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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA
PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…
IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...
メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社
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半導体装置に最も適した材料!様々な用途で発揮されるソリッド SiC
ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD...
メーカー・取り扱い企業: 東海カーボン株式会社
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【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 様々なご提案!
【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案!】
こんなお困りごとはありませんか? 課題、用途に適した膜種、方式を提案 【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがあ...
メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
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電子グレードCVDダイヤモンド 市場概要
CVD(化学気相成長法): ダイヤモンド、炭素含有ガス(メタンなど)、水素の混合ガスを、標準大気圧より低い圧力と高温で励起・分解し、プラズマ炭素原子を形成し、基板上に堆積・交互に成長させる。多結晶ダイヤモンド(または、ダイヤモンド単結晶または準単結晶を析出・成長させるための制御された析出・成長条件)。CVDとはChemical Vapor Depositionの略で、化学気相成長法を用いて実験室で成長さ...
メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社
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液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!
『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社FLOSFIA
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2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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市場調査レポート『CVD/ALD/SOD誘電プリカーサ2023』
米国の半導体材料専門の調査会社が、CVD、ALD、SODアプリケーショ…
本レポートは、CVD/ALD誘電体およびSODプリカーサの市場および技術動向に関する情報を提供します。 過去20年間、半導体産業向けのALDおよびCVDプリカーサに関する多くの研究論文や特許が発表されています。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社データリソース
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プロセスの安定性を維持!誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置
当社の半導体における、回路形成「CVD(化学蒸着)」についてご紹介します。 化学蒸着は、ウェーハ上に誘電体および金属材料の ナノメートル厚の膜を配置。 このプロセスは非常に高温(800-2000℃)になるため、 デュブ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
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独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱…
超高純度で耐食性及び耐熱性に優れているSiCダミーウェハは、長期のリサイクル使用が可能で、LP-CVD、高温拡散、CMP工程にてご使用頂けます。 ◆コストダウンに貢献 ・長期のリサイクル使用が可能 ・超高純度で耐食性及び耐熱性に優れている ・長期使用頂く事で、シリコンウェハの節約...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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セミコンダクター、ディスプレイ、ソーラー&LEDに適用するダイシングブ…
当社が取り扱うEHWA社製の『ダイシングブレード』を紹介します。 基板への損傷を最小限に抑えた「CMP PAD CONDITIONER」をはじめ、 低費用で高い生産性を確保できる「CVD CMP PAD CONDITIONER」や 薄いWaferにも対応している「BACK GRINDING WHEEL」などをご用意しています。 【特長】 ■CMP PAD CONDITI...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラットコーポレーション 本社:営業部・業務部
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部材の高寿命化、パーティクルの抑制 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリ…
半導体製造工程でのドライエッチングやプラズマCVDプロセスでは腐食性の強いハロゲンガスを用いるため、チャンバー付近の部材に耐プラズマ性が要求されます。 耐プラズマ部材を使用することにより、部材の浸食を抑制し、パーティクル発生を低減します。 時...
メーカー・取り扱い企業: 時田シーブイディーシステムズ株式会社
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TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ
波形と周波数のフレキシビリティ!圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…
0(G2.1)シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD(PECVD)と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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炭化けい素セラミックス(TPSS)「高純度、高強度、高耐食性」
高純度、高強度、高耐食性を兼ね備えた半導体製造プロセスに欠かせない半導…
【特徴】 ・高温から低温プロセスまで幅広いユーザーニーズに対応 ・高純度、高強度、高耐食性 ・高温での使用が可能(~1350℃) ・パーティクル発生を抑制 製品の表面にCVD法により超高純度で緻密な炭化けい素膜をコーティングしたグレードも提供しており、特に、精密加工技術を取り入れたウェーハボートには定評があり、300mmウェーハプロセスの品質、歩留向上にも貢献していま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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プログラミング&デバッグ機能内蔵開発ボード!セキュアで信頼性の高いIo…
ートする スタンドアロンのWi-Fiモジュールです。 「WFI32E01PE」には、「PIC32MZW1シリーズ」が含まれており、Ethernet, CAN/CAN-FD, USB, CVD Touch 等の豊富なペリフェラルを搭載。 また、Azure、AWS、Google Cloud、プライベートクラウドへプロビジョニング 済のTrust&GOパッケージも搭載しており、セキ...
メーカー・取り扱い企業: グローバル電子株式会社
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優れた耐食性と物理特性がラインの信頼性を築きます!
CERASIC常圧焼結SiCセラミックスは耐磨耗・耐食性が要求される機械部品に最適な材料です。 半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められており、高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。 【特徴】 ・高強度 ・高耐摩耗性 ・高耐食性 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中!各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社