• 次世代コーティング技術『FUPC処理』【密着性と熱歪みを克服!】 製品画像

    PR密着強度の不満・熱歪みに伴う寸法精度の限界を解決します!高品質でコスト…

    CVD処理とPVD処理の弱点を解消し、コーティングの常識を変えた フジタ技研のオリジナル技術『FUPC処理』。 自社開発の処理装置による独自のプロセスにより、CVD処理特有の熱歪みにともなう寸法変化を極力抑制し、同時にPVD処理では不可能だった強力な密着性を実現しています。 【特徴】 ■TiNの欠点である低硬度を改良してTiCに近い硬度を持たせたコーティング ■FUPC-TiCN膜よ...(つづきを見る

  • 真空用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス 製品画像

    PRSiCおよびGaN製パワー半導体製造プロセスに対応。高温、真空、腐食性…

    更なる省エネルギー化やEVなどに不可欠なパワー半導体。 そのパワー半導体の製造プロセスに不可欠な機能部品は高温で腐食性雰囲気に耐える、 不純物を含まないなど厳しい条件を満足する必要があります。 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのCVD技術によるTaC部品、ヒータ、静電チャック、 PBN部品は高い耐熱性や耐腐食性を有し、他製品では実現が難しい急速昇降温・超高温を容易に実現できま...(つづきを見る

  • CVD装置 製品画像カタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置) 製品画像カタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • グラフェンで被覆したポーラスガラス 製品画像

    耐アルカリ性が向上!グラフェン膜で被覆された多孔質硝子

    『グラフェンで被覆したポーラスガラス』は、ポーラスガラスの表面をシリル化し、その後、加熱した有機ガスによって炭素被覆した(化学気相蒸着法;CVD)多孔質硝子です。 以上の方法でポーラスガラスの細孔表面をグラフェン膜で完全に覆うことができます。 板状のサンプルであれば、外表面から内部まで連続したグラフェン膜が形成しているため、硝...(つづきを見る

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