• 水素フリーなど膜種も豊富な『DLCコーティング』 ※事例進呈 製品画像

    PR切削工具、金型、機械部品の磨耗・傷つき防止に!樹脂・ゴムに対応したタイ…

    当社の『DLCコーティング』は、高い耐摩耗性はもちろんのこと 回転・滑り・往復などの機械的相対運動に要求される特性を兼ね備え、 切削工具や金型、自動車部品、シール材などに幅広く適用可能。 摩擦抵抗を低減できる水素フリーの「ジニアスコートHA」や 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」など、 課題に合わせて選択できる様々な膜種をラインアップしています。 【用途例】 ...(つづきを見る

  • デジタルマルチメータ『GDM-9060/9061』 製品画像

    PR電圧・電流・抵抗・温度など12種類の基本測定機能を搭載。開発・設計から…

    『GDM-9060/9061』は、1,200,000カウントの6・1/2桁デジタルマルチメータです。 デュアルディスプレイ機能により、入力信号の2つの測定値を同時に表示可能。 電圧・電流・抵抗・温度・周波数・キャパシタンスなどの基本機能と 豊富な演算機能を使用することで、効率的かつ効果的な測定ができます。 インターフェースはUSB・LAN・RS-232Cを標準装備。 購入後もスロ...(つづきを見る

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • 超高純度CVD-SiC「ソリッド SiC」 製品画像カタログあり

    半導体装置に最も適した材料!様々な用途で発揮されるソリッド SiC

    ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD...(つづきを見る

  • 株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 製品画像カタログあり

    液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!

    『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...(つづきを見る

  • 【半導体】MOCVD 製品画像カタログあり

    MOCVD装置の2nd化を推進!希少価値の高いReも材料仕入れから加工…

    MOCVD装置の2nd化を推進しているのと同時に、エンドユーザー市場で培った改造案もご提案させて頂きます。 また、希少価値の高いReも材料仕入れから加工まで請け負ってます。 【特長】 ○MOCVD...(つづきを見る

  • GaNテンプレート(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド) 製品画像

    MoCVD法で製造したGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)をご…

    弊社のGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)は沢山の販売実績を重ねております。転位密度やXRD値など品質面や価格パフォーマンスでも高い競争力を確保しております。1枚からの研究開発用から数千枚の量産用までご対応可能でございます。 ...サイズ:Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み:3μm、4μm、指定可能 結晶構造:GaN膜・オン・サファイア基板 転位密度≦ 5x106/ ...(つづきを見る

  • CERASIC 常圧焼結SiCセラミックス 製品画像カタログあり

    高温強度を必要とする場合や耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適

    Cセラミックス」は、高温強度を必要とする場合はもちろん、耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適な材料です。また、半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められています。高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。 ...(つづきを見る

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像カタログあり

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...(つづきを見る

  • 導電性ダイヤモンドの受託成膜 製品画像

    ダイヤモンドを合成してみませんか。

    熱フィラメントCVDによるダイヤモンドの合成をお受けいたします。 金属並みの導電性をもった導電性ダイヤモンドの合成ができます。 受託成膜から装置販売まで幅広くご対応いたします。 ...(つづきを見る

  • DLC/酸化膜成膜装置・高温成膜装置・ドライ洗浄機 総合カタログ 製品画像カタログあり

    微粒子からウエハ、フィルム、ボトル、シリンダーまで、薄膜成膜技術、成膜…

    もポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂のガスバリア膜・保護膜としての展開が進んでおります。 300mmウエハ対応のTSV側壁用の絶縁物成膜装置はGINTIでTSV Liner CVDとして使用されており、膜特性で高い評価を得ています。また同仕様の装置は電子デバイス製造会社での評価も高く、今後の3Dパッケージで活躍が期待されています。 高温下での成膜も当社の得意とするとこ...(つづきを見る

  • TPSS 炭化けい素セラミックス 製品画像カタログあり

    TPSSは、高純度炭化ケイ素を主成分とする半導体関連材料です。

    【特長】 ○TPSS表面のCVD膜はLP-CVD工程で生成するデポ膜(SiN、Si等)と近似した熱膨張率をもつ ○デポ膜剥離によるパーティクルが減少 ○高純度、高強度、高耐食性など数多くの特性をもつ ○半導体熱処理炉用炉心...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Pシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Rシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Rシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「R-200 エアオープンタイプ」をはじめ、 ...(つづきを見る

  • ガラス基板などへの対応可 成膜加工(PVD) 製品画像カタログあり

    1枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

    PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • 株式会社テクノス 事業紹介 製品画像カタログあり

    粉体対策ツールでお客様の多彩なご要求にお応えします

    クノスは、主に集塵機用カートリッジフィルターや粉体トラップ フィルターを取り扱っている会社です。 多彩な集塵機に適合する高性能フィルターを低価格にてご提供。 また、当社の表面処理技術は、CVDやドライエッチャーなどの排気ライン からチャンバーといったウェハープロセスまで、幅広い範囲でご利用 いただいています。 【取扱製品】 ■集塵機用カートリッジフィルター ■粉体トラップ...(つづきを見る

  • 石英ガラス サーマルプロセス用製品 製品画像カタログあり

    新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に応える半導体製品をご提供…

    当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材...(つづきを見る

  • 株式会社SGC 非鉄金属部品製作 製品画像

    既存パーツの改造や特殊工具の製作など各消耗パーツ以外でも1個から製作を…

    弊社ではオン注入・PVD・CVD・エッチャー・CMPといった半導体製造の主に前工程の消耗パーツの製造や改造部品の製造を行っております。また、蒸着用のドームやヤトイ(ホルダー)の製作や液晶製造用成膜治具等の製作も行っております。 ...【特徴】 ○材料のみの販売も行います(希望サイズに切断を致します)。 ○主な加工材質:ステンレス(SUS)・チタン(Ti)・アルミニューム(AL)・銅(Cu...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...(つづきを見る

  • PICOSUN JAPAN 株式会社 会社紹介 製品画像カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当社は、今後も洗練されたALD装置を提供してまいります。 ...(つづきを見る

  • SKエンジニアリング株式会社 事業紹介 製品画像カタログあり

    常に新しい技術を開発し、顧客の信頼を獲得し高い生産性に貢献します

    ステム ■加工機  ・切断・面取装置  ・研磨装置  ・ポリッシング装置  ・研削盤  ・研削・研磨液リサイクルシステム  ・研磨材回収装置 ■ドライプロセス装置  ・成膜装置(CVD・スパッタ・蒸着)  ・アニール路(常圧・真空・加圧)  ・プラズマアッシャー  ・多段ホットプレート(HP)  ・多段クーリングプレート(CP)  ・IR乾燥炉・UV炉 など ※...(つづきを見る

  • SOIウェーハ『Thick-BOX SOI』【厚いBOX層!】 製品画像カタログあり

    独自技術の厚膜熱酸化膜加工を利用し、厚いBOX層を有するSOIウェーハ…

    【仕様および対応表】 ■対応サイズ:4inch~12inch ■対応機種  ・拡散炉・CVD系  ・メタル膜系  ・コート膜系  ・その他の加工  ・パターン付ウェーハ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • 株式会社フェローテック 事業紹介 製品画像カタログあり

    気づき、改善し、そして幸せを追求する企業。フェローテック。

    【取扱製品】 ○磁性流体シール ○真空シール ○磁性流体 ○ロボットシール ○三次元ダンパ ○サーモモジュール ○太陽電池関連製品 ○石英製品 ○セラミックス ○CVDSiC製品 など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • 太陽電池製造用黒鉛製品 製品画像カタログあり

    再生可能エネルギーの一つとして期待される太陽電池。その製造工程で多くの…

    ー・その他各種パーツのライフアップ、炉の改造・大型化などご要望に応じた設計・技術提案を行います。 ●太陽電池セル製造用 シリコン結晶型太陽電池製造プロセスの一部である「反射防止膜成膜(PECVD)プロセス」、薄膜、化合物太陽電池セル製造プロセスにおいて 当社の等方性黒鉛製品・C/Cコンポジット製品が搬送用プレート、ジグなどに使用されています。 軽量化、ライフアップ、エネルギー効率...(つづきを見る

  • 鉄道車両のような激しい揺れ、振動にも強く緩まないチェーンクランプ 製品画像カタログあり

    ローコストタイプ NW16-63 一般のNW/KF規格配管に完全互換

    用のローコストタイプ ●極低温対応のアルミ+ナット付タイプをラインナップ ●超高温タイプは200℃まで対応可能 ●真空10-7Paまで使用可能 ●コストパフォーマンスが高く、ソーラー、LPCVD等に最適 ◆◇◆詳細は資料請求、またはカタログをご覧下さい◆◇◆...(つづきを見る

  • 4Gb/s 1310nm FP Laser Diode 製品画像カタログあり

    4Gb/s 1310nm FP Laser Diode – LC TO…

    『FP-1310-4I-LCx』はMOCVD法による1310nm帯InAlGaAsリッジレーダイオードになります。 データレート4Gb/sまでのデータコムやテレコム用途の光源として適当です。...(つづきを見る

  • 5Gb/s 1310nm FP Laser Diode 製品画像カタログあり

    5Gb/s 1310nm FP Laser Diode – Pigta…

    『FP-1310-5I-xxx』はMOCVD法による1310nm帯InAlGaAsリッジレーダイオードになります。 データレート5Gb/sまでのデータコムやテレコム用途の光源として適当です。...(つづきを見る

  • 高性能シングルチップ MDIN-270/275 製品画像

    高性能シングルチップ MDIN-270/275

    高画質を維持したままプログレシッブ画像や インタレース画像を相互に変換できる Macro Image Technology社製のシングルチップ 【特徴】 ○デインターレース機能搭載 ○SD-Video/SXGA変換可能 ○SDRAM搭載、CVBSエンコーダー可能 ○Macro Image Technology社独自のiMARVテクノロジーにより  高性能アップコンバーターを実...(つづきを見る

  • 解像度変換LSI『IP00C821』 製品画像カタログあり

    2K対応!2画面入力PiP出力IP変換・解像度変換・歪補正・エッジブレ…

    『IP00C821』は、2ch の独立した画像の拡大 / 縮小及び IP 変換エンジンに加え、 1ch の画像歪補正 ( ワーピング ) 及びエッジブレンディングエンジンを 内蔵した多機能 LSI です。 2 系統の画像入力に対し、それぞれ独立して拡大、縮小、IP 変換を実行、 PiP/PoP 表示ができます。 さらに、CPU,LVDS Tx,ビデオデコーダ,USB,Ethern...(つづきを見る

  • IP変換/解像度変換LSI『IP00C812B』 製品画像カタログあり

    様々な画像変形機能を搭載!3D対応2ch入出力IP変換/解像度変換LS…

    『IP00C812B』は、2chの独立した入出力、拡大/縮小及びIP変換エンジンを内蔵し、 3DやPiP,PoPなどの2画面表示を実現するIP変換・解像度変換LSIです。 入出力とも1080P/WUXGA/2K1Kまでのプログレッシブ及び1080iまでの インタレースに対応しています。 CPU、LVDSTx、VideoDec、Ethernet、USB等の機能を内蔵し部品点数の 削...(つづきを見る

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