チェックしたものをまとめて:

  • Nuvo-7000E/P/DE Series

    PR第8世代インテル Core プロセッサ (Coffee Lake) 搭…

    ■特徴 ・メーカー:Neousys ・第8世代インテル Core プロセッサ (Coffee Lake) 搭載 ・GbE 最大x6搭載 ・PCIe/PCIカード追加可能な筐体(特許取得) ・MezIOインターフェース ・USB 3.1 Gen2 x4 ・USB 3.1 Gen1 x4 ・ファンレス(-25~70℃) ・VGA/DVI/DP トリプル出力(4K2K解像度サポート)...(つづきを見る

  • PRCL3規格対応!即納対応が可能な電子機器配線用マルチケーブル。

    『2464-CL3 VVC/VSVCシリーズ』は、米国電気工事基準(NEC)=NFPA70、及びNFPA79認証取得機器配線用です。 NEC規格に適合するUL13・CL3規格を取得したリスティングケーブルです。 半導体製造装置、自動車製造装置、工作機械などを含む産業機器全般の配線に使用され、 北米向けに出荷したい装置や、装置自体でULリスティング認証を受けていない装置などで使用可能です。...(つづきを見る

  • カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!

    『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...(つづきを見る

  • カタログあり

    半導体装置に最も適した材料!様々な用途で発揮されるソリッド SiC

    ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD...(つづきを見る

  • 各種デバイス材料販売及び各種薄膜受託加工の製品画像です

    各種デバイス材料販売及び各種薄膜受託加工

    ウェハー(シリコン,石英サファイア,その他) 各種薄膜成膜(熱酸化膜,PE-CVD,LP-CVD,AP-CVD スパッタ,蒸着) 洗浄,パターニング,エッチング(Dry,Wet) 各種熱処理 マイクロブラスト ダイシング メッキ その他特殊加工...(つづきを見る

  • カタログあり

    高温強度を必要とする場合や耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適

    Cセラミックス」は、高温強度を必要とする場合はもちろん、耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適な材料です。また、半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められています。高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。 ...(つづきを見る

  • ダイヤモンドを合成してみませんか。

    熱フィラメントCVDによるダイヤモンドの合成をお受けいたします。 金属並みの導電性をもった導電性ダイヤモンドの合成ができます。 受託成膜から装置販売まで幅広くご対応いたします。 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    TPSSは、高純度炭化ケイ素を主成分とする半導体関連材料です。

    【特長】 ○TPSS表面のCVD膜はLP-CVD工程で生成するデポ膜(SiN、Si等)と近似した熱膨張率をもつ ○デポ膜剥離によるパーティクルが減少 ○高純度、高強度、高耐食性など数多くの特性をもつ ○半導体熱処理炉用炉心...(つづきを見る

  • カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Rシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「R-200 エアオープンタイプ」をはじめ、 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじ...(つづきを見る

  • カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当社は、今後も洗練されたALD装置を提供してまいります。 ...(つづきを見る

  • 高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • 2周波励起絶縁膜用PCVD装置カタログあり

    微粒子からウエハ、フィルム、ボトル、シリンダーまで、薄膜成膜技術、成膜…

    もポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂のガスバリア膜・保護膜としての展開が進んでおります。 300mmウエハ対応のTSV側壁用の絶縁物成膜装置はGINTIでTSV Liner CVDとして使用されており、膜特性で高い評価を得ています。また同仕様の装置は電子デバイス製造会社での評価も高く、今後の3Dパッケージで活躍が期待されています。 高温下での成膜も当社の得意とするとこ...(つづきを見る

  • カタログあり

    常に新しい技術を開発し、顧客の信頼を獲得し高い生産性に貢献します

    ステム ■加工機  ・切断・面取装置  ・研磨装置  ・ポリッシング装置  ・研削盤  ・研削・研磨液リサイクルシステム  ・研磨材回収装置 ■ドライプロセス装置  ・成膜装置(CVD・スパッタ・蒸着)  ・アニール路(常圧・真空・加圧)  ・プラズマアッシャー  ・多段ホットプレート(HP)  ・多段クーリングプレート(CP)  ・IR乾燥炉・UV炉 など ※...(つづきを見る

  • カタログあり

    独自技術の厚膜熱酸化膜加工を利用し、厚いBOX層を有するSOIウェーハ…

    【仕様および対応表】 ■対応サイズ:4inch~12inch ■対応機種  ・拡散炉・CVD系  ・メタル膜系  ・コート膜系  ・その他の加工  ・パターン付ウェーハ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • カタログあり

    粉体対策ツールでお客様の多彩なご要求にお応えします

    クノスは、主に集塵機用カートリッジフィルターや粉体トラップ フィルターを取り扱っている会社です。 多彩な集塵機に適合する高性能フィルターを低価格にてご提供。 また、当社の表面処理技術は、CVDやドライエッチャーなどの排気ライン からチャンバーといったウェハープロセスまで、幅広い範囲でご利用 いただいています。 【取扱製品】 ■集塵機用カートリッジフィルター ■粉体トラップ...(つづきを見る

  • カタログあり

    1枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

    PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    気づき、改善し、そして幸せを追求する企業。フェローテック。

    【取扱製品】 ○磁性流体シール ○真空シール ○磁性流体 ○ロボットシール ○三次元ダンパ ○サーモモジュール ○太陽電池関連製品 ○石英製品 ○セラミックス ○CVDSiC製品 など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • カタログあり

    MOCVD装置の2nd化を推進!希少価値の高いReも材料仕入れから加工…

    MOCVD装置の2nd化を推進しているのと同時に、エンドユーザー市場で培った改造案もご提案させて頂きます。 また、希少価値の高いReも材料仕入れから加工まで請け負ってます。 【特長】 ○MOCVD...(つづきを見る

  • カタログあり

    再生可能エネルギーの一つとして期待される太陽電池。その製造工程で多くの…

    ー・その他各種パーツのライフアップ、炉の改造・大型化などご要望に応じた設計・技術提案を行います。 ●太陽電池セル製造用 シリコン結晶型太陽電池製造プロセスの一部である「反射防止膜成膜(PECVD)プロセス」、薄膜、化合物太陽電池セル製造プロセスにおいて 当社の等方性黒鉛製品・C/Cコンポジット製品が搬送用プレート、ジグなどに使用されています。 軽量化、ライフアップ、エネルギー効率...(つづきを見る

  • MoCVD法で製造したGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)をご…

    弊社のGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)は沢山の販売実績を重ねております。転位密度やXRD値など品質面や価格パフォーマンスでも高い競争力を確保しております。1枚からの研究開発用から数千枚の量産用までご対応可能でございます。 ...サイズ:Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み:3μm、4μm、指定可能 結晶構造:GaN膜・オン・サファイア基板 転位密度≦ 5x106/ ...(つづきを見る

  • 既存パーツの改造や特殊工具の製作など各消耗パーツ以外でも1個から製作を…

    弊社ではオン注入・PVD・CVD・エッチャー・CMPといった半導体製造の主に前工程の消耗パーツの製造や改造部品の製造を行っております。また、蒸着用のドームやヤトイ(ホルダー)の製作や液晶製造用成膜治具等の製作も行っております。 ...【特徴】 ○材料のみの販売も行います(希望サイズに切断を致します)。 ○主な加工材質:ステンレス(SUS)・チタン(Ti)・アルミニューム(AL)・銅(Cu...(つづきを見る

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    ローコストタイプ NW16-63 一般のNW/KF規格配管に完全互換

    用のローコストタイプ ●極低温対応のアルミ+ナット付タイプをラインナップ ●超高温タイプは200℃まで対応可能 ●真空10-7Paまで使用可能 ●コストパフォーマンスが高く、ソーラー、LPCVD等に最適 ◆◇◆詳細は資料請求、またはカタログをご覧下さい◆◇◆...(つづきを見る

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