ZnSe光学ウインドウと同様、化学気相成長法 (CVD法)を用いて作られる結晶材料で、サーマルイメージング用に共通して用いられます。可視域と赤外域における卓越した透過特性により、Cleartranは同波長に感度を持つ光電センサーを使用したシステムへの...(つづきを見る

  • 太陽電池製造用黒鉛製品 製品画像カタログあり

    再生可能エネルギーの一つとして期待される太陽電池。その製造工程で多くの…

    ー・その他各種パーツのライフアップ、炉の改造・大型化などご要望に応じた設計・技術提案を行います。 ●太陽電池セル製造用 シリコン結晶型太陽電池製造プロセスの一部である「反射防止膜成膜(PECVD)プロセス」、薄膜、化合物太陽電池セル製造プロセスにおいて 当社の等方性黒鉛製品・C/Cコンポジット製品が搬送用プレート、ジグなどに使用されています。 軽量化、ライフアップ、エネルギー効率...(つづきを見る

  • POC-VDC-RS232 製品画像

    RS232デバッグケーブル

    対応製品: POC-SOM-MX6評価キット/キャリアボード POC-SOM-AM33評価キット /キャリアボード...対応製品: POC-SOM-MX6評価キット/キャリアボード POC-SOM-AM33評価キット /キャリアボード...(つづきを見る

  • 鉄道車両のような激しい揺れ、振動にも強く緩まないチェーンクランプ 製品画像カタログあり

    ローコストタイプ NW16-63 一般のNW/KF規格配管に完全互換

    用のローコストタイプ ●極低温対応のアルミ+ナット付タイプをラインナップ ●超高温タイプは200℃まで対応可能 ●真空10-7Paまで使用可能 ●コストパフォーマンスが高く、ソーラー、LPCVD等に最適 ◆◇◆詳細は資料請求、またはカタログをご覧下さい◆◇◆...(つづきを見る

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