【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

書籍：プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構理解

■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■

電気回路、電磁気学、放電工学、流体力学、化学工学、表面科学… 様々な学問体系が絡み合う、複雑なプラズマCVDを「使いこなしたい！」と願う技術者・研究者へ ○「こういう膜質にしたい」という要望はあるものの、取るべき手段やその理由がわからない人に ○「この数値が関係しそうだ」と予想はつくが、実際には...

メーカー・取り扱い企業： サイエンス＆テクノロジー株式会社

レーザ技術による薄膜Si太陽電池の成膜法とプラズマCVD技術

★従来の透明導電膜と太陽電池層の作成法を完全に捨て 　原材料をガラス…

造出来る。また、現在普及している結晶型太陽電池に比べ、実際の発電出来る量が年間で10%以上も多く、環境負荷が少なく経済的な太陽電池と言える。当社は薄膜シリコン太陽電池の製造技術の中核であるプラズマCVD装置から開発し、世界に先駆けいち早く大面積の電池を市場に投入した。その実例等も併せて紹介する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

書籍【大気圧プラズマの生成制御と応用技術　改訂版】

大好評につき改訂版を発刊!新たな執筆者を加え、最新の大気圧プラズマ技術…

による 　新しい生体防御理論構築と,ヘルスバイオサイエンスへの経済学的考察　 第4 章　大気圧プラズマによる表面改質と洗浄 第5 章　大気圧プラズマによる膜形成 　第1 節　大気圧プラズマCVD によるシリコン薄膜の形成 　第2 節　大気圧プラズマCVD による酸化物堆積(※) 　第3 節　大気圧プラズマCVD による高ガスバリア性炭素膜の合成 第6 章　エッチング・加工技術 第...

メーカー・取り扱い企業： S&T出版株式会社

グラフェンから広がる二次元物質の新技術と応用

世界の動向、CVD合成、転写積層、量子物性、センサ・デバイス、THz応…

｢グラフェンから広がる二次元物質の新技術と応用 ～世界の動向、CVD合成、転写積層、量子物性、センサ・デバイス、THz応用～｣ ■発刊：2020年3月 ■定価：本体54,000円＋税 ■体裁：B5判558頁 ■監修：吾郷浩樹、齋藤理一郎 ■発行：(株...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エヌ・ティー・エス

ハイバリア蒸着フィルムの基礎と高機能化、開発例にみる特性比較

★真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術…

レトルト耐性、非金属性、環境対応性などが注目され現在大きな市場を形成しつつある。これら蒸着フィルムの特性、物性ならびに製造方法について説明し、併 て真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術や、従来のバッチ式真空蒸着機に代わる連続真空蒸着機についても、三菱重工で の開発経験をもとに詳しく説明する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

ハイバリア蒸着フィルムの基礎とコーティング技術、高機能化、開発例

真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術等…

レトルト耐性、非金属性、環境対応性などが注目され現在大きな市場を形成しつつある。これら蒸着フィルムの特性、物性ならびに製造方法について説明し、併 て真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術や、従来のバッチ式真空蒸着機に代わる連続真空蒸着機についても、三菱重工で の開発経験をもとに詳しく説明する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

硬質皮膜のコーティングで工具・金型の長寿命化！※基礎講座資料進呈

切削工具、金型、パンチ、部品類の長寿命化が実現！硬質皮膜をコーティング…

切削工具、金型、パンチ、部品類の耐久性でお困りはございませんか？ 材質・用途別に適したコーティングを行うことで長寿命化を実現することができます。 現在、PVD法（物理蒸着）、CVD法（化学蒸着）によるコーティング原理から、用途別の選定まで解説している 各種セラミックコーティングの基礎講座資料を進呈しております。 主なコーティング処理製品 ■超硬ドリル・超硬エンドミ...

メーカー・取り扱い企業： オーエスジー株式会社グループ

リチウム二次電池炭素系電極材の技術開発と充放電特性・高出力改善

★高いリチウム吸蔵放出容量を発揮できる炭素材料とは? ★負極材料の特…

の可能性について、各種技術データ等を踏まえた特徴と他負極材動向の中での位置づけ等を紹介し、今後の開発展望について述べさせて頂きます。 【講演主旨】 カーボンナノウォール(CNW)はプラズマCVD法によって基板に垂直に生成される新規ナノカーボン材料の一つである。CNWはナノグラファイトドメインから構成されている特異な構造をもつ。本講演では、CNWの生成法、および構造上の特徴について説明する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

注目の技術専門書一覧　＜化学・材料・エレクトロニクス・自動車＞

サイエンス＆テクノロジーの、注目の技術専門書一覧　＜化学・材料・エレク…

ジメント・空調技術 ■偏光板・位相差板 入門 ■押出成形の基本技術と現場での実践技術 ■真意を聞き出すアンケート設計と開発・評価事例 ■最新ディスプレイ技術トレンド 2018 ■プラズマCVDにおける成膜条件の最適化 ■セルロースナノファイバーの均一分散と複合化 ■マイクロLEDの製造技術と量産化への課題・開発動向 ■超親水・親油性表面の技術 ■狙いどおりの触覚・触感をつくる技...

メーカー・取り扱い企業： サイエンス＆テクノロジー株式会社

書籍【SiCパワーデバイス最新技術】

次世代パワーエレクトロニクスの大本命!

.SiCパワーデバイス用酸化膜の形成方法 第12章.SiCへの金属電極の形成方法 第13章.パワーデバイス用金属電極/SiCの界面反応組織と信頼性 第14章.SiCパワーデバイス量産に向けたCVD技術 第15章.SiCパワーデバイス超高温熱処理装置 第16章.SiCパワーデバイス用SIT ～21章...

メーカー・取り扱い企業： S&T出版株式会社

2020版 薄膜作製応用ハンドブック

｢21世紀版薄膜作製応用ハンドブック｣から17年、基礎を押さえつつ、新…

薄膜材料の磁気特性 　6章 薄膜材料の光学特性 　7章 薄膜材料の力学特性 　8章 薄膜材料の化学特性 第2編 薄膜の作製と加工 　1章 基板と表面処理 　2章 PVD法 　3章 CVD法 　4章 液相薄膜堆積法 　5章 有機・高分子・生体関連薄膜作製法 　6章 パターン化技術 　7章 薄膜の加工／改質技術 第3編 薄膜・表面・界面の分析・評価 　1章 薄膜・表面・界...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エヌ・ティー・エス

【書籍】透明導電膜有力材料の実力とプロセス技術、実用・製品化

より低コスト、高性能な透明導電膜を＜作る・使う＞ための最新技術集成

　ＣＮＴ　銀ナノワイ　PEDOT　…etc ◆ 高品質成膜、大面積、量産化目的に応じたプロセス技術 　水熱法　ソルボサーマル法　大面積・量産スパッタリング　ECRスパッタ法　RPD法　CVD法　　ロールtoロール　インクジェット法　塗布形成　エレクトロスプレーデポジション法　…etc ◆ 乾式・湿式に応じた成膜材料 　ターゲット　粉末・分散液　インク　ペースト　　…etc...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社情報機構

自動車用樹脂グレージングハードコート技術と高機能化市場・規格動向

★自動車グレージング実用化へのハードコーティング技術を網羅!! ★軽…

量化に寄与するグレージングの樹脂化について、ハードコートの耐摩耗性向上と機能付加に関わる各種取り組みについて紹介します。ハードコートの硬度を無機ガラスに近づけるための表面硬化技術としては、プラズマCVDにより硬質膜を成膜する方法が一般的ですが、これに対し光改質により硬質化を行う方法は、製品の大きさや形状に対応し易いこと、大気圧中で光を照射するだけで硬質膜が得られる等のメリットがあります。本講演で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

バリアフィルムの設計・製膜技術と透明性・バリア性向上

★透明性・バリア性を向上させるための低ダメージ製膜技術!? ★目的の…

L用封止膜では、透明性(トップエミッションの場合)、高バリア性、低温(90℃以下)、低ダメージ条件で形成する必要がある。これらの課題を満たす成膜法として高電子密度、低電子温度が特徴の表面波プラズマCVD法に注目し、SiN系バリア膜を成膜、評価した結果について紹介する。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech