チェックしたものをまとめて:

  • CVD装置の製品画像ですカタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置の製品画像ですカタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • 耐アルカリ性が向上!グラフェン膜で被覆された多孔質硝子

    『グラフェンで被覆したポーラスガラス』は、ポーラスガラスの表面をシリル化し、その後、加熱した有機ガスによって炭素被覆した(化学気相蒸着法;CVD)多孔質硝子です。 以上の方法でポーラスガラスの細孔表面をグラフェン膜で完全に覆うことができます。 板状のサンプルであれば、外表面から内部まで連続したグラフェン膜が形成しているため、硝...(つづきを見る

チェックしたものをまとめて:

3件中1〜3件を表示中

表示件数
45件
  • 1

※このキーワードに関連する製品情報が登録された場合にメールでお知らせします。

おすすめ関連情報

分類で絞り込む

分類で絞り込む

[-]