チェックしたものをまとめて:

  • CVD装置の製品画像ですカタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置の製品画像ですカタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • CVD合成ダイヤモンド

    CVD合成ダイヤモンド

    CVD法により合成された極めて高品質のダイヤモンド結晶が手頃な価格でご購入いただけます。単結晶、多結晶、ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜等、ご希望に応じた形態で提供させていただきます。...(つづきを見る

  • グラフェン開発用小型熱CVD 装置 SFCV シリーズカタログあり

    大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した…

    少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、 同時に大幅なコストダウンを実現しました。 また、従来小型では困難とされてきた5~100Pa での圧力コントロール機能を備え、 より多様な処理パターンに対応可能としました。 さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、 大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。 詳しくは、カタログをダウンロ...(つづきを見る

  • CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

    当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...(つづきを見る

  • デジタル膜厚計 SM1500D レンタル

    電磁式デジタル膜厚計 SM1500Dは、鉄素地上のライニング膜、溶射膜…

    ットアラーム機能(Alarm) 電磁式デジタル膜厚計 SM1500Dは、測定対象物の膜厚を上限値、下限値で設定可能。目標値よりも不足、またはオーバーしている場合にはアラーム音で警告します。 ・CVD磁極(CVD) 一点定圧式プローブの磁極は、超耐摩耗性のCVD処理磁極を採用。ハードな使用にも長時間、初期特性と高い再現性を維持します。 ・見やすいデジタル表示(Digital) 見やすい大...(つづきを見る

  • カタログあり

    エッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付プロセスモニ…

    Qulee RGM-202/RGM-302は、Qulee シリーズのエッチング、CVD 等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。 【仕様】 ○...(つづきを見る

  • 手のひらサイズの超コンパクトボディ!1極式現場用高性能膜厚計

    を非破壊測定する電磁式膜厚計です。 官公庁、試験場などの規格、基準、内規に適合しています。 【特長】 ■軽く、コンパクトなボディ ■カンタン操作 ■ワイドレンジ ■データ互換 ■CVD磁極 詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • カタログあり

    世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。

    ジカルを真空紫外吸収分光法を用いて  ダイレクトに計測し、プロセスにフィードバック可能 ○ICF70フランジに取付可能 ○各種プラズマ装置に取付可能 →EBEP処理装置、CCPエッチング/CVD、Cat-CVD、  ICPエッチング/CVD 等 ○真空排気系一体制御型モニタリングシステム等、システム構成は  お客様のニーズに対応 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧...(つづきを見る

  • ダイアモンド砥粒と基板の分子レベルでの強固な化学的結合を達成!CMPプ…

    Advanced Ceramics社のCMPプロセスで使用する表面がダイアモンドで覆われた独特の構造のパッドコンディショナーを提案致します。ダイアモンド砥粒をシリコン基板、あるいはセラミック基板にCVDコーティングした構造です。ダイアモンド砥粒と基板の分子レベルでの強固な化学的結合を達成しました。耐スラリー性も強く、スラリーによる化学的な侵食もありません。また、ダイアモンドの欠落、粉砕が一切なく...(つづきを見る

  • SCA-2011

    表面電荷分析装置

    表面電荷分析装置は、半導体前工程管理とりわけ熱酸化膜、CVD膜形成、メタライゼーション、洗浄及びエッチングなどプロセス中に生じた汚染とダメージのモニタリングに最適です。 ...ウェハー表面電荷量及び界面準位密度の測定   ■酸化膜工程    ・ウェハー汚染やプラズマ損傷による酸化膜中     電荷量の変化    ・熱ストレス等による界面準位密度の変化    ・窒化酸化膜中の固定電...(つづきを見る

  • カタログあり

    殺菌ランプ、殺菌灯、観賞用水槽の浄化作用、光CVD等からの紫外線測定に

    紫外線強度計「UVA-365」は、320~390nmの長波長紫外線(UV-A波)を測定。最大19.99mW/cm2まで測定可能なRS-232Cインターフェース対応。測定データを固定するデータホールド機能付。測定データの最大値・最小値呼出し機能付。オートパワーオフ機能付。セパレート式センサにより、離れた場所の測定が可能。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...【主な特長】...(つづきを見る

  • カタログあり

    殺菌ランプ、殺菌灯、観賞用水槽の浄化作用、光CVD等からの紫外線測定に

    紫外線強度計「UVC-254」は、254nmを中心とした短波長紫外線測定(UV-C波)を測定。最大19.99mW/cm2まで測定可能なRS-232Cインターフェース対応。測定データを固定するデータホールド機能付。測定データの最大値・最小値呼出し機能付。オートパワーオフ機能付。セパレート式センサにより、離れた場所の測定が可能。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください...【主な特...(つづきを見る

  • 真空熱電対製品画像カタログあり

    CVD等の真空装置内対象物温度測定用熱電対

    各種真空規格フランジを接続し、気密性を持たせた熱電対。Kタイプ(クラス2)、シース部SUS316もしくはインコネル。フランジサイズはICF34, ICF70, NW16, NW25, NW40。...【基本仕様】 ◉ JIS Kタイプ クラス2 ◉ シース材質 SUS316, Inconel600 ◉ シース径 0.5, 1.0, 1.5 ◉ フランジ ICF34, 70, NW16, 2...(つづきを見る

  • シャワーヘッド解析例カタログあり

    低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

    験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反...(つづきを見る

  • シャワーヘッド解析例カタログあり

    低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

    験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反...(つづきを見る

  • 電磁式デジタル膜厚計 SM-1500Dの製品画像ですカタログあり

    15mmまでの厚膜測定レンジを 分解能切り替えにより0.1mm/0.…

    足、またはオーバーしている場合にはアラーム音で警告 ■キーロック機能  測定中にロックボタンを押すと〔OFF〕キー以外の  全てのキーがロツクされ誤操作を防ぎ、本体機能を安全に保守 ■CVD磁極  1点定圧式プローブの磁極は、超耐摩耗性のCVD処理電極を採用  ハードな使用にも長期間、初期特性と高い再現性を維持 ■見やすいデジタル表示  見やすい大型LCD表示に拡大レン...(つづきを見る

  • 次世代温度計測器 の製品画像ですカタログあり

    今まで見えなかった温度変動が見える高速・高精度・多点同時によるあらたな…

    NX-3100およびNX-1200は、温度センサーメーカーであるネツシンが、自社の「白金抵抗温度計」の性能を引き出すことを目的に開発したもので「高速・高精度・多点同時計測」を実現した高性能な温度計測器です。 ...【特徴】 ●高速・高精度・多点同時で最大80チャンネルの温度計測  「高速・高精度・多点同時計測」の三大要素を全て同時に高次元で  実現しています。計測精度は計測温度範囲0〜50℃...(つづきを見る

  • 膜厚計 SWTシリーズの製品画像です(写真はオプションのプローブを接続)カタログあり

    接続プローブの差替えのみで鉄でも非鉄でも皮膜測定が可能!シンプルで抜群…

    測定用途に合わせて接続プローブを差し替えるだけで、「鉄」および「非鉄」の両金属素地上の皮膜を測定可能。特殊材料による超精密度加工磁極を採用し、従来のCVD処理磁極と併せてさらに測定精度が高まりました。膜厚測定のわかりやすさ、使いやすさに重点をおいた基本型と、多彩な機能を搭載した多機能型をご用意しております。一目で分かる大きな表示部に使いやすいキーレ...(つづきを見る

  • シャワーヘッド解析例カタログあり

    ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

    【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、  真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを  計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が...(つづきを見る

  • カタログあり

    無料プレゼント中!真空ポンプやクライオポンプなどを紹介しています。【ア…

    ータ ○リークディテクタ ○電源 ○膜厚・蒸着速度制御 ○真空機器構成部品 ○分子間相互作用解析装置/ソフトウェア/真空搬送系 ○スパッタリング装置 ○蒸着装置/巻取式蒸着装置 ○CVD装置/イオン注入装置 ○アッシング装置/自然酸化膜除去装置  エッチング装置/巻取式スパッタリング装置 ○研究開発用装置 ○分析装置 ○凍結真空乾燥装置 ○真空炉/真空蒸留装置/自動ヘ...(つづきを見る

  • カタログあり

    科学技術を通じて、責任ある開発と本質を追求することを目指しています。

    ○分析機器事業部 →EDS、WDS、EBSD →電子顕微鏡用各種付属装置 ○アサイラム リサーチ事業部 →AFM/SPM(原子間力顕微鏡) ○半導体製造装置事業部 →プラズマエッチングCVD装置 →イオンビームエッチング/デポジション装置 →原子層堆積装置(ALD) ○インダストリアル・アナリシス事業部 →XRF(蛍光X線分析計) →OES(スパーク放電固体発光分光計) ...(つづきを見る

  • F252カタログあり

    交流ブリッジ技術により理想的な温度計測が可能。優れた安定性。

    計測範囲: -200~962℃ 白金測温抵抗体の種類に依存 精度(温度): ±0.01℃以下(フルレンジ) 分解能: 0.001℃/0.0001Ω データ入力形式: ITS90係数、CVD係数、非校正プローブ用EN60751(DIN90) プローブ電流: 1mA 一定電流 プローブの種類: Pt100~EN60751 R0=100Ω(Pt100)と25Ω(Pt25)高アルファープ...(つづきを見る

  • カタログあり

    世界中で愛されるフロー、プレッシャ、レベル計測製品を掲載した総合カタロ…

    、面積流量計、圧力・真空製品を豊富なラインアップでご紹介しています。 【掲載製品の一例】 ■サーマルマスフローコントローラ/メーター GF40 / GF80シリーズ →ソーラー薄膜生成、CVD、その他工業用気体流量制御用途に最適 →エラストマまたはメタルシール →1秒台の高速セトリングタイム ■ガラス管面積式流量計 ショーレート流量計 1350/1355 →堅牢で高耐久性 →...(つづきを見る

  • CTR-2000 3

    パソコンにダイレクトに転送可能な電磁式膜厚計です。

    精度 均一面に対して±1μmまたは指示値の±2% 表示方式 LCDデジタル、16字×4行、英数、カナ、記号、ELバックライト付 プローブ 1点定圧接触式、Vカット付、φ13×50mm 磁極:CVD処理磁極 ...(つづきを見る

  • 標準校正器STD5000Mの製品画像ですカタログあり

    標準校正器STD5000M

    ・全部で6種類のファンクション (DCV/ACV/DCA/ACA/OHM/Hz)の校正が可能 ・90個の出力メモリ搭載で、任意の設定を記憶させることが可能 ...・全部で6種類のファンクション (DCV/ACV/DCA/ACA/OHM/Hz)の校正が可能 ・90個の出力メモリ搭載で、任意の設定を記憶させることが可能 ...(つづきを見る

  • 発光分光分析システムCrevPEMカタログあり

    業界初!リアルタイムでプラズマのバックグラウンドを分析!エンドポイント…

    大阪大学との産学共同開発で実現! 業界初の、リアルタイムでプラズマの連続スペクトルによるバックグラウンドを分析するシステムです。 これにより、リアルタイムで分子の変動を監視することができ、プローブ法より早く電子温度推測が可能になりました。 ターゲット分子は自由に設定できますので、プラズマだけでなく幅広い分野に応用可能です。 エンドポイントモニタとしての機能も搭載していますので、製造現場にも...(つづきを見る

  • デュアル表示 デジタルマルチメータ GDM-8255A/GDM-8251Aの製品画像ですカタログあり

    5-1/2桁デュアル表示 USB/RS-232C標準

    VFDデュアルディスプレイのデュアル表示 デジタルマルチメータです。...○カウント数  5 1/2桁 199999(GDM-8255A)、119999カウント(GDM-8251) ○測定  ACV、DCV、ACA、DCA、4/2wire R、Hz、  ダイオードテスト、導通テスト、温度(K、T、J)、REL ○機能  MAX/MIN、ホールド、リラティブ/コンペア、dBm、M...(つづきを見る

  • カタログあり

    高信頼設計の高性能高周波電源

    『T857シリーズ』は、オール・ソリッドステート・タイプの 高性能高周波電源です。 プラズマ・エッチング、RIE、プラズマCVD、RFスパッタリング等の 各種プラズマ処理に適します。 また、当シリーズの出力インピーダンスは公称50Ωですが、各種保護回路 により広範囲な負荷及びショート,オープン等の過酷な運用にも ...(つづきを見る

  • 隔膜式真空計(バラトロン真空計)の製品画像です

    150℃/200℃対応!バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

    物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドCVD、ALDなど、厳しい条件の半導体製造プロセス用真空計としての用途の他、バクテリア増殖を防止する目的で蒸気を用いる、凍結乾燥装置、滅菌装置などのバイオ製薬プロセスに最適です。 特徴 ●最小フ...(つづきを見る

  • カタログあり

    DLC・TiN等の硬質皮膜に有効!薄膜の密着強度を定量的に評価する装置

    000』は、DLCやTiN等の硬質皮膜やメッキ膜の基材と膜の密着強度を評価するスクラッチ試験機です。 成膜条件の選定や工程管理にご活用いただけます。 本試験機は、超硬合金などの金属面にPVD、CVDによって形成された硬質皮膜(Ti・TiN・SiC・DLC等)の密着強度(付着強度)の測定に優れた効果を発揮します。 機械部品、装飾品などや、耐久性の要求される切削工具や金型工具などのコーティング...(つづきを見る

  • 実験装置・自動制御装置のことなら当社にお任せください!

    】 ■理化学実験装置  ・レーザー照射用XYテーブル  ・真空加熱容器  ・精密真空熱重量測定装置  ・冷間炭材フィルタ実験装置  ・粉体製造装置  ・鉱炉模型実験装置  ・AL-CVD用真空装置  他 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • リフローシミュレーター(SRS-1C)/ビデオ観察システム(VDM-1) の製品画像です

    リフロー炉の様々な温度条件を再現・多方面から炉内を観察

    リフロー炉の様々な温度条件を再現しながら、 多方面から炉内を観察できる実験装置 ■□■特徴■□■ ■熱風と下面の遠赤加熱を併用することにより実際のリフロー炉に きわめて近い条件を再現することができる ■専用のソフトウェアでリフロー加熱条件の設定及び取得した プロファイルデータの解析を簡単に行える ■ビデオ観察システムを組み合わせる事により、はんだの 溶...(つづきを見る

  • PC700

    表示部はデュアル表示(電流値と周波数等)が可能で、別売オプションでパソ…

    別売オプションのデータ取込ソフト(PC LINK7)とUSB接続ケーブル(KB-USB7)でパソコンへデータ保存が可能です。またサンプリンレートも1秒間に5回と速い応答速度です。...・直流/交流電圧:999.9V ・直流/交流電流:10.00A ・抵抗:60MΩ ・コンデンサ容量:25.00mF ・周波数:15Hz~50kHz ・ロジック周波数:5~1.0MHz ・デューティー比:0...(つづきを見る

  • 「PRODUCTS GUIDE 2016」テルモセラ・ジャパン製品案内カタログあり

    電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、高温…

    □■掲載ラインナップ■□ ■MiniLabシリーズ薄膜実験装置 ■MiniLab超高温小型カーボン実験炉Max2900℃ ■nanoCVD卓上型グラフェン/CNT合成装置 ■nanoPVD卓上型スパッタリング装置 ■セラミックトップヒーター ■基板加熱ヒーター ■ホットステージ基板加熱機構 ■超高温ヒーターエレメント/超高...(つづきを見る

  • カタログあり

    5-1/2桁デュアル表示 USB/RS-232C標準

    低価格ながら多機能で高いスペクトラム解析能力をもっています。ベンチトップマルチメータです。...【特徴】 ○測定項目:DCV、ACV、DCA、ACA、4/2wire R、温度、周波数、Beep、導通テスト ○ファンクション:MAX/MIN、REL、dBm、コンペア、Math、Store/Recall、dB ○フィルタ機能 ○Auto/Manualレンジ切替 ○True RMS(AC、AC...(つづきを見る

  • NSTカタログあり

    優れたナノスクラッチ試験

    す。 有機系及び無機系のコーティングや、軟質及び硬質のコーティングの分析に使用できます。 光学用途から、マイクロエレクトロニクス用途、保護膜、装飾膜など様々な用途向けの、薄膜・多層膜のPVD・CVD・PECVD膜、フォトレジスト、塗装、ラッカーなどの膜の評価に利用できます。 金属合金、半導体、ガラス、反射材や有機材料を含む硬質あるいは軟質の基材も評価できます。...(つづきを見る

  • 真空放電試験装置の製品画像ですカタログあり

    コイル等の線材キズやピンホールなどの不良個所を目視検出する試験装置

    本装置は、 コンプレッサーモーター用ステータコイル等を、真空状態で耐圧試験器より電圧を印加して、線材キズやピンホールを目視で検出する試験装置であります。 透明なアクリル製の真空槽を使用することで、不良個所からの放電を目視にて容易に発見でき、従来は困難であった不良位置の特定がきわめて短時間に行えます。また、用途にあわせて測定器との組合せもご提案できますので、製品開発から出荷試験まで幅広くご利...(つづきを見る

  • 非接触温度センサー(-20~+300℃)

    装置組込・生産ライン・防災監視...■仕様 ・使用温度範囲 -10~70℃、90%RH以下で結露なきこと ・検出素子 サーモパイル ・光学系 レンズ有り(D:S 8:1) FOV:視野角14°(90%エネルギー) ・使用波長範囲 5.5~13.5μm (IR透過率52%) ・測定温度範囲 -20~+300℃ ・放射率 ε=0.95 ・精度定格(*1) FS×±2%、 又は...(つづきを見る

  • デジタルクランプメータ DCM2000DRの製品画像カタログあり

    CAT4 1000V対応 大口径多機能DC/ACクランプメータ

    ・「交流電流とその周波数」などの同時表示が可能なデュアル表示機能 ・ 最大AC2000A(真の実効値)まで測定可能 ・導体の通電/非通電を調べる電界検出機能搭載 ・ 可変周波数駆動(VFD)回路の測定に便利なLPF機能 ・ ゴースト電圧による影響を軽減できる低入力インピーダンス型ACV/DCV/Ω自動判別機能 ・ データホールド/レンジホールド/相対値測定/ピークホールド機能(5ms) ...(つづきを見る

  • IEI ICE-CV-D25502/N26002カタログあり

    COM Express Atom N2600/D2550搭載

    特徴 ■Atom N2600 1.6GHz/D2550 1.86GHz Dual Core CPU ■DDR3 FSB 800/1066MHz DDR3 SO-DIMM× 1 (D2550 1066MHz DDR3, 最大4GB)/ (N2600 800MHz DDR3, 最大2GB) ■18/24-bit single-channel LVDS, analog CRT ■2 GbE LA...(つづきを見る

  • IEI ICE-CV-D25501/N26001カタログあり

    COM Express Atom N2600/D2550搭載

    特徴 ■Atom N2600 1.6GHz/D2550 1.86GHz Dual Core CPU ■DDR3 FSB 800/1066MHz DDR3 SO-DIMM× 1 (D2550 1066MHz DDR3, 最大4GB)/ (N2600 800MHz DDR3, 最大2GB) ■18/24-bit single-channel LVDS, analog CRT and 2 x DD...(つづきを見る

  • IEI NANO-CV-D25502/N26002カタログあり

    EPIC SBC Atom D2550/N2600/N2800搭載

    特徴 ■Atom Dual Core D2550 1.86GHz/N2600 1.6GHz/N2800 1.86GHz CPU  ■DDR3 800/1066MHz DDR3 SO-DIMM× 1 (最大4GB) ■PCIe Miniカード × 2 ■LVDS (18ビット(N2600/N2800)/24ビット(D2550)) ■デュアルディスプレイ対応 ■2 GbE LAN / 4 ...(つづきを見る

  • IEI NANO-CV-D25501/N26001カタログあり

    EPIC シングルボードコンピュータ(SBC) Atom D2550/…

    特徴 ■Atom Dual Core D2550 1.86GHz/N2600 1.6GHz/N2800 1.86GHz CPU  ■DDR3 800/1066MHz DDR3 SO-DIMM× 1 (最大4GB) ■PCIe Miniカード × 2 ■LVDS (18ビット(N2600)/24ビット(D2550/N2600/N2800)) ■デュアルディスプレイ対応 ■2 GbE LA...(つづきを見る

  • IEI WAFER-CV-D25502/N26002カタログあり

    3.5" シングルボードコンピュータ(SBC) Atom D…

    特徴 ■Atom Dual Core D2550 1.86GHz/N2600 1.6GHz/N2800 1.86GHz CPU  ■On-board DDR3 1066MHz SDRAM 2GB  ■PCIe Miniカード × 1 / PCI-104 × 1 ■LVDS (18ビット(D2550)/24ビット(N2600/N2800)) ■デュアルディスプレイ対応 ■2 GbE LA...(つづきを見る

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